[發(fā)明專利]一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410357765.0 | 申請(qǐng)日： | 2014-07-25 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN104087901A | 公開（公告）日： | 2014-10-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 韓永全 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 浙江博海金屬制品科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23C14/32 | 分類號(hào)： | C23C14/32;C23C14/06 |
| 代理公司： | 湖州金衛(wèi)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 33232 | 代理人： | 裴金華 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州市德*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 真空 離子鍍 接頭 | ||
1.一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，包括靶體（1），其特征在于：所述靶體（1）上一體連接基座（2），所述基座（2）內(nèi)開設(shè)一凹孔（3），凹孔（3）側(cè)壁上設(shè)置內(nèi)螺紋（31）；所述基座（2）上開設(shè)凹陷部（21）。
2.按權(quán)利要求1所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于：所述凹陷部（21）在基座（2）與靶體（1）的連接處設(shè)置并且致使基座（2）的表面傾斜。
3.按權(quán)利要求2所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于：所述凹陷部（21）的橫截面為三角形。
4.按權(quán)利要求1所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于：所述凹陷部（21）在基座（2）與靶體（1）的連接處設(shè)置并且致使基座（2）的外表面呈圓弧形。
5.按權(quán)利要求4所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于：所述凹陷部（21）的橫截面為矩形。
6.按權(quán)利要求3或5所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于：所述凹陷部（21）以基座（2）的中心軸為中心線，圓周陣列分布。
7.按權(quán)利要求6所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于：所述靶體（1）為圓臺(tái)形。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
