[發明專利]一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭無效
| 申請號： | 201410357765.0 | 申請日： | 2014-07-25 |
| 公開（公告）號： | CN104087901A | 公開（公告）日： | 2014-10-08 |
| 發明（設計）人： | 韓永全 | 申請（專利權）人： | 浙江博海金屬制品科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/32 | 分類號： | C23C14/32;C23C14/06 |
| 代理公司： | 湖州金衛知識產權代理事務所(普通合伙) 33232 | 代理人： | 裴金華 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州市德*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 真空 離子鍍 接頭 | ||
【權利要求書】：
1.一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，包括靶體（1），其特征在于：所述靶體（1）上一體連接基座（2），所述基座（2）內開設一凹孔（3），凹孔（3）側壁上設置內螺紋（31）；所述基座（2）上開設凹陷部（21）。
2.按權利要求1所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于：所述凹陷部（21）在基座（2）與靶體（1）的連接處設置并且致使基座（2）的表面傾斜。
3.按權利要求2所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于：所述凹陷部（21）的橫截面為三角形。
4.按權利要求1所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于：所述凹陷部（21）在基座（2）與靶體（1）的連接處設置并且致使基座（2）的外表面呈圓弧形。
5.按權利要求4所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于：所述凹陷部（21）的橫截面為矩形。
6.按權利要求3或5所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于：所述凹陷部（21）以基座（2）的中心軸為中心線，圓周陣列分布。
7.按權利要求6所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于：所述靶體（1）為圓臺形。
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