[發明專利]一種基板制作方法、平臺和基板

有效

• 申請號: 201410384175.7
• 申請日: 2014-08-06
• 公開（公告）號: CN104166311B
• 公開（公告）日: 2019-02-26
• 發明（設計）人: 方群;查長軍;汪棟;郭楊辰
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16;G03F7/20;G02F1/13
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;黃燦

本發明提供了一種基板制作方法、平臺和基板，所述方法包括用光刻膠在基板上形成預定圖案的步驟，在基板上形成預定圖案之前，所述方法包括：通過介質生成裝置生成作用介質；利用生成的所述作用介質通過遮擋裝置的透光區域作用在所述基板上，使得所述基板在第一區域對所述光刻膠的附著力高于在第二區域對所述光刻膠的附著力；其中，所述第一區域為所述基板上需要形成預定圖案的區域，所述第二區域為所述基板上需要形成預定圖案之外的區域。本發明使得光刻膠在基板不同區域上的附著力存在差異，降低顯影強度，進而提高基板圖案的邊緣直線型和圖案上表面的平坦度。

技術領域

本發明涉及液晶領域，尤其涉及一種基板制作方法、平臺和基板。

背景技術

目前的基板制作工藝主要包括：清洗—涂布—曝光—顯影。

其中清洗主要指通過大氣壓等離子體(Atmospheric-Pressure Plasma，APP)方式對基板表面進行處理，水洗干燥等。目前APP主要有以下兩種方法:

<方式一>臭氧氧化處理方式

這種方式主要是利用APP設備電離出臭氧離子，通過臭氧離子對基板上表面進行掃描試的氧化處理；再用去離子水或藥液進行沖洗，洗去玻璃表面的氧化物和油漬。

<方式二>紫外線UV照射表面處理方式

如圖1所示，基板1按圖1中箭頭所示的方向通過產生紫外線的UV掃描桿2。

以上兩種方法都是對整張基板表面進行處理。主要目的是去除基板表面的氧化物，以及增大玻璃表面和光刻膠之間的接觸附著力。

但是無論采用臭氧氧化處理還是UV照射方式對基板進行清洗，都是對整張玻璃基板的表面進行了處理。在后續顯影時，光刻膠需要洗掉的部分和需要留在玻璃基板上的部分對玻璃的附著力是一樣的，這樣會造成需要比較大的顯影強度，進而使得基板圖案的邊緣直線型和圖案上表面的平坦度均變得比較差。本發明主要是針對UV照射方式提出的解決方案。

發明內容

本發明的目的是提供一種基板制作方法、平臺和基板，使得光刻膠在基板不同區域上的附著力存在差異，降低顯影強度，進而提高基板圖案的邊緣直線型和圖案上表面的平坦度。

為了實現上述目的，本發明實施例提供了一種基板制作方法，所述方法包括用光刻膠在基板上形成預定圖案的步驟，在基板上形成預定圖案之前，所述方法包括：

通過介質生成裝置生成作用介質；

利用生成的所述作用介質通過遮擋裝置的透光區域作用在所述基板上，使得所述基板在第一區域對所述光刻膠的附著力高于在第二區域對所述光刻膠的附著力；其中，所述第一區域為所述基板上需要形成預定圖案的區域，所述第二區域為所述基板上需要形成預定圖案之外的區域。

上述的基板制作方法，其中，所述遮擋裝置為掩膜板。

上述的基板制作方法，其中，所述作用介質為紫外線；

所述利用生成的所述作用介質通過遮擋裝置的透光區域作用在所述基板上具體為：

利用生成的紫外線通過掩膜板的透光區域照射在所述基板上。

上述的基板制作方法，其中，所述遮擋裝置的透光區域與所述第一區域相對應。

上述的基板制作方法，其中，所述遮擋裝置的遮光區域與所述第二區域相對應。

上述的基板制作方法，其中，所述基板為彩膜基板。

在彩膜基板制作過程中，可以直接利用光刻膠形成預定圖案的有色像素或黑矩陣。因此，適用于本發明提供的上述方法。

上述的基板制作方法，其中，所述基板為陣列基板。