[發(fā)明專利]光學(xué)防偽元件及具有該光學(xué)防偽元件的防偽產(chǎn)品

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410377283.1
• 申請(qǐng)日: 2014-08-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105291630B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-01-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張寶利;朱軍;王曉利
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中鈔特種防偽科技有限公司;中國(guó)印鈔造幣總公司
• 主分類號(hào): B42D25/30
• 分類號(hào): B42D25/30;B42D25/324;B42D25/328;B42D25/40
• 代理公司: 北京潤(rùn)平知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11283
• 代理人: 陳瀟瀟,肖冰濱

1.一種光學(xué)防偽元件，包括：

基材；

位于所述基材上的表面浮雕結(jié)構(gòu)層；以及

位于所述表面浮雕結(jié)構(gòu)層上的鍍層；

其中，所述表面浮雕結(jié)構(gòu)層由多個(gè)組元疊加形成，每一個(gè)組元包括平坦區(qū)和由多個(gè)光柵單元形成的浮雕結(jié)構(gòu)區(qū)，任意兩個(gè)組元中的任意光柵單元不共位，任意兩個(gè)組元中的光柵單元的參數(shù)不同，以及任意兩個(gè)組元中的平坦區(qū)不完全重疊。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述多個(gè)組元中的每個(gè)組元中的光柵單元的參數(shù)大致相同。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述平坦區(qū)為圖案區(qū)，所述浮雕結(jié)構(gòu)區(qū)為背景區(qū)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述光柵單元是以下的至少一者：鋸齒光柵、正弦光柵、矩形光柵。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述光柵單元的面積比所述表面浮雕結(jié)構(gòu)層的面積小至少一個(gè)數(shù)量級(jí)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述參數(shù)包括光柵的形狀、周期、深度、取向中的至少一者。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述多個(gè)組元分別對(duì)應(yīng)于不同的觀察角度。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述多個(gè)組元中的平坦區(qū)的形狀和/或尺寸相同。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述鍍層包括以下鍍層中的任意一種或組合：?jiǎn)螌咏饘馘儗?；多層金屬鍍層；由吸收層、低折射率介質(zhì)層和反射層依次堆疊形成的鍍層，其中該反射層或吸收層與所述表面浮雕結(jié)構(gòu)層相接觸；高折射率介質(zhì)層鍍層；由高折射率介質(zhì)層、低折射率介質(zhì)層和高折射率介質(zhì)層依次堆疊形成的多介質(zhì)層鍍層；以及由吸收層、高折射率介質(zhì)層和反射層依次堆疊形成的鍍層，其中，該反射層或吸收層與所述表面浮雕結(jié)構(gòu)層相接觸。

10.一種具有根據(jù)權(quán)利要求1至9中任意一項(xiàng)所述的光學(xué)防偽元件的防偽產(chǎn)品。