[發(fā)明專利]一種光學(xué)膜層及其制造方法、背光模組和顯示裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410328945.6
• 申請日: 2014-07-10
• 公開（公告）號: CN104166271A
• 公開（公告）日: 2014-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李德君;薛銀艷;韋飛;胡善芝
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥京東方顯示光源有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/13357
• 分類號: G02F1/13357;G02F1/1335;B32B37/00
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;陳源

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光學(xué)膜層及其制造方法、背光模組和顯示裝置。

背景技術(shù)

在液晶顯示領(lǐng)域，背光模組尤其是中小尺寸產(chǎn)品的背光模組，將光學(xué)膜片組置于產(chǎn)品的最上方，使得所述背光模組的四周邊緣存在顯示畫面漏光、亮線等問題。針對上述問題，現(xiàn)有技術(shù)提供的解決方案是在所述光學(xué)膜片組的邊緣使用口字膠。圖1為現(xiàn)有技術(shù)中光學(xué)膜層的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，口字膠101一圈四周呈口字形狀。

然而，上述解決方案存在以下不足：所述口字膠呈細(xì)窄狀，貼附作業(yè)難度大，容易出現(xiàn)貼附歪斜、浮起等現(xiàn)象，因此需要經(jīng)常更換所述口字膠。在所述口字膠的更換過程中，容易對光學(xué)膜片的表面造成臟污、劃傷，從而引發(fā)關(guān)聯(lián)材料損失。另外，通過上述解決方案口字膠材料的利用率不足15％，造成極大的材料成本。因此，現(xiàn)有技術(shù)提供的解決方案導(dǎo)致的材料損失大幅提升了生產(chǎn)成本。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述問題，本發(fā)明提供一種光學(xué)膜層及其制造方法、背光模組和顯示裝置，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中需要經(jīng)常更換口字膠導(dǎo)致生產(chǎn)成本大幅提升的問題。

為此，本發(fā)明提供一種光學(xué)膜層，包括遮光結(jié)構(gòu)和光學(xué)膜片組，所述遮光結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述光學(xué)膜片組的邊緣，所述遮光結(jié)構(gòu)用于遮蔽所述光學(xué)膜片組的邊緣漏光。

可選的，所述遮光結(jié)構(gòu)部分位于所述光學(xué)膜片組的邊緣上，部分位于所述光學(xué)膜片組的外部。

可選的，所述遮光結(jié)構(gòu)的外邊緣與所述光學(xué)膜片組中的最上層光學(xué)膜片的外邊緣對齊。

可選的，所述遮光結(jié)構(gòu)包括基底層和遮光層，所述遮光層用于遮蔽所述光學(xué)膜片組的邊緣漏光。

可選的，所述遮光層包括遮光膠帶，所述遮光膠帶貼附于所述基底層上；或者所述遮光層包括遮光材料，所述遮光材料印刷于所述基底層上。

可選的，所述遮光結(jié)構(gòu)包括黑色遮光膜。

本發(fā)明還提供一種背光模組，包括上述任一所述的光學(xué)膜層。

本發(fā)明還提供一種顯示裝置，包括背板、膠框、顯示面板和上述背光模組，所述顯示面板位于所述背光模組的出光側(cè)，所述膠框位于所述顯示面板和所述背光模組的外側(cè)，所述背板包裹于所述背光模組和所述膠框的外側(cè)。

可選的，部分所述遮光結(jié)構(gòu)位于所述膠框之上，所述遮光結(jié)構(gòu)遮擋所述光學(xué)膜片組與所述膠框之間的間隙。

本發(fā)明還提供一種光學(xué)膜層的制造方法，包括：在光學(xué)膜片組的邊緣上設(shè)置遮光結(jié)構(gòu)，所述遮光結(jié)構(gòu)用于遮蔽所述光學(xué)膜片組的邊緣漏光。

可選的，所述遮光結(jié)構(gòu)包括基底層和遮光層，所述遮光層用于遮蔽所述光學(xué)膜片組的邊緣漏光，所述在光學(xué)膜片組的邊緣上設(shè)置遮光結(jié)構(gòu)的步驟包括：

在所述光學(xué)膜片組上形成保護膜；

對所述保護膜進行裁切以形成所述基底層；

在所述基底層上形成所述遮光層。

可選的，所述遮光層包括遮光膠帶，所述在所述基底層上形成所述遮光層的步驟包括：在所述基底層上貼附所述遮光膠帶；或者

所述遮光層包括遮光材料，所述在所述基底層上形成所述遮光層的步驟包括：在所述基底層上印刷所述遮光材料。

可選的，所述對所述保護膜進行裁切以形成所述基底層的步驟之前包括：在所述保護膜上預(yù)先設(shè)置裁切路徑；

所述對所述保護膜進行裁切以形成所述基底層的步驟包括：按照所述裁切路徑裁切所述保護膜以形成所述基底層；

所述在所述基底層上形成所述遮光層的步驟包括：按照所述裁切路徑在所述保護膜上形成所述遮光層。

可選的，所述遮光結(jié)構(gòu)包括基底層和遮光層，所述遮光層用于遮蔽所述光學(xué)膜片組的邊緣漏光，所述在光學(xué)膜片組的邊緣上設(shè)置遮光結(jié)構(gòu)的步驟包括：

在所述光學(xué)膜片組上形成保護膜；

在所述保護膜上形成所述遮光層；

對所述保護膜進行裁切以形成所述基底層。

可選的，所述遮光層包括遮光膠帶，所述在所述保護膜上形成所述遮光層的步驟包括：在所述基底層上貼附所述遮光膠帶；或者

所述遮光層包括遮光材料，所述在所述保護膜上形成所述遮光層的步驟包括：在所述基底層上印刷所述遮光材料。

可選的，所述在所述保護膜上形成所述遮光層的步驟之前包括：在所述保護膜上預(yù)先設(shè)置裁切路徑；

所述在所述保護膜上形成所述遮光層的步驟包括：按照所述裁切路徑在所述保護膜上形成所述遮光層；

所述對所述保護膜進行裁切以形成所述基底層的步驟包括：按照所述裁切路徑裁切所述保護膜以形成所述基底層。