[發明專利]一種陶瓷窯爐煙氣半干法—干法除氟工藝方法有效
| 申請號: | 201410339355.3 | 申請日: | 2014-07-17 |
| 公開(公告)號: | CN104138711A | 公開(公告)日: | 2014-11-12 |
| 發明(設計)人: | 王化能;張超;夏昌奎 | 申請(專利權)人: | 杭州諾貝爾陶瓷有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/78 | 分類號: | B01D53/78;B01D53/68;B01D46/04 |
| 代理公司: | 無 | 代理人: | 無 |
| 地址: | 311100 浙江省杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 陶瓷 煙氣 半干法 工藝 方法 | ||
技術領域
本發明屬于環境保護技術領域,特別涉及一種陶瓷窯爐煙氣的半干法—干法除氟工藝方法。?
背景技術
根據GB?25464-2010《陶瓷工業污染物排放標準》要求,陶瓷工業新建企業自2010年10月1日起、現有企業自2012年1月1日起,均需執行更為嚴格的大氣污染物排放濃度限值。具體標準如表1所示。?
表1?新建企業大氣污染物排放濃度限值
單位:mg/m3
由表1可知,陶瓷窯爐煙氣中氟化物的排放濃度限值為3.0mg/m3,要求非常嚴格。目前,對陶瓷窯爐煙氣中氟化物的處理工藝和方法,一般采用濕式噴淋處理技術,即將吸收劑的稀溶液噴淋在煙氣中,煙氣中的氟與吸收劑溶液反應而除去,其缺點是:除氟效率低,即使穩定運行也難以達到前述國家標準的要求。按目前的除氟工藝和方法,氟化物排放濃度可以穩定控制在4.0mg/m3左右,與GB?25464-2010《陶瓷工業污染物排放標準》中實際濃度限值1.0mg/m3(標準濃度限值為3.0mg/m3,按基準過量空氣系數折算,實際濃度限值為1.0mg/m3)要求相差甚遠;另外,設備運行維護復雜,處理成本高,在處理過程中對設備和人員的腐蝕性較大,處理后產生的污水、污泥處理量大。中國專利CN103316581A公開了一種氟化氫煙氣凈化處理裝置和處理方法,其處理裝置為干式吸附過濾設備,雖然避免了排放含氟廢水,但是其處理方法采用粒度為4~8mm的石灰石固體除氟反應吸附劑除氟,導致吸附反應的接觸面積較小,煙氣處理量小。煙氣量大時要達到較高的處理效率,必須加大單元處理器結構或增加單元處理器個數,從而導致其結構復雜,操作繁瑣。
發明內容
本發明所要解決的技術問題在于,針對現有技術的不足提供一種高效、環保、處理量大的陶瓷窯爐煙氣半干法—干法除氟工藝方法。?
本發明所要解決的技術問題是通過如下技術方案實現的:?
本發明陶瓷窯爐煙氣半干法—干法除氟工藝方法采用以固定噴霧反應塔為基礎的半干法工藝和以布袋除塵器為基礎的干法工藝協同處理陶瓷窯爐煙氣中的氟化物。
本發明陶瓷窯爐煙氣半干法—干法除氟工藝方法主要由下列系統組成:固定噴霧反應塔系統和布袋除塵器系統,再配合吸收劑乳液制備系統、工藝水系統及壓縮空氣系統等輔助系統。?
本發明陶瓷窯爐煙氣半干法—干法除氟工藝方法包括如下步驟:?
(1)半干法除氟工藝:半干法除氟工藝主要以固定噴霧反應塔系統為基礎。固定噴霧反應塔系統主要包括固定噴霧反應塔、吸收劑噴霧系統和水噴霧系統及相關連接煙道,其中固定噴霧反應塔內壁設有若干導流板。陶瓷窯爐出口煙氣由水平煙道經切向進入固定噴霧反應塔底部,反應塔底部設有文丘里裝置,煙氣流經時被加速。吸收劑通過吸收劑噴霧系統經反應塔下部吸收劑噴嘴和中部吸收劑噴嘴噴入反應塔。在反應塔下部吸收劑噴嘴處霧化的吸收劑與煙氣中的氟化物等酸性物質混合,氣-液接觸發生中和反應,吸收劑乳液液滴中的水分得到蒸發,同時煙氣得到冷卻。在文丘里裝置的出口設有水噴霧系統,噴入的霧化水使煙氣進一步降至100℃左右,高速的煙氣使水進一步霧化。增濕的煙氣在反應塔內螺旋形上升,在經過各個區域布置的導流板的充分攪拌旋切作用下,與從反應塔中部吸收劑噴嘴大面積噴入的吸收劑形成一個充分霧化區,在霧化區煙氣與吸收劑充分混合接觸反應。由于導流板的合理設計,煙氣在塔內產生氣動旋流,強勁的上旋力與沖擊力對吸收劑激烈攪動,獲得最佳的攪拌及霧化效果,單位體積的吸收劑表面積增加上千倍,霧化的吸收劑與氟化物充分攪拌,達到最理想的接觸面積與方式,吸收溶解及充分反應。低溫狀態下,吸收劑與煙氣中的氟化物更容易反應,生成氟化鈣等。反應生成的部分大顆粒的固體會落入反應塔錐體,由反應塔錐體底部旋轉鎖氣器外排。帶有大量固體顆粒的煙氣從反應塔上部的煙道排出,然后進入布袋除塵器。
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