[發明專利]一種滾動軸承的生產工藝無效
| 申請號: | 201410334332.3 | 申請日: | 2014-07-15 |
| 公開(公告)號: | CN104148895A | 公開(公告)日: | 2014-11-19 |
| 發明(設計)人: | 邱興忠;楊高舉;楊華劍 | 申請(專利權)人: | 安慶銀泰軸承有限公司 |
| 主分類號: | B23P15/00 | 分類號: | B23P15/00 |
| 代理公司: | 無 | 代理人: | 無 |
| 地址: | 246100*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 滾動軸承 生產工藝 | ||
技術領域
本發明涉及機械制造加工技術領域,?具體的是涉及一種滾動軸承的生產制造工藝。
技術背景
??滾動軸承是一種旋轉軸和靜止軸座之間的聯接件,是減少摩擦損失提高效率的精密的機械零件,因此被廣泛的應用與各種機械中。滾動軸承的基本形式為由一個外圈,一個內圈,一組滾動體和保持架組成。由于滾動軸承結構簡單、便于大批量的生產。對此本發明人研發一種滾動軸承的生產工藝。此生產工藝可以大大的提高生產效率,減少經濟成本。
發明內容
??本發明的目的在于提供一種滾動軸承的生產工藝,采用該工藝生產效率高、經濟成本少、所生產的軸承摩擦系數小、實用壽命長等優點。
基于以上目的,提出了一種滾動軸承的生產工藝,其工藝步驟為:
(1)外圈和內圈的加工步驟為:先鍛造材料為GCr9高碳軸承鋼的棒料或管料,對鍛造之后的粗坯退火,其次進行車削加工,對車削加工的半成品熱處理,然后磨削加工得到內圈和外圈;
(2)滾子加工步驟為:先將原料冷鐓成型后光球處理,然后進行熱處理,在進行精磨和研磨得到滾動體;
(3)保持架的加工步驟為:先將原料進行初步的機加工得到粗坯,然后對粗坯進行熱處理,對經過熱處理的零件進行磨削加工;
(4)對加工完的內圈、外圈、滾子以及保持架進行檢查和防銹處理;
(5)對內圈、外圈、滾子以及保持架進行裝配,然后包裝入庫。
?進一步,所述滾動軸承生產工藝中內外圈加工步驟中鍛造棒料的工藝步驟為:先在電加熱爐中加熱軸承鋼的棒料或管料,其次根據棒料尺寸選擇合適的下料工具進行下料,然后采用擠壓成型工藝將坯料鍛造成與內外圈相似形狀。這樣可以大大的節省材料和提高效率。
進一步,所述的滾動軸承生產工藝中內外圈加工步驟中退火工藝的條件為800℃保溫2小時,用5個小時的時間冷至650℃以下,出爐空冷。為了便于后面的車削加工確保其硬度不大于200HBS。
進一步,所述的滾動軸承生產工藝中內外圈加工步驟中對車削加工之后的半成品的熱處理為800℃的油淬和160℃的低溫回火,確保熱處理之后的內外圈的硬度不小于63HRC。
進一步,所述的一種滾動軸承生產工藝中裝配步驟為:對零部件行去磁組裝,組裝之后檢查游隙在進行退磁、防銹處理,最后經過真空包裝機包裝入庫。在此兩次退磁的作用是減少軸承的摩擦系數,提高軸承的實用壽命和可靠性。
采用上述的生產工藝生產的軸承結構簡單,軸承的使用壽命和精度有所提高,同時步驟明確,員工各司其職,大大的提高員工的利用率、生產效率和降低了失誤率進而節約了經濟成本。
具體實施方式
下面結合具體事例對本發明進一步說明
一種滾動軸承的生產工藝,該工藝生產的軸承由外圈、內圈、保持架和滾子組成。一種滾子軸承的生產工藝的工藝步驟為:對軸承的各種原料進行初步的機加工得到粗坯、對粗坯進行熱處理、對經過熱處理的零件進行磨削加工、零件的終檢、軸承的裝配、軸承的包裝。
軸承外圈和內圈的加工步驟為:先鍛造棒料或管料,對鍛造之后的粗坯退火,其次進行車削加工,對車削加工的半成品熱處理,然后磨削加工得到內圈和外圈,最后檢查防銹處理等待裝配。
軸承外圈和內圈的加工工藝中鍛造工藝為先在電加熱爐中加熱軸承鋼的棒料或管料,其次根據棒料尺寸選擇合適的下料工具進行下料,然后采用擠壓成型工藝將坯料鍛造成內外圈相似形狀。
軸承外圈和內圈的加工工藝中退火工藝的條件為800℃保溫2小時,用5個小時冷至650℃以下,出爐空冷。為了便于后面的車削加工確保其硬度不大于200HBS。
軸承外圈和內圈的加工工藝中對半成品的熱處理為800℃的油淬和160℃的低溫回火,確保熱處理之后的內外圈的硬度不小于63HRC。
滾子加工步驟為:先將原料冷鐓成型后光球處理,然后進行熱處理,在進行精磨和研磨得到滾動體,最后是檢查,防銹處理等待裝配。
裝配步驟為:對零部件行去磁組裝,組裝之后檢查游隙在進行退磁、防銹處理,最后經過真空包裝機包裝入庫。在此兩次退磁的作用是減少軸承的摩擦系數,提高軸承的實用壽命和可靠性。
采用上述的生產工藝生產的軸承結構簡單,軸承的使用壽命和精度有所提高,同時步驟明確,員工各司其職,大大的提高員工的利用率、生產效率和降低了失誤率進而節約了經濟成本。
上述僅為本發明的具體實施例,但本發明的設計構思并不局限于此,凡利用此構思對本發明進行非實質性的改動,均應屬于侵犯本發明保護范圍的行為。
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