[發(fā)明專利]靜態(tài)存儲(chǔ)器的在線失效分析方法及在線電子束檢測(cè)設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410377359.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-08-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104103542B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 倪棋梁;陳宏璘;龍吟;郭明升 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/66 | 分類號(hào): | H01L21/66 |
| 代理公司: | 上海天辰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吳世華;林彥之 |
| 地址: | 201210 上海市浦*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 靜態(tài) 存儲(chǔ)器 在線 失效 分析 方法 電子束 檢測(cè) 設(shè)備 | ||
本發(fā)明提供了一種靜態(tài)存儲(chǔ)器的在線失效分析方法和在線電子束檢測(cè)設(shè)備,包括:將不同類型的探針安裝到在線電子束檢測(cè)設(shè)備的腔體中;將晶圓置于在線電子束檢測(cè)設(shè)備的腔體中;利用在線電子束檢測(cè)設(shè)備對(duì)接觸孔進(jìn)行掃描并獲得靜態(tài)存儲(chǔ)器中接觸孔的圖像信息;根據(jù)接觸孔的圖像信息找出產(chǎn)生缺陷的接觸孔;根據(jù)產(chǎn)生缺陷的接觸孔的類型來(lái)選擇與之相對(duì)應(yīng)的探針;在線電子束檢測(cè)設(shè)備控制所選擇的探針與相應(yīng)的產(chǎn)生缺陷的接觸孔相接觸,并進(jìn)行電性能檢測(cè);根據(jù)產(chǎn)生缺陷的接觸孔在靜態(tài)存儲(chǔ)器單元中的功能,在線電子束檢測(cè)設(shè)備將探針進(jìn)行組合來(lái)檢測(cè)功能并進(jìn)行失效分析;檢測(cè)到功能失效,則產(chǎn)生缺陷的接觸孔是導(dǎo)致靜態(tài)存儲(chǔ)器失效的原因。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種靜態(tài)存儲(chǔ)器的在線失效分析方法及一種在線電子束檢測(cè)設(shè)備。
背景技術(shù)
集成電路制造工藝簡(jiǎn)單來(lái)講就是通過(guò)物理和化學(xué)的方法將電路圖形轉(zhuǎn)移到硅片上,一個(gè)功能完整的芯片從其功能區(qū)域可包含有邏輯運(yùn)算區(qū),靜態(tài)存儲(chǔ)器區(qū),和周圍電路連線等。其中靜態(tài)存儲(chǔ)器是整個(gè)芯片上電路密度最高的區(qū)域,制造工藝上的一些細(xì)微偏差就會(huì)導(dǎo)致整個(gè)靜態(tài)存儲(chǔ)器的失效。
請(qǐng)參閱圖1,為接觸孔形成后的晶圓的結(jié)構(gòu)示意圖,圖1中,左邊表示PMOS,右邊表示NMOS。接觸孔形成之后,利用在線電子束檢測(cè)設(shè)備對(duì)接觸孔進(jìn)行掃描并判斷哪個(gè)接觸孔有缺陷,如圖2所示,為采用在線電子束檢測(cè)設(shè)備進(jìn)行掃描得到的接觸孔影像圖,圖中,虛線框框住的為產(chǎn)生缺陷的接觸孔,其本應(yīng)該為較暗的孔,卻異常的顯示為亮孔。
然而,雖然能夠利用在線電子束檢測(cè)設(shè)備檢測(cè)出接觸孔是否具有缺陷,但是對(duì)導(dǎo)致缺陷的原因卻很難檢測(cè)出,一是因?yàn)閷?dǎo)致接觸孔產(chǎn)生缺陷的原因較多,二是因?yàn)楝F(xiàn)有的檢測(cè)設(shè)備也不能檢測(cè)出,甚至用分辨率極高的透射電子顯微鏡也很難看到導(dǎo)致缺陷產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)缺陷。
再者,目前對(duì)靜態(tài)存儲(chǔ)器檢測(cè)的階段是在最終器件形成之后的線下納米級(jí)檢測(cè)(offline nano-probing),由于需要對(duì)失效地址進(jìn)行定位,因此,線下納米級(jí)檢測(cè)在操作方面非常困難。并且,采用線下納米級(jí)檢測(cè)來(lái)分析產(chǎn)生缺陷的原因是缺乏時(shí)效性的,即便檢測(cè)出哪些接觸孔出現(xiàn)問(wèn)題也不能及時(shí)補(bǔ)救,只能將器件報(bào)廢,從而造成嚴(yán)重的浪費(fèi)。
那么如何能在生產(chǎn)的過(guò)程中準(zhǔn)確及時(shí)地檢測(cè)出產(chǎn)生缺陷的接觸孔,在可以充分收集證據(jù)的前提下來(lái)判斷器件失效的模式,從而找出器件失效的原因,并以此及時(shí)修正工藝參數(shù)條件,則可以避免晶圓的浪費(fèi),這對(duì)于制造工藝的調(diào)整和優(yōu)化都十分的重要。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服以上問(wèn)題,本發(fā)明旨在提供一種靜態(tài)存儲(chǔ)器的在線失效分析方法和在線電子束檢測(cè)設(shè)備,以期在器件的制備過(guò)程中及時(shí)發(fā)現(xiàn)出現(xiàn)缺陷的接觸孔,并可以搜集充分的證據(jù)來(lái)準(zhǔn)確地找出產(chǎn)生缺陷的原因,從而及時(shí)對(duì)工藝參數(shù)條件作出修正,避免晶圓的浪費(fèi)。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種靜態(tài)存儲(chǔ)器的在線失效分析方法,其中,利用在線電子束檢測(cè)設(shè)備對(duì)所述靜態(tài)存儲(chǔ)器進(jìn)行在線失效分析,所述在線電子束檢測(cè)設(shè)備具有一腔體,其包括:
將不同類型的探針安裝到在線電子束檢測(cè)設(shè)備的腔體中;
在晶圓上的靜態(tài)存儲(chǔ)器上制備出接觸孔后,將所述晶圓置于在線電子束檢測(cè)設(shè)備的腔體中;
利用在線電子束檢測(cè)設(shè)備對(duì)所述接觸孔進(jìn)行掃描并獲得所述靜態(tài)存儲(chǔ)器中所述接觸孔的圖像信息;
根據(jù)所述接觸孔的圖像信息找出產(chǎn)生缺陷的接觸孔;
根據(jù)所述產(chǎn)生缺陷的接觸孔的類型來(lái)選擇與之相對(duì)應(yīng)的所述探針;
所述在線電子束檢測(cè)設(shè)備控制所選擇的探針與相應(yīng)的所述產(chǎn)生缺陷的接觸孔相接觸,并進(jìn)行電性能檢測(cè);
根據(jù)所述產(chǎn)生缺陷的接觸孔在所述靜態(tài)存儲(chǔ)器單元中的功能,所述在線電子束檢測(cè)設(shè)備將所述探針進(jìn)行組合來(lái)檢測(cè)所述功能并進(jìn)行失效分析;
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H01L21-64 .非專門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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