[發明專利]一種掩模板在審
| 申請號： | 201410340364.4 | 申請日： | 2014-07-16 |
| 公開（公告）號： | CN104142611A | 公開（公告）日： | 2014-11-12 |
| 發明（設計）人： | 張思凱 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/26 | 分類號： | G03F1/26 |
| 代理公司： | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人： | 黃志華 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 模板 | ||
1.一種掩模板，其特征在于，包括：透明基板，多個間隔設置在所述透明基板一個表面上的遮光條，且所述透明基板上背離所述遮光條的一表面設置有與所述遮光條設置位置一一對應且將照射到遮光條上的光線折射到相鄰的遮光條之間間隙的透鏡結構。
2.如權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述透明基板上背離所述遮光條的一表面上設置有與所述遮光條設置位置一一對應的凹槽，所述凹槽與所述透明基板形成所述透鏡結構。
3.如權利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述凹槽為弧形凹槽，且所述弧形凹槽的長度方向與所述遮光條的長度方向相同。
4.如權利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述弧形凹槽的寬度不大于所述遮光條的寬度。
5.如權利要求4所述的掩模板，其特征在于，所述弧形凹槽的寬度等于所述遮光條的寬度。
6.如權利要求5所述的掩模板，其特征在于，所述弧形凹槽為圓弧形凹槽。
7.如權利要求6所述的掩模板，其特征在于，所述圓弧形凹槽的圓弧角滿足以下關系：
其中，θ為圓弧角，θ1圓弧端部的入射光線的折射角，L3為遮光條與被曝光的基板上需要保留的金屬條的重疊寬度，d為透明基板與被曝光的基板之間的間距。
8.如權利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述凹槽為V型凹槽，且所述V型凹槽的長度方向與所述遮光條的長度方向相同。
9.如權利要求1～8任一項所述的掩模板，其特征在于，所述遮光條為鉻條。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
