[發(fā)明專利]濺射裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410339809.7
• 申請(qǐng)日: 2014-07-16
• 公開（公告）號(hào): CN104294223B
• 公開（公告）日: 2018-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 梨木智剛;濱田明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 日東電工株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C14/34
• 分類號(hào): C23C14/34
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會(huì)華

本申請(qǐng)的發(fā)明提供一種濺射裝置，為了不使自成膜輥脫離而輸送到下游側(cè)輸送輥的長(zhǎng)條膜基材因急劇的冷卻而發(fā)生變形，該濺射裝置構(gòu)成為包括真空室(14)、成膜輥(18)、靶材(20)、氣體供給機(jī)構(gòu)(24)、3根驅(qū)動(dòng)輥(下游側(cè)輸送輥)(26(1)、26(2))、26(3))、以及用于將各驅(qū)動(dòng)輥(26(1)、26(2)、26(3))的溫度維持在80℃以下且比真空室(14)內(nèi)的最低溫度高的范圍內(nèi)的大致恒定溫度的3個(gè)溫度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)(30(1)、30(2)、30(3))。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種用于在沿著成膜輥的表面輸送的長(zhǎng)條膜基材的表面上形成薄膜的濺射裝置。

背景技術(shù)

以往以來，使用在真空室內(nèi)配置有如下構(gòu)件的濺射裝置：原料卷，其卷繞有長(zhǎng)條膜基材；成膜輥，其使長(zhǎng)條膜基材沿著其表面；靶材，其用于在沿著成膜輥的表面輸送的長(zhǎng)條膜基材的表面上形成成膜材料；氣體供給機(jī)構(gòu)，其用于向成膜輥與靶材之間的成膜空間供給氣體；下游側(cè)輸送輥，其用于將沿著成膜輥的表面輸送過來的長(zhǎng)條膜基材向輸送方向下游側(cè)輸送；以及卷取輥，其用于將自下游側(cè)輸送輥輸送至輸送方向下游側(cè)的長(zhǎng)條膜基材卷取(例如，參照專利文獻(xiàn)1的說明書第0012段落、說明書第0023段落和圖1。)。經(jīng)該濺射裝置濺射處理后的長(zhǎng)條膜基材被用作觸摸面板的表面面板等。

在該濺射裝置中，例如，在沿著成膜輥輸送由聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯構(gòu)成的長(zhǎng)條膜基材的情況下，以銦·錫合金為靶材，將由氧氣構(gòu)成的反應(yīng)性氣體連同由氬氣構(gòu)成的非活性氣體一起向成膜空間供給，靶材用于在長(zhǎng)條膜基材的表面上形成成膜材料。由此，在長(zhǎng)條膜基材的表面上連續(xù)地形成銦·錫氧化物(ITO)薄膜。

此處，為了在長(zhǎng)條膜基材上進(jìn)行成膜，需要利用內(nèi)置的加熱器將成膜輥加熱至60℃～70℃。因此，在成膜輥上成膜后的長(zhǎng)條膜基材被輸送至輸送方向下游側(cè)的下游側(cè)輸送輥而與成膜輥脫離時(shí)，與下游側(cè)輸送輥接觸的長(zhǎng)條膜基材會(huì)被急劇地冷卻到接近下游側(cè)輸送輥的溫度的溫度。例如，在下游側(cè)輸送輥的溫度與真空室內(nèi)的室溫相同的情況下，輸送至下游側(cè)輸送輥的長(zhǎng)條膜基材會(huì)被急劇地冷卻到接近真空室內(nèi)的室溫的溫度。

由此，有時(shí)會(huì)產(chǎn)生以下問題：輸送到下游側(cè)輸送輥而被急劇地冷卻的長(zhǎng)條膜基材發(fā)生變形，不能作為觸摸面板的表面面板等使用或者外觀方面不佳。尤其是，在長(zhǎng)條膜基材的寬度較大的情況下或長(zhǎng)條膜基材的線膨脹系數(shù)較大的情況下，這樣的問題顯著地發(fā)生。

專利文獻(xiàn)1：日本特開2003－328124號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

本發(fā)明是鑒于以往的濺射裝置中存在的上述那樣的問題而做出的發(fā)明。即，本申請(qǐng)的發(fā)明的目的在于，提供一種不會(huì)使自成膜輥脫離而輸送至下游側(cè)輸送輥的長(zhǎng)條膜基材因急劇的冷卻而變形的濺射裝置。

用于解決問題的方案

一種濺射裝置，其用于在沿著成膜輥的表面輸送的長(zhǎng)條膜基材的表面上形成薄膜，其中，該濺射裝置包括：真空室；上述成膜輥，其以能夠旋轉(zhuǎn)的方式配置于上述真空室內(nèi)；靶材，其為1個(gè)或多個(gè)，配置于上述真空室內(nèi)，用于在沿著上述成膜輥的表面輸送的長(zhǎng)條膜基材的表面上形成成膜材料；氣體供給機(jī)構(gòu)，其用于向上述成膜輥與上述靶材之間的成膜空間供給氣體；下游側(cè)輸送輥，其為多根，配置于上述真空室內(nèi)的、相對(duì)于上述成膜輥而言的長(zhǎng)條膜基材的輸送方向下游側(cè)，用于將沿著上述成膜輥的表面輸送過來的長(zhǎng)條膜基材向該輸送方向下游側(cè)輸送；以及溫度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，其用于將多根上述下游側(cè)輸送輥中的至少1根下游側(cè)輸送輥的溫度維持在80℃以下且在比上述真空室內(nèi)的最低溫度高的范圍內(nèi)維持大致恒定。

下游側(cè)輸送輥是配置在比成膜輥靠長(zhǎng)條膜的輸送方向下游側(cè)的輸送輥，其包括利用驅(qū)動(dòng)部件旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)輥和能夠自由旋轉(zhuǎn)的導(dǎo)輥。真空室內(nèi)的最低溫度指的是，設(shè)置在真空室內(nèi)的輥等固體的溫度或在真空室內(nèi)存在的氣體的溫度中的最低的溫度。