[發(fā)明專利]感光基板的曝光方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410382647.5
• 申請日: 2014-08-06
• 公開（公告）號: CN105334701A
• 公開（公告）日: 2016-02-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周坤麟;何立克
• 申請（專利權(quán)）人: 敘豐企業(yè)股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市浩天知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11276
• 代理人: 宋菲;劉云貴

1.一種感光基板的曝光方法，其特征在于，包含下列步驟：

S1.提供平面發(fā)光源，其具有至少三個發(fā)光體；

S2.提供底片，面向該平面發(fā)光源的照射面；

S3.提供感光基板，貼合該底片且面向該照射面，該底片位于該照射面與該感光基板之間；以及

S4.使該平面發(fā)光源在其所在平面相對于該底片及該感光基板做平移，或使該底片及該感光基板在其所在平面相對于該平面發(fā)光源做平移。

2.如權(quán)利要求1所述的感光基板的曝光方法，其特征在于，該平移為來回的平移或二維的平移，該二維的平移為S形的平移、U形的平移或圓形的平移。

3.如權(quán)利要求1所述的感光基板的曝光方法，其特征在于，這些發(fā)光體均具有第一透鏡、第二透鏡、發(fā)光源及間距可調(diào)式座體，該第一透鏡及該第二透鏡分別設(shè)置于該間距可調(diào)式座體的頂部及底部，該第二透鏡設(shè)置于該第一透鏡及該發(fā)光源之間，該發(fā)光源發(fā)射的光線依序經(jīng)由該第二透鏡及該第一透鏡后向外發(fā)射平行光。

4.如權(quán)利要求1所述的感光基板的曝光方法，其特征在于，這些發(fā)光體呈矩陣排列或交錯排列。

5.如權(quán)利要求1所述的感光基板的曝光方法，其特征在于，該步驟S1中，再提供一平面反射鏡；該步驟S2中，該底片借由該平面反射鏡面向該平面發(fā)光源的照射面；該步驟S3中，該感光基板貼合該底片且借由該平面反射鏡面向該照射面，該底片位于該平面反射鏡與該感光基板之間。

6.如權(quán)利要求1所述的感光基板的曝光方法，其特征在于，這些發(fā)光體均具有發(fā)光二極管。

7.如權(quán)利要求1所述的感光基板的曝光方法，其特征在于，這些發(fā)光體均發(fā)射紫外光。