[發明專利]TSV圓片級封裝MEMS芯片的失效分析裝置及其分析方法有效
| 申請號: | 201410363956.8 | 申請日: | 2014-07-25 |
| 公開(公告)號: | CN104124183A | 公開(公告)日: | 2014-10-29 |
| 發明(設計)人: | 華亞平 | 申請(專利權)人: | 安徽北方芯動聯科微系統技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66 |
| 代理公司: | 蚌埠鼎力專利商標事務所有限公司 34102 | 代理人: | 王琪;牛濤 |
| 地址: | 233042*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | tsv 圓片級 封裝 mems 芯片 失效 分析 裝置 及其 方法 | ||
1.TSV圓片級封裝MEMS芯片的失效分析裝置,其特征在于:它由自帶光源的顯微鏡、反光盒和探針系統組成;
所述反光盒由頂部開口的外殼、反光鏡和透明玻璃組成,反光鏡包括兩個互成90°角的左反光鏡和右反光鏡,左反光鏡和右反光鏡都是鏡面朝上地置于外殼中,左反光鏡和右反光鏡與外殼底面夾角都為45°,透明玻璃覆蓋在外殼頂部開口處,透明玻璃與外殼底面相平行;
所述探針系統包括探針、探針臂和可移動的探針座,探針通過探針臂與探針座連接,探針上連接導線,導線與測試裝置或電源連接;
所述反光盒置于顯微鏡的載物臺上,反光盒外殼的底面與載物臺平行,顯微鏡的物鏡位于反光盒上方。
2.根據權利要求1所述的TSV圓片級封裝MEMS芯片的失效分析裝置,其特征在于:所述的反光盒還包括一對定位塊,定位塊位于透明玻璃上表面上。
3.根據權利要求1或2所述的TSV圓片級封裝MEMS芯片的失效分析裝置,其特征在于:所述透明玻璃上相對于待分析MEMS芯片的位置處有凹腔。
4.如權利要求1或2所述的TSV圓片級封裝MEMS芯片的失效分析裝置,其特征在于:所述透明玻璃上有光線通過的地方有透光孔。
5.根據權利要求4所述的TSV圓片級封裝MEMS芯片的失效分析裝置,其特征在于:所述透明玻璃上相對于待分析MEMS芯片的位置處有臺階。
6.根據權利要求1或2所述的TSV圓片級封裝MEMS芯片的失效分析裝置,其特征在于:所述的探針座置于顯微鏡載物臺上。
7.根據權利要求1或2所述的TSV圓片級封裝MEMS芯片的失效分析裝置,其特征在于:所述探針系統還包括探針臺,探針臺與顯微鏡的載物臺分離,所述探針座置于探針臺上。
8.TSV圓片級封裝MEMS芯片的失效分析方法,具體步驟為:
(1)除去TSV圓片級封裝MEMS芯片的底板,露出MEMS結構,得到待分析MEMS芯片;
(2)顯微鏡使用小倍率物鏡,打開顯微鏡光源,調節顯微鏡焦距,將待分析MEMS芯片按壓焊塊朝上、MEMS結構朝下的方式固定在物鏡視場邊緣,從顯微鏡的觀察下將探針扎入待分析MEMS芯片的壓焊塊上;
(3)將小倍率物鏡切換為大倍率物鏡,調節顯微鏡焦距,使入射光照射在待分析MEMS芯片的MEMS結構上,同時MEMS結構反射的反射光返回物鏡,通過探針上的導線向MEMS結構輸入激勵電壓,觀察或記錄MEMS結構的運動情況來分析MEMS器件的失效機理。
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
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H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





