[發明專利]顯示設備及其制造方法

在審

• 申請號: 201410366681.3
• 申請日: 2014-07-29
• 公開（公告）號: CN104347816A
• 公開（公告）日: 2015-02-11
• 發明（設計）人: 張龍圭;鄭倉龍
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204
• 代理人: 王達佐;陰亮

1.顯示設備，其包括：

襯底；

包括發射層并布置在所述襯底上的顯示單元；

重疊所述顯示單元的第一保護層；以及

布置在所述顯示單元與所述第一保護層之間的第一有機層，其中所述第一有機層的頂表面積等于或小于所述第一保護層的頂表面積。

2.如權利要求1所述的顯示設備，其中所述第一有機層的頂表面積等于所述第一保護層的頂表面積。

3.如權利要求1所述的顯示設備，其中所述第一有機層的側表面與所述第一保護層的側表面齊平。

4.如權利要求1所述的顯示設備，其中所述第一保護層包含硅氮化物(SiN_x)、硅氧化物(SiO_x)和鋁氧化物(Al₂O₃)中至少之一。

5.如權利要求1所述的顯示設備，其還包括覆蓋所述第一保護層的第一無機層。

6.如權利要求5所述的顯示設備，其中所述第一無機層接觸所述襯底和所述第一保護層。

7.如權利要求6所述的顯示設備，其中所述第一保護層不直接接觸所述襯底。

8.如權利要求5所述的顯示設備，其中所述第一保護層的頂表面積小于所述第一無機層的頂表面積。

9.如權利要求5所述的顯示設備，其還包括：

重疊所述第一無機層的第二無機層；以及

布置在所述第一無機層與所述第二無機層之間的第二有機層。

10.如權利要求9所述的顯示設備，其還包括布置在所述第二無機層與所述第二有機層之間的第二保護層，其中所述第二無機層接觸所述第一無機層和所述第二保護層。

11.如權利要求1所述的顯示設備，其還包括布置在所述顯示單元與所述第一有機層之間的金屬層。

12.如權利要求11所述的顯示設備，其中所述金屬層接觸所述第一有機層的至少兩個表面。

13.如權利要求11所述的顯示設備，其中所述金屬層包含鋰氟化物(LiF)和鋁氧化物(AlO_x)中至少之一。

14.顯示設備，其包括：

襯底；

包括發射層并布置在所述襯底上的顯示單元；

覆蓋所述顯示單元的無機層；

布置在所述顯示單元與所述無機層之間的保護層；以及

布置在所述顯示單元與所述保護層之間的有機層，

其中所述無機層接觸所述保護層和所述有機層。

15.制造顯示裝置的方法，所述方法包括：

在襯底上形成顯示單元，所述顯示單元包括發射層；

形成重疊所述顯示單元和所述襯底的第一有機材料層；

形成覆蓋所述第一有機材料層的第一部分而不覆蓋所述第一有機材料層的第二部分的第一保護層；以及

將所述第一保護層用作掩膜來除去所述第一有機材料層的所述第二部分以形成第一有機層，所述第一有機層對應于所述第一有機材料層的所述第一部分，其中所述顯示設備包括第一保護層。

16.如權利要求15所述的方法，其還包括：形成第一無機層，使所述第一無機層接觸所述襯底和所述第一保護層，其中所述第一保護層和所述第一有機層布置在所述襯底與所述第一無機層之間。

17.如權利要求16所述的方法，其還包括：

在所述第一無機層上形成第二有機材料層；

形成第二保護層，所述第二保護層覆蓋所述第二有機材料層的第一部分而不覆蓋所述第二有機材料層的第二部分；以及

將所述第二保護層用作掩膜來除去所述第二有機材料層的所述第二部分以形成第二有機層，所述第二有機層對應于所述第二有機材料層的所述第一部分，其中所述顯示設備包括所述第二保護層。

18.如權利要求17所述的方法，其還包括：形成第二無機層，所述第二無機層接觸所述第一無機層和所述第二保護層，其中所述第二保護層和所述第二有機層布置在所述第一無機層與所述第二無機層之間。

19.如權利要求15所述的方法，其還包括：在形成所述第一有機材料層之前，形成覆蓋所述顯示單元的金屬層。

20.如權利要求19所述的方法，其中所述金屬層接觸所述顯示單元的至少兩個側面。