[發(fā)明專利]濕法刻蝕裝置及其刻蝕方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410351266.0
• 申請(qǐng)日: 2014-07-22
• 公開（公告）號(hào): CN104091775A
• 公開（公告）日: 2014-10-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 常建宇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67;H01L21/311
• 代理公司: 深圳市銘粵知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304
• 代理人: 孫偉峰;楊林

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及濕法刻蝕技術(shù)領(lǐng)域，具體地講，涉及一種濕法刻蝕裝置及其刻蝕方法。

背景技術(shù)

濕法刻蝕工藝指的是采用液態(tài)化學(xué)藥品對(duì)刻蝕物進(jìn)行去除的刻蝕技術(shù)。濕法刻蝕是用適當(dāng)?shù)目涛g液，與刻蝕物進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，改變刻蝕物的結(jié)構(gòu)，使無光刻膠覆蓋的部分脫離基片表面，而把有光刻膠覆蓋的區(qū)域保存下來，這樣便在基片表面得到了所需要的圖案。

在液晶顯示面板制造過程中，對(duì)玻璃基板進(jìn)行濕法刻蝕的模式主要包括噴淋(Spray)模式和浸泡(Dip)模式。

在傳統(tǒng)的浸泡模式中，如圖1所示，濕法刻蝕裝置包括刻蝕槽11及設(shè)置在刻蝕槽11內(nèi)的多根平行的滾輪12，其中，刻蝕槽11的左右兩側(cè)板上分別設(shè)有閥門13。待刻蝕的玻璃基板14在滾輪12的帶動(dòng)下進(jìn)入刻蝕槽11后，需要將化學(xué)刻蝕液注滿后才能對(duì)玻璃基板14進(jìn)行浸泡刻蝕，這樣不利于縮短浸泡刻蝕時(shí)間。此外，隨著浸泡刻蝕的進(jìn)行，刻蝕槽11內(nèi)的化學(xué)刻蝕液的有效成分變化較快，而通過刻蝕槽11的閥門13無法將刻蝕槽11內(nèi)的化學(xué)刻蝕液完全排出，導(dǎo)致化學(xué)刻蝕液的置換能力不足，長(zhǎng)時(shí)間積累會(huì)使得刻蝕槽11內(nèi)的化學(xué)刻蝕液變質(zhì)，從而影響對(duì)玻璃基板14的刻蝕品質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本發(fā)明的目的在于提供一種濕法刻蝕裝置，包括刻蝕槽及設(shè)置在刻蝕槽之內(nèi)的多根滾輪，所述多根滾輪用于承載待刻蝕的基板，其中，所述濕法刻蝕裝置還包括浸泡槽及升降器，其中，所述浸泡槽設(shè)置在所述刻蝕槽之內(nèi)，并位于所述滾輪之下，所述升降器設(shè)置在所述浸泡槽的底板的下表面上，所述升降器推動(dòng)所述浸泡槽上升或下降，以使所述浸泡槽中的刻蝕液浸沒或脫離所述待刻蝕的基板。

進(jìn)一步地，所述浸泡槽的第一側(cè)板和第二側(cè)板的厚度均小于任意兩根所述滾輪之間的最小間隔。

進(jìn)一步地，所述浸泡槽的第一側(cè)板和第二側(cè)板均沿豎直方向下降，以使所述第一側(cè)板和第二側(cè)板的頂面平齊于或低于所述底板的上表面，從而使所述浸泡槽中已使用的刻蝕液完全排出。

進(jìn)一步地，所述濕法刻蝕裝置還包括第一電磁閥和第二電磁閥，其中，所述第一電磁閥設(shè)置在所述第一側(cè)板上，用于控制所述第一側(cè)板上升或下降，所述第二電磁閥設(shè)置在所述第二側(cè)板上，用于控制所述第二側(cè)板上升或下降。

進(jìn)一步地，所述浸泡槽由聚氯乙烯材料形成。

進(jìn)一步地，所述升降器的外表面包裹耐腐蝕性材料。

進(jìn)一步地，所述第一電磁閥和第二電磁閥的外表面均包裹耐腐蝕性材料。

本發(fā)明的另一目的還在于提供一種上述的濕法刻蝕裝置的刻蝕方法，其包括：利用多根滾輪將待刻蝕的基板傳送至刻蝕槽中，同時(shí)在浸泡槽中注滿刻蝕液；利用升降器推動(dòng)所述浸泡槽上升，以使所述浸泡槽中的刻蝕液浸沒所述待刻蝕的基板，對(duì)所述待刻蝕的基板進(jìn)行刻蝕。

進(jìn)一步地，所述刻蝕方法還包括：在所述待刻蝕的基板刻蝕完成之后，利用升降器推動(dòng)所述浸泡槽下降，以使所述刻蝕液脫離經(jīng)刻蝕的基板。

進(jìn)一步地，所述刻蝕方法還包括：將所述浸泡槽的相對(duì)的第一側(cè)板和第二側(cè)板沿豎直方向下降，以使所述第一側(cè)板和第二側(cè)板的頂面平齊于或低于所述底板的上表面，從而使所述浸泡槽中的刻蝕液完全排出。

本發(fā)明的濕法刻蝕裝置及其刻蝕方法，在利用多根滾輪將基板傳送至刻蝕槽中的同時(shí)，可向浸泡槽中注滿新的刻蝕液，這樣就無需等到基板被多根滾輪帶動(dòng)傳送至刻蝕槽之后，才向浸泡槽注入刻蝕液，利于縮短浸泡刻蝕時(shí)間。此外，本發(fā)明的濕法刻蝕裝置及其刻蝕方法能夠?qū)⒔莶蹆?nèi)已使用的刻蝕液完全排出，從而避免由于浸泡槽內(nèi)的刻蝕液的置換能力不足，長(zhǎng)時(shí)間積累使得刻蝕液變質(zhì)的現(xiàn)象。

附圖說明

通過結(jié)合附圖進(jìn)行的以下描述，本發(fā)明的實(shí)施例的上述和其它方面、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將變得更加清楚，附圖中：

圖1是現(xiàn)有的濕法刻蝕裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的濕法刻蝕裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3a至圖3d分別示出利用根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的濕法刻蝕裝置刻蝕基板的刻蝕過程圖。

具體實(shí)施方式

以下，將參照附圖來詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例。然而，可以以許多不同的形式來實(shí)施本發(fā)明，并且本發(fā)明不應(yīng)該被解釋為限制于這里闡述的具體實(shí)施例。相反，提供這些實(shí)施例是為了解釋本發(fā)明的原理及其實(shí)際應(yīng)用，從而使本領(lǐng)域的其他技術(shù)人員能夠理解本發(fā)明的各種實(shí)施例和適合于特定預(yù)期應(yīng)用的各種修改。

圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的濕法刻蝕裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。