[發明專利]一種槽式機臺清洗裝置

在審

• 申請號: 201410340170.4
• 申請日: 2014-07-17
• 公開（公告）號: CN104078397A
• 公開（公告）日: 2014-10-01
• 發明（設計）人: 宋振偉;徐友峰;陳晉
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 王宏婧

技術領域

本發明涉及半導體技術領域，尤其涉及一種槽式機臺清洗裝置。

背景技術

在半導體制造工藝技術領域，槽式清洗以其低成本、高可靠性、高產能及優越的蝕刻選擇比的優點，在相當長的時間內均為集成電路制造的主流工藝。但是，現有的槽式清洗的設計可允許兩批不同的產品在同一個槽里清洗，易于造成兩批產品之間的交叉污染。

另一方面，隨著集成電路的快速發展，在一個成熟的生產車間內，均具有不同的工藝平臺，例如具有65nm、55nm、40nm、32～28nm等工藝平臺；其產品的器件亦具有邏輯器件、存儲器器件等等。所述不同工藝、不同器件的產品在濕法清洗時所用程式大體相同，放置在同一槽內清洗已是本領域常規做法。相應地，由于將不同產品放置在同一槽內清洗所導致的交叉污染便成為了槽式清洗中顆粒缺陷的最主要來源之一。

同時，若所述槽式清洗機臺僅用于清洗同批次相同產品，則極大的限制了設備之產能，增加了生產成本。顯然地，針對不同工藝、不同器件產品在同一槽內清洗所造成的交叉污染嚴重的制約了槽式清洗的能力。故，尋求一種可有效避免不同工藝、不同器件產品在進行同時清洗，且不相互污染的槽式機臺清洗裝置已成為本領域技術人員亟待解決的技術問題之一。

故針對現有技術存在的問題，本案設計人憑借從事此行業多年的經驗，積極研究改良，于是有了本發明一種槽式機臺清洗裝置。

發明內容

本發明是針對現有技術中，傳統的槽式清洗將兩批不同的產品在同一個槽里清洗，易于造成兩批產品之間的交叉污染；或者僅用于清洗同批次相同產品，極大的限制了設備之產能，增加了生產成本等缺陷提供一種槽式機臺清洗裝置。

為了解決上述問題，本發明提供一種槽式機臺清洗裝置，所述槽式機臺清洗裝置，一種槽式機臺清洗裝置，所述槽式機臺清洗裝置，包括：清洗槽，通過隔離板間隔形成獨立的第一清洗槽和第二清洗槽；進液管，進一步包括主進液管，以及與所述主進液管連通，并分別與所述第一清洗槽連接的第一分支進液管，與所述第二清洗槽連接的第二分支進液管；出液管，進一步包括主出液管，以及與所述主出液管連通，并分別與所述第一清洗槽連接的第一分支出液管，與所述第二清洗槽連接的第二分支出液管。

可選地，所述第一分支進液管、第二分支進液管、第一分支出液管、第二分支出液管上分別設置開關閥。

可選地，所述清洗槽之第一清洗槽和第二清洗槽內各設置25個卡槽。

綜上所述，本發明槽式機臺清洗裝置通過設置隔離板將所述清洗槽間隔形成獨立的第一清洗槽和第二清洗槽，且所述進液管之第一分支進液管和所述第二分支進液管分別與所述第一清洗槽和第二清洗槽連接，所述出液管之第一分支出液管和所述第二分支出液管分別與所述第一清洗槽和第二清洗槽連接，不僅使得所述清洗槽之第一清洗槽和第二清洗槽均可獨立的對不同工藝、不同器件產品進行清洗，不會造成交叉污染，而且保證了槽式機臺的產能，改善了清洗效果，提高了器件良率。

附圖說明

圖1所示為本發明槽式機臺清洗裝置之結構示意圖；

圖2(a)所示為本發明槽式機臺清洗裝置之進液管布置示意圖；

圖2(b)所示為本發明槽式機臺清洗裝置之排液管布置示意圖。

具體實施方式

為詳細說明本發明創造的技術內容、構造特征、所達成目的及功效，下面將結合實施例并配合附圖予以詳細說明。

請參閱圖1、圖2(a)～2(b)，圖1所示為本發明槽式機臺清洗裝置之結構示意圖。圖2(a)所示為本發明槽式機臺清洗裝置之進液管布置示意圖。圖2(b)所示為本發明槽式機臺清洗裝置之排液管布置示意圖。所述槽式機臺清洗裝置1，包括：清洗槽11，所述清洗槽11通過隔離板111間隔形成獨立的第一清洗槽112和第二清洗槽113；進液管12，所述進液管12進一步包括主進液管121，以及與所述主進液管121連通，并分別與所述第一清洗槽112連接的第一分支進液管122，與所述第二清洗槽113連接的第二分支進液管123；出液管13，所述出液管13進一步包括主出液管131，以及與所述主出液管131連通，并分別與所述第一清洗槽112連接的第一分支出液管132，與所述第二清洗槽113連接的第二分支出液管133。

作為本發明的具體實施方式，優選地，在所述第一分支進液管122、第二分支進液管123、第一分支出液管132、第二分支出液管133上分別設置開關閥10，以獨立的對清洗液之流量進行控制。