[發明專利]感光基板的曝光方法

在審

• 申請號: 201410382647.5
• 申請日: 2014-08-06
• 公開（公告）號: CN105334701A
• 公開（公告）日: 2016-02-17
• 發明（設計）人: 周坤麟;何立克
• 申請（專利權）人: 敘豐企業股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市浩天知識產權代理事務所(普通合伙) 11276
• 代理人: 宋菲;劉云貴

技術領域

本發明涉及一種感光基板的曝光方法，尤其涉及一種可使感光基板均勻曝光的感光基板的曝光方法。

背景技術

現今的印刷電路板被廣泛地應用于電子設備或電子裝置，且為制成印刷電路板上的電路，曝光機因此被開發而加入制程的行列。然而，一般的曝光機的各個發光體所產生的光線強度不均，致使這些發光體照射感光基板時常使得感光基板曝光不均勻。因此，如何研發出一種感光基板的曝光方法，以使其可使感光基板均勻曝光，將是本發明所欲積極揭露之處。

發明內容

有鑒于上述現有技術之缺憾，發明人有感其未臻于完善，遂竭其心智悉心研究克服，進而研發出一種感光基板的曝光方法，以期達到可使感光基板均勻曝光的目的。

為達上述目的及其他目的，本發明提供一種感光基板的曝光方法，其包含下列步驟：(S1)提供平面發光源，其具有至少三個發光體；(S2)提供底片，面向該平面發光源的照射面；(S3)提供感光基板，貼合該底片且面向該照射面，該底片位于該照射面與該感光基板之間；以及(S4)使該平面發光源在其所在平面相對于該底片及該感光基板做平移，或使該底片及該感光基板在其所在平面相對于該平面發光源做平移。

上述的感光基板的曝光方法中，該平移為來回的平移或二維的平移，該二維的平移為S形的平移、U形的平移或圓形的平移。

上述的感光基板的曝光方法中，這些發光體均具有第一透鏡、第二透鏡、發光源及間距可調式座體，該第一透鏡及該第二透鏡分別設置于該間距可調式座體的頂部及底部，該第二透鏡設置于該第一透鏡及該發光源之間，該發光源發射的光線依序經由該第二透鏡及該第一透鏡后向外發射平行光。

上述的感光基板的曝光方法中，這些發光體呈矩陣排列或交錯排列。

上述的感光基板的曝光方法中，該步驟(S1)中，再提供一平面反射鏡；該步驟(S2)中，該底片借由該平面反射鏡面向該平面發光源的照射面；該步驟(S3)中，該感光基板貼合該底片且借由該平面反射鏡面向該照射面，該底片位于該平面反射鏡與該感光基板之間。

上述的感光基板的曝光方法中，這些發光體均具有發光二極管(Light-EmittingDiode,LED)。

上述的感光基板的曝光方法中，這些發光體均發射紫外光。

借此，本發明的感光基板的曝光方法可使感光基板均勻曝光。

附圖說明

圖1為本發明具體實施例步驟的示意圖。

圖2為本發明具體實施例平面發光源照射強度的示意圖。

圖3為本發明具體實施例感光基板吸收能量的示意圖。

圖4為本發明具體實施例發光體的立體示意圖。

圖5為本發明具體實施例發光體的剖面示意圖。

圖6為本發明具體實施例發光體交錯排列的示意圖。

圖7為本發明具體實施例配置平面反射鏡的示意圖。

主要部件附圖標記：

S1～S4步驟

1平面發光源

11發光體

111第一透鏡

112第二透鏡

113發光源

114間距可調式座體

115散熱鰭片組

12照射面

2底片

3感光基板

4平面反射鏡

具體實施方式

為充分了解本發明的目的、特征及技術效果，茲由下述具體實施例，并結合附圖，對本發明做詳細說明，說明如下：

圖1至圖3分別為本發明具體實施例步驟的示意圖、平面發光源照射強度的示意圖及感光基板吸收能量的示意圖，如圖所示，本發明提供一種感光基板的曝光方法，其包含下列步驟：

步驟S1.提供平面發光源1，其具有至少三個發光體11，這些發光體11排列于xy平面上；

步驟S2.提供底片2，面向該平面發光源1的照射面12，該底片2具有欲曝光至感光基板3的電路圖；

步驟S3.提供感光基板3，貼合該底片2且面向該照射面12，該底片2位于該照射面12與該感光基板3之間，圖中顯示該平面發光源1在下，該底片2及該感光基板3在上，然而該平面發光源1、該底片2及該感光基板3的位置亦可依實際所需在上下、左右或前后的位置上做變換，只要該底片2位于該照射面12與該感光基板3之間即可；以及