[發(fā)明專利]顯示設備及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410366681.3 | 申請日: | 2014-07-29 | 
| 公開(公告)號: | CN104347816A | 公開(公告)日: | 2015-02-11 | 
| 發(fā)明(設計)人: | 張龍圭;鄭倉龍 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 | 
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56 | 
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204 | 代理人: | 王達佐;陰亮 | 
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 設備 及其 制造 方法 | ||
相關申請
本申請要求于2013年8月1日向韓國知識產權局提交的第10-2013-0091582號韓國專利申請的權益,所述申請的公開內容以援引方式整體并入本文。
背景
1.領域
本發(fā)明涉及顯示設備及其制造方法。
2.相關技術描述
顯示設備可以包括顯示單元,其包括發(fā)射層并由此可以是自發(fā)射的。顯示單元可能需要與顯示設備周圍的環(huán)境充分分開。例如,有機發(fā)光顯示設備可以包括有機發(fā)光裝置,其包括空穴注入電極、電子注入電極和布置在所述電極之間并配置為發(fā)光的有機發(fā)射層。有機發(fā)光裝置可能需要被密封以免于有機發(fā)光顯示設備周圍的環(huán)境中的水分、氧等。
概述
本發(fā)明的實施方案可以涉及顯示裝置(例如,有機發(fā)光顯示設備),其包括顯示單元并具有用于有效保護所述顯示單元免于水分的封裝結構。本發(fā)明的實施方案可以涉及用于制造所述顯示裝置的方法。
本發(fā)明的實施方案可以涉及可包括襯底的顯示設備。所述顯示設備可以還包括顯示單元,其包括發(fā)射層(例如,有機發(fā)光層)并布置在所述襯底上。顯示設備可以還包括重疊所述顯示單元的第一保護層。所述顯示設備可以還包括布置在所述顯示單元與所述第一保護層之間的第一有機層。所述第一有機層的表面積可以等于或小于所述第一保護層的表面積。
所述第一有機層的頂表面積可以基本等于所述第一保護層的頂表面積。
第一有機層的側表面可以與第一保護層的側表面齊平和/或與第一保護層的側表面對齊。
第一保護層可以由可包括硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiOx)和鋁氧化物(Al2O3)中至少之一的材料形成。
顯示設備可以包括覆蓋第一保護層的第一無機層。
所述第一無機層可以直接接觸所述襯底、所述第一保護層和所述第一有機層。
所述第一保護層可以不直接接觸襯底。
所述第一保護層的頂表面積可以小于所述第一無機層的頂表面積。
所述顯示設備可以包括第二無機層,其可以重疊所述第一無機層。所述顯示設備可以還包括布置在所述第一無機層與所述第二無機層之間的第二有機層。
所述顯示設備可以包括布置在所述第二無機層與所述第二有機層之間的第二保護層。第二無機層可以直接接觸所述第一無機層、所述第二有機層和所述第二保護層。
所述顯示設備可以包括布置在所述顯示單元與所述第一有機層之間的金屬層。
所述金屬層接觸所述第一有機層的至少兩個表面。所述兩個表面可以彼此呈小于180度的角。
所述金屬層可以包含鋰氟化物(LiF)和鋁氧化物(AlOx)中至少之一。
本發(fā)明的實施方案可以涉及可包括以下部件的顯示設備:襯底;包括發(fā)射層并布置在所述襯底上的顯示單元;覆蓋所述顯示單元的無機層;布置在所述顯示單元與所述無機層之間的保護層;以及布置在所述顯示單元與所述保護層之間的有機層。所述無機層可以接觸所述保護層和所述有機層。
本發(fā)明的實施方案可以涉及制造顯示設備的方法。所述方法可以包括以下步驟:在襯底上形成顯示單元,所述顯示單元包括發(fā)射層;形成重疊所述顯示單元和所述襯底的第一有機材料層;形成覆蓋所述第一有機材料層的第一部分而不覆蓋所述第一有機材料層的第二部分的第一保護層;以及將所述第一保護層用作掩膜來除去所述第一有機材料層的第二部分,從而形成第一有機層,所述第一有機層對應于所述第一有機材料層的第一部分,其中所述顯示設備包括所述第一保護層。
所述方法可以包括以下步驟:形成第一無機層,以使所述第一無機層與所述襯底和所述第一保護層接觸,其中所述第一保護層和所述第一有機層可以布置在所述襯底與所述第一無機層之間。
所述方法可以包括以下步驟:在所述第一無機層上形成第二有機材料層;形成第二保護層,所述第二保護層覆蓋所述第二有機材料層的第一部分而不覆蓋所述第二有機材料層的第二部分;以及將所述第二保護層用作掩膜來除去所述第二有機材料層的第二部分,從而形成第二有機層,所述第二有機層對應于所述第二有機材料層的第一部分,其中所述顯示設備包括所述第二保護層。
所述方法可以包括以下步驟:形成第二無機層,所述第二無機層接觸所述第一無機層和所述第二保護層,其中所述第二保護層和所述第二有機層可以布置在所述第一無機層與所述第二無機層之間。
所述方法可以包括以下步驟:在形成所述第一有機材料層的步驟之前,形成覆蓋所述顯示單元的金屬層。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





