[發(fā)明專利]一種基板制作方法、平臺(tái)和基板

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410384175.7
• 申請(qǐng)日: 2014-08-06
• 公開（公告）號(hào): CN104166311B
• 公開（公告）日: 2019-02-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 方群;查長(zhǎng)軍;汪棟;郭楊辰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/16
• 分類號(hào): G03F7/16;G03F7/20;G02F1/13
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;黃燦

1.一種基板制作方法，所述方法包括用光刻膠在基底上形成預(yù)定圖案的步驟，其特征在于，在基底上形成預(yù)定圖案之前，所述方法包括：

通過介質(zhì)生成裝置生成作用介質(zhì)；

利用生成的所述作用介質(zhì)通過遮擋裝置的透光區(qū)域作用在所述基底上，使得所述基底在第一區(qū)域?qū)λ龉饪棠z的附著力高于在第二區(qū)域?qū)λ龉饪棠z的附著力；其中，所述第一區(qū)域?yàn)樗龌咨闲枰纬深A(yù)定圖案的區(qū)域，所述第二區(qū)域?yàn)樗龌咨闲枰纬深A(yù)定圖案之外的區(qū)域。

2.如權(quán)利要求1所述的基板制作方法，其特征在于，所述遮擋裝置為掩膜板。

3.如權(quán)利要求2所述的基板制作方法，其特征在于，所述作用介質(zhì)為紫外線；

所述利用生成的所述作用介質(zhì)通過遮擋裝置的透光區(qū)域作用在所述基底上具體為：

利用生成的紫外線通過掩膜板的透光區(qū)域照射在所述基底上。

4.如權(quán)利要求3所述的基板制作方法，其特征在于，所述遮擋裝置的透光區(qū)域與所述第一區(qū)域相對(duì)應(yīng)。

5.如權(quán)利要求3所述的基板制作方法，其特征在于，所述遮擋裝置的遮光區(qū)域與所述第二區(qū)域相對(duì)應(yīng)。

6.如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的基板制作方法，其特征在于，所述基板為彩膜基板。

7.如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的基板制作方法，其特征在于，所述基板為陣列基板。

8.一種使用權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的基板制作方法制作的基板。