[發(fā)明專利]濕法刻蝕裝置及其刻蝕方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410351266.0
• 申請日: 2014-07-22
• 公開（公告）號: CN104091775A
• 公開（公告）日: 2014-10-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 常建宇
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/311
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304
• 代理人: 孫偉峰;楊林

1.一種濕法刻蝕裝置，包括刻蝕槽(110)及設(shè)置在刻蝕槽(110)之內(nèi)的多根滾輪(120)，所述多根滾輪(120)用于承載待刻蝕的基板(150)，其特征在于，所述濕法刻蝕裝置還包括浸泡槽(130)及升降器(140)，其中，所述浸泡槽(130)設(shè)置在所述刻蝕槽(110)之內(nèi)，并位于所述滾輪(120)之下，所述升降器(140)設(shè)置在所述浸泡槽(130)的底板(131)的下表面上，所述升降器(140)推動所述浸泡槽(130)上升或下降，以使所述浸泡槽(130)中的刻蝕液浸沒或脫離所述待刻蝕的基板(150)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕法刻蝕裝置，其特征在于，所述浸泡槽(130)的第一側(cè)板(132)和第二側(cè)板(133)的厚度均小于任意兩根所述滾輪(120)之間的最小間隔。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的濕法刻蝕裝置，其特征在于，所述浸泡槽(130)的第一側(cè)板(132)和第二側(cè)板(133)均沿豎直方向下降，以使所述第一側(cè)板(132)和第二側(cè)板(133)的頂面平齊于或低于所述底板(131)的上表面，從而使所述浸泡槽(130)中已使用的刻蝕液完全排出。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濕法刻蝕裝置，其特征在于，所述濕法刻蝕裝置還包括第一電磁閥(161)和第二電磁閥(162)，其中，所述第一電磁閥(161)設(shè)置在所述第一側(cè)板(132)上，用于控制所述第一側(cè)板(132)上升或下降，所述第二電磁閥(162)設(shè)置在所述第二側(cè)板(133)上，用于控制所述第二側(cè)板(133)上升或下降。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕法刻蝕裝置，其特征在于，所述浸泡槽(130)由聚氯乙烯材料形成。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕法刻蝕裝置，其特征在于，所述升降器(140)的外表面包裹耐腐蝕性材料。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的濕法刻蝕裝置，其特征在于，所述第一電磁閥(161)和第二電磁閥(162)的外表面均包裹耐腐蝕性材料。

8.一種權(quán)利要求1至7任一項所述的濕法刻蝕裝置的刻蝕方法，其特征在于，包括：

利用多根滾輪(120)將待刻蝕的基板(150)傳送至刻蝕槽(110)中，同時在浸泡槽(130)中注滿刻蝕液；

利用升降器(140)推動所述浸泡槽(130)上升，以使所述浸泡槽(130)中的刻蝕液浸沒所述待刻蝕的基板(150)，對所述待刻蝕的基板(150)進行刻蝕。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的刻蝕方法，其特征在于，還包括：

在所述待刻蝕的基板(150)刻蝕完成之后，利用升降器(140)推動所述浸泡槽(130)下降，以使刻蝕液脫離經(jīng)刻蝕的基板(150)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的刻蝕方法，其特征在于，還包括：

將所述浸泡槽(130)的相對的第一側(cè)板(132)和第二側(cè)板(133)沿豎直方向下降，以使所述第一側(cè)板(132)和第二側(cè)板(133)的頂面平齊于或低于所述底板(131)的上表面，從而使所述浸泡槽(130)中已使用的刻蝕液完全排出。