[發明專利]光學防偽元件及具有該光學防偽元件的防偽產品有效
| 申請號: | 201410377283.1 | 申請日: | 2014-08-01 |
| 公開(公告)號: | CN105291630B | 公開(公告)日: | 2017-01-25 |
| 發明(設計)人: | 張寶利;朱軍;王曉利 | 申請(專利權)人: | 中鈔特種防偽科技有限公司;中國印鈔造幣總公司 |
| 主分類號: | B42D25/30 | 分類號: | B42D25/30;B42D25/324;B42D25/328;B42D25/40 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產權代理有限公司11283 | 代理人: | 陳瀟瀟,肖冰濱 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 防偽 元件 具有 產品 | ||
技術領域
本發明涉及一種光學防偽元件及具有該光學防偽元件的防偽產品。
背景技術
為了防止利用掃描和復印等手段產生的偽造,鈔票、證卡和產品包裝等各類高安全或高附加值印刷品中廣泛采用了全息防偽技術作為光學防偽技術的解決方案,并且取得了非常好的效果。
上世紀末,隨著計算機科學和圖像處理技術的發展,全息防偽技術進入了數字化發展的時代,其中最重要的成果之一,就是數字技術成功的應用于合成全息圖的制作。全息攝影技術、計算機控制系統、空間光調制設備、圖像處理技術等多種技術和設備的綜合利用,使得自動化拍攝“點陣”全息圖成為可能,數字合成全息圖應運而生,如何制作大視場、全視差的數字全息圖成為世界各國全息防偽技術研究的熱點之一。
在制作大視場、全視差的數字全息圖的過程中,涉及到將多幅圖像合成這一步驟。合成的過程通常為將多幅圖像重疊或將它們以點陣網格的形式分割并穿插在同一區域,其中后者在制作大視場、全視差“點陣”全息圖時較為常用,但是在合成的過程中不可避免地會因必須將各幅圖像“分割”才能共同“穿插”在同一區域,因此存在圖像信息的丟失,從而影響最終合成的大視場、全視差“點陣”全息圖的圖像清晰度、對比度,進而影響產品的防偽能力。
如果將現有的合成全息圖中主題圖案與其背景分開來分析,那么現有的合成全息圖中常采用將主題圖及背景整體賦予相同亮度而采用不同的顏色,或將圖案賦予一定亮度而背景空白,然而不論采用以上兩種處理辦法中的任何一種,主題圖案都無法避免在多幅含有主題圖案的圖像的“分割”、“穿插”合成的過程中一定程度上喪失清晰度和對比度。這一缺陷帶來的影響在將被合成圖像的幅數增加的過程中會愈發嚴重。因此,在實際應用中常常只在一個維度上制作合成的立體全息圖(例如類似現行的萬事達信用卡上的全息燙印標志的全息文字),以避免上述問題。
發明內容
為克服上述的技術缺陷,本發明的目的是采用特定的方法將全視差合成“點陣”全息圖的圖像及其背景的區域分別進行優化,使所得圖像具有較高的清晰度和對比度,從而形成具有高防偽能力的光學防偽元件。如果進一步講本發明所述光學防偽元件增加單層或多層鍍層,將使本發明的光學防偽元件具有更豐富的顏色特征和更高的防偽能力。
為了實現上述目的,本發明的一個方面提供一種光學防偽元件,包括:基材;位于所述基材上的表面浮雕結構層;以及位于所述表面浮雕結構層上的鍍層;其中,所述表面浮雕結構層由多個組元疊加形成,每一個組元包括平坦區和由多個光柵單元形成的浮雕結構區,任意兩個組元中的任意光柵單元不共位,任意兩個組元中的光柵單元的參數不相同,以及任意兩個組元中的平坦區不完全重疊,從而實現全視差圖像。
本發明的另一個方面提供一種具有上述光學防偽元件的防偽產品。
本發明的其他特征和優點將在隨后的具體實施方式部分予以詳細說明。
附圖說明
附圖是用來提供對本發明的進一步理解,并且構成說明書的一部分,與下面的具體實施方式一起用于解釋本發明,但并不構成對本發明的限制。在附圖中:
圖1(a)為根據本發明的一個實施方式的光學防偽元件的剖面圖;
圖1(b)-(j)為特定光源下各角度觀察到的光學防偽元件的圖像、組元和光柵單元的情況;
圖2(a)-(i)為根據本發明的另一個實施方式的光學防偽元件在特定光源下各角度觀察到的光學防偽元件的圖像、組元和光柵單元的情況;
圖3為根據本發明的光學防偽元件的表面浮雕結構為衍射級別的閃耀光柵時的元件剖面圖;
圖4(a)示出了根據本發明的光學防偽元件中表面浮雕結構為非衍射閃耀光柵時的元件剖面圖;
圖4(b)-(j)為特定光源下各角度觀察到的光學防偽元件的圖像、組元和光柵單元的情況;
圖5(a)是為獲得同向動感而設定的光學防偽元件在特定光源下各角度觀察到的光學防偽元件的圖像、組元和光柵單元的情況;
圖5(b)是為了獲得反向動感而設定的光學防偽元件在特定光源下各角度觀察到的光學防偽元件的圖像、組元和光柵單元的情況;
圖6為當采用物體的各個角度下的側面的圖像信息作為所述組元的各個圖像內容時,所形成的具有全視差的立體特征圖案的實施方式;
圖7是為獲得的具有放縮特征的全視差圖案特征的實施方式中光學防偽元件在特定光源下各角度觀察到的光學防偽元件的圖像、組元和光柵單元的情況;
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