[發(fā)明專利]一種光學(xué)膜層及其制造方法、背光模組和顯示裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410328945.6
• 申請日: 2014-07-10
• 公開（公告）號: CN104166271A
• 公開（公告）日: 2014-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李德君;薛銀艷;韋飛;胡善芝
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥京東方顯示光源有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: G02F1/13357
• 分類號: G02F1/13357;G02F1/1335;B32B37/00
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;陳源

1.一種光學(xué)膜層，其特征在于，包括遮光結(jié)構(gòu)和光學(xué)膜片組，所述遮光結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述光學(xué)膜片組的邊緣，所述遮光結(jié)構(gòu)用于遮蔽所述光學(xué)膜片組的邊緣漏光。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜層，其特征在于，所述遮光結(jié)構(gòu)部分位于所述光學(xué)膜片組的邊緣上，部分位于所述光學(xué)膜片組的外部。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜層，其特征在于，所述遮光結(jié)構(gòu)的外邊緣與所述光學(xué)膜片組中的最上層光學(xué)膜片的外邊緣對齊。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜層，其特征在于，所述遮光結(jié)構(gòu)包括基底層和遮光層，所述遮光層用于遮蔽所述光學(xué)膜片組的邊緣漏光。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)膜層，其特征在于，所述遮光層包括遮光膠帶，所述遮光膠帶貼附于所述基底層上；或者

所述遮光層包括遮光材料，所述遮光材料印刷于所述基底層上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜層，其特征在于，所述遮光結(jié)構(gòu)包括黑色遮光膜。

7.一種背光模組，其特征在于，包括由權(quán)利要求1至6任一所述的光學(xué)膜層。

8.一種顯示裝置，其特征在于，包括背板、膠框、顯示面板和權(quán)利要求7所述的背光模組，所述顯示面板位于所述背光模組的出光側(cè)，所述膠框位于所述顯示面板和所述背光模組的外側(cè)，所述背板包裹于所述背光模組和所述膠框的外側(cè)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示裝置，其特征在于，部分所述遮光結(jié)構(gòu)位于所述膠框之上，所述遮光結(jié)構(gòu)遮擋所述光學(xué)膜片組與所述膠框之間的間隙。

10.一種光學(xué)膜層的制造方法，其特征在于，包括：

在光學(xué)膜片組的邊緣上設(shè)置遮光結(jié)構(gòu)，所述遮光結(jié)構(gòu)用于遮蔽所述光學(xué)膜片組的邊緣漏光。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光學(xué)膜層的制造方法，其特征在于，所述遮光結(jié)構(gòu)包括基底層和遮光層，所述遮光層用于遮蔽所述光學(xué)膜片組的邊緣漏光，所述在光學(xué)膜片組的邊緣上設(shè)置遮光結(jié)構(gòu)的步驟包括：

在所述光學(xué)膜片組上形成保護(hù)膜；

對所述保護(hù)膜進(jìn)行裁切以形成所述基底層；

在所述基底層上形成所述遮光層。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)膜層的制造方法，其特征在于，所述遮光層包括遮光膠帶，所述在所述基底層上形成所述遮光層的步驟包括：在所述基底層上貼附所述遮光膠帶；或者

所述遮光層包括遮光材料，所述在所述基底層上形成所述遮光層的步驟包括：在所述基底層上印刷所述遮光材料。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)膜層的制造方法，其特征在于，所述對所述保護(hù)膜進(jìn)行裁切以形成所述基底層的步驟之前包括：在所述保護(hù)膜上預(yù)先設(shè)置裁切路徑；

所述對所述保護(hù)膜進(jìn)行裁切以形成所述基底層的步驟包括：按照所述裁切路徑裁切所述保護(hù)膜以形成所述基底層；

所述在所述基底層上形成所述遮光層的步驟包括：按照所述裁切路徑在所述保護(hù)膜上形成所述遮光層。

14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光學(xué)膜層的制造方法，其特征在于，所述遮光結(jié)構(gòu)包括基底層和遮光層，所述遮光層用于遮蔽所述光學(xué)膜片組的邊緣漏光，所述在光學(xué)膜片組的邊緣上設(shè)置遮光結(jié)構(gòu)的步驟包括：

在所述光學(xué)膜片組上形成保護(hù)膜；

在所述保護(hù)膜上形成所述遮光層；

對所述保護(hù)膜進(jìn)行裁切以形成所述基底層。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光學(xué)膜層的制造方法，其特征在于，所述遮光層包括遮光膠帶，所述在所述保護(hù)膜上形成所述遮光層的步驟包括：在所述基底層上貼附所述遮光膠帶；或者

所述遮光層包括遮光材料，所述在所述保護(hù)膜上形成所述遮光層的步驟包括：在所述基底層上印刷所述遮光材料。

16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光學(xué)膜層的制造方法，其特征在于，所述在所述保護(hù)膜上形成所述遮光層的步驟之前包括：在所述保護(hù)膜上預(yù)先設(shè)置裁切路徑；

所述在所述保護(hù)膜上形成所述遮光層的步驟包括：按照所述裁切路徑在所述保護(hù)膜上形成所述遮光層；

所述對所述保護(hù)膜進(jìn)行裁切以形成所述基底層的步驟包括：按照所述裁切路徑裁切所述保護(hù)膜以形成所述基底層。