[發(fā)明專利]波長轉(zhuǎn)換裝置及光源系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410325211.2
• 申請日: 2014-07-09
• 公開（公告）號(hào): CN105276525A
• 公開（公告）日: 2016-01-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊佳翼;胡飛
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市繹立銳光科技開發(fā)有限公司
• 主分類號(hào): F21V7/22
• 分類號(hào): F21V7/22;F21V29/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種波長轉(zhuǎn)換裝置，包括基底和波長轉(zhuǎn)換層，其特征在于，還包括反射層，所述反射層設(shè)置于所述基底的一表面，所述波長轉(zhuǎn)換層設(shè)置于所述反射層的背離所述基底的表面。

2.如權(quán)利要求1所述的波長轉(zhuǎn)換裝置，其特征在于，所述反射層包括在所述基底的表面采用預(yù)設(shè)的氧化方式形成的氧化鋁層。

3.如權(quán)利要求2所述的波長轉(zhuǎn)換裝置，其特征在于，所述預(yù)設(shè)的氧化方式包括高溫氧化方式。

4.如權(quán)利要求2或3所述的波長轉(zhuǎn)換裝置，其特征在于，所述基底為氮化鋁基底。

5.如權(quán)利要求2所述的波長轉(zhuǎn)換裝置，其特征在于，所述反射層還包括至少一子反射層，所述至少一子反射層設(shè)置于所述氧化鋁層上，多層所述子反射層層疊設(shè)置。

6.如權(quán)利要求1所述的波長轉(zhuǎn)換裝置，其特征在于，所述反射層包括至少兩層層疊設(shè)置的子反射層。

7.如權(quán)利要求5或6所述的波長轉(zhuǎn)換裝置，其特征在于，每層所述子反射層通過反射顆粒與粘接材料燒結(jié)而成。

8.如權(quán)利要求7所述的波長轉(zhuǎn)換裝置，其特征在于，相鄰兩層所述子反射層的反射顆粒和/或粘接材料不同。

9.如權(quán)利要求7所述的波長轉(zhuǎn)換裝置，其特征在于，每層所述子反射層中的反射顆粒均勻分布，所述反射顆粒呈球形。

10.如權(quán)利要求1所述的波長轉(zhuǎn)換裝置，其特征在于，所述波長轉(zhuǎn)換裝置還包括：

散熱器，所述散熱器設(shè)置于所述基底的背離所述反射層的表面。

11.如權(quán)利要求10所述的波長轉(zhuǎn)換裝置，其特征在于，所述散熱器為金屬板或者帶有鰭片的異形金屬板。

12.一種光源系統(tǒng)，其特征在于，所述光源系統(tǒng)包括所述權(quán)利要求1至11任一項(xiàng)所述波長轉(zhuǎn)換裝置。