[發(fā)明專利]陣列基板的制作方法及設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410338911.5 | 申請日: | 2014-07-16 |
| 公開(公告)號: | CN104134631B | 公開(公告)日: | 2016-11-23 |
| 發(fā)明(設計)人: | 黎午升 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/77 | 分類號: | H01L21/77;H01L21/67;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;黃燦 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 制作方法 設備 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及平板顯示技術領域,特別是指一種陣列基板的制作方法及設備。
背景技術
隨著技術的發(fā)展,平板顯示裝置已取代笨重的CRT(Cathode?Ray?Tube,陰極射線管)顯示裝置成為目前的主流顯示裝置。目前,常用的平板顯示裝置包括LCD(Liquid?Crystal?Display,液晶顯示裝置)和OLED(Organic?Light-Emitting?Diode,有機電致發(fā)光二極管)顯示裝置。
液晶顯示裝置包括陣列基板、彩膜基板和液晶層,其中,彩膜基板是液晶顯示裝置的主要組成部分,用于實現(xiàn)彩色畫面的顯示。早期制造液晶顯示裝置的技術中,彩膜層與作為驅(qū)動開關的薄膜晶體管形成在不同基板上,并分別位于液晶層兩側(cè),然而這種配置方式會因為兩基板對位偏差(Ass’y?margin)造成顯示面板的開口率降低,進而影響顯示面板的亮度與畫面品質(zhì)。由于近年來,市場上對顯示面板的開口率及亮度的要求提高,業(yè)界為應市場需求進而開發(fā)出一種彩膜層直接形成在陣列基板上(Color?filter?On?Array,簡稱COA)的技術,即將彩膜層和薄膜晶體管形成在一塊基板上,如此不僅可以提升顯示面板的開口率,增加顯示面板的亮度,而且避免了將彩膜層和薄膜晶體管形成在不同基板上所衍生的問題。
不采用COA技術時,彩膜層與作為驅(qū)動開關的薄膜晶體管形成在不同基板上,并分別位于液晶層兩側(cè),它們被分別制作,薄膜晶體管陣列基板的制作一般首先通過曝光設備自身的對位標記形成gate(柵金屬)層及其對位標記,后面在進行每一層的曝光時都是由曝光設備與gate層的對位標記進行精確對位之后再曝光;彩膜基板的制作一般先在玻璃基板背面沉積一層透明的ITO膜,然后通過曝光設備自身的對位標記形成BM(黑矩陣)層及其對位標記,后面的每一層在進行曝光時都是由曝光設備與BM層的對位標記進行精確對位之后再曝光。
當采用COA技術時,由于BM要做在薄膜晶體管陣列基板上,在陣列基板上涂覆BM材料之后,進行曝光時曝光設備需要先與gate層的對位標記進行精確對位之后再曝光,但由于BM材料是不透光的,因此曝光設備將無法找到gate層的對位標記進行對位。目前的解決辦法是手動清洗陣列基板上gate對位標記部分對應的BM材料,把gate對位標記露出來,從而實現(xiàn)對位,但是這種方法效率低下,易受人為因素干擾,對顯示面板的產(chǎn)能和良率都有影響。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術問題是提供一種陣列基板的制作方法及設備,能夠解決在COA工藝中需手動清洗陣列基板上柵金屬層的對位標記部分對應的BM材料的問題,進而提高顯示面板的產(chǎn)能和良率。
為解決上述技術問題,本發(fā)明的實施例提供技術方案如下:
一方面,提供一種陣列基板的制作方法,所述制作方法包括:
對基板上將要涂覆不透光感光材料的表面的邊緣位置以及對位位置進行疏油處理;
在經(jīng)過疏油處理的基板表面涂覆親油性的不透光感光材料。
進一步地,所述對基板上將要涂覆不透光感光材料的表面的邊緣位置以及對位位置進行疏油處理包括:
在所述基板的所述邊緣位置以及所述對位位置上涂覆疏油藥液。
進一步地,所述疏油藥液包括全氟辛酸鹽分散液。
進一步地,所述在所述基板的所述邊緣位置以及所述對位位置上涂覆疏油藥液包括:
使所述基板沿輥輪傳輸,所述輥輪與所述基板上將要涂覆不透光感光材料的表面的邊緣位置接觸,所述輥輪的表面涂覆有疏油藥液,當所述輥輪通過轉(zhuǎn)動帶動所述基板運動時,將自身表面涂覆的疏油藥液涂覆在所述邊緣位置上;
所述基板將要涂覆不透光感光材料的表面上方設置有吸收有疏油藥液的清洗頭,所述輥輪通過轉(zhuǎn)動帶動所述基板運動,在所述基板運動到所述清洗頭位于所述對位位置正上方時停止,控制所述清洗頭與所述對位位置相接觸,以便所述清洗頭將疏油藥液涂覆在所述對位位置上,之后控制所述清洗頭與所述對位位置脫離接觸。
進一步地,所述在經(jīng)過疏油處理的基板表面涂覆親油性的不透光感光材料包括:
在經(jīng)過疏油處理的基板表面涂覆不透光的親油性光刻膠。
本發(fā)明實施例還提供了一種陣列基板的制作設備,所述制作設備包括:
疏油處理裝置,用于對基板上將要涂覆不透光感光材料的表面的邊緣位置以及對位位置進行疏油處理;
涂覆裝置,用于在經(jīng)過疏油處理的基板表面涂覆親油性的不透光感光材料。
進一步地,所述疏油處理裝置用于在所述基板的所述邊緣位置以及所述對位位置上涂覆疏油藥液。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





