[發(fā)明專利]抗反射結(jié)構(gòu)及電子裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410383559.7
• 申請日: 2014-08-05
• 公開（公告）號: CN105319614A
• 公開（公告）日: 2016-02-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 柯泰年;陳奕君;陳柏元;李昀軒;周家筠
• 申請（專利權(quán)）人: 群創(chuàng)光電股份有限公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 陳小雯

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種光學(xué)結(jié)構(gòu)，且特別是涉及一種抗反射結(jié)構(gòu)，其適用于如顯示器及太陽能電池等多種電子裝置的應(yīng)用，用于提供抗反射(anti-reflection)與抗污(anti-smudge)等功能。

背景技術(shù)

當(dāng)于明亮的環(huán)境光環(huán)境下使用如移動電話的電子裝置時(shí)，在屏幕的環(huán)境光的反射情形具有極大的破壞性，進(jìn)而使得使用者難以閱讀屏幕上的內(nèi)容。除了上述情形外，環(huán)境光的反射可以發(fā)生在許多其它的電子裝置的受光表面，例如是電視、顯示器或太陽能電池等其它電子裝置的表面處，進(jìn)而造成了使用者的不方便閱讀情形或更為劣化電子裝置的電性操作表現(xiàn)。

因此，在傳統(tǒng)技術(shù)中，一般采用了抗反射涂層(anti-reflectioncoating)技術(shù)以解決上述的環(huán)境光的反射問題。抗反射涂層技術(shù)通常于一真空腔室之內(nèi)涂布一層或一層以上的抗反射薄膜涂層于一透光基板的表面上，以用于減少光反射的破壞性干擾情形。然而，由于抗反射涂層通常形成于接觸外界環(huán)境的一基板表面上，因此抗反射涂層通常具有較差的機(jī)械特性，故于長時(shí)間的使用后，容易受到環(huán)境中的臟污以及使用者的操作的影響，而造成抗反射涂層的毀損與污損等不良情形而影響了整體裝置的使用壽命。因此，便需要機(jī)械強(qiáng)度較強(qiáng)且抗臟污的一種抗反射結(jié)構(gòu)。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述問題，本發(fā)明提供了一種抗反射結(jié)構(gòu)，包括：一基板，包括一平坦部以及設(shè)置于該平坦部上的一凸出部，其中該凸出部與該平坦部為一體成形的；以及一涂層，設(shè)置于該基板上，順應(yīng)地覆蓋該凸出部與該平坦部。

依據(jù)又一實(shí)施例，本發(fā)明提供了一種電子裝置，包括：一第一基板；一第二基板，設(shè)置于該第一基板上；以及一液晶層、一觸碰感測層或一光電轉(zhuǎn)換組件，設(shè)置于該第一基板與該第二基板之間，其中該第二基板包括前述的該抗反射結(jié)構(gòu)。

為讓本發(fā)明的上述目的、特征及優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉一優(yōu)選實(shí)施例，并配合所附的附圖，作詳細(xì)說明如下。

附圖說明

圖1-圖4為一系列剖面示意圖，顯示了依據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的一種抗反射結(jié)構(gòu)的制造方法；

圖5為一剖面示意圖，顯示了依據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的一種抗反射結(jié)構(gòu)；

圖6為一剖面示意圖，顯示了依據(jù)本發(fā)明的又一實(shí)施例的一種抗反射結(jié)構(gòu)；

圖7為一剖面示意圖，顯示了依據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的一種電子裝置，其應(yīng)用了如圖4內(nèi)所示的抗反射結(jié)構(gòu)；

圖8為一剖面示意圖，顯示了依據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的一種電子裝置，其應(yīng)用了如圖4內(nèi)所示的抗反射結(jié)構(gòu)；

圖9為一剖面示意圖，顯示了依據(jù)本發(fā)明的又一實(shí)施例的一種電子裝置，其應(yīng)用了如圖4內(nèi)所示的抗反射結(jié)構(gòu)；以及

圖10為一剖面示意圖，顯示了依據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的一種電子裝置，其應(yīng)用了如圖4內(nèi)所示的抗反射結(jié)構(gòu)。

符號說明

100～基板

100’～基板

100a～平坦部

100b～凸出部

101a～第一凸出部

101b～第二凸出部

101c～第三凸出部

102～球體

104～蝕刻制作工藝

106～涂層

200、300、400、500～電子裝置

210～第一基板

220～液晶層

230～彩色濾光層

240～第二基板

310～第一基板

320～液晶層

330～觸控組件

340～彩色濾光層

350～第三基板

360～第二基板

380～空間

402～第二基板

404～透明導(dǎo)電層

406～p型非晶硅層

408～本征非晶硅層

410～n型非晶硅層

412～電極層

414～第一基板

450～光電轉(zhuǎn)換組件

502～第一基板

504～觸碰感測層

506～第二基板

D1～直徑/寬度

D2～直徑/寬度

D3～直徑/寬度

H1～高度

H2～高度

H3～高度

具體實(shí)施方式

請參照圖1-圖4的一系列剖面示意圖，以顯示了依據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的一種抗反射結(jié)構(gòu)的制造方法。