[發明專利]陣列基板的制作方法、陣列基板及液晶顯示裝置

有效

• 申請號: 201410323333.8
• 申請日: 2014-07-08
• 公開（公告）號: CN104112710B
• 公開（公告）日: 2017-01-18
• 發明（設計）人: 柴立
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: H01L21/77
• 分類號: H01L21/77;H01L27/12;G02F1/1362;G02F1/1368
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙)44300
• 代理人: 黃威

1.一種陣列基板的制作方法，所述陣列基板設置在相應的液晶顯示面板中，其特征在于，所述制作方法包括：

在所述襯底基板上沉積第一金屬層，并通過圖形化處理形成掃描線；

沉積第一絕緣層，并對所述第一絕緣層進行圖形化處理；其中所述液晶顯示面板兩側的所述陣列基板的所述第一絕緣層的厚度大于所述液晶顯示面板中間的所述陣列基板的所述第一絕緣層的厚度；

沉積半導體層以及第二金屬層，并通過圖形化處理形成數據線以及薄膜場效應晶體管；

沉積第二絕緣層，并通過圖形化處理形成接觸孔；以及

沉積透明電極層，并通過圖形化處理形成所述像素電極，其中所述像素電極通過所述接觸孔與所述薄膜場效應晶體管連接。

2.根據權利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，整個所述陣列基板的所述圖形化處理后的第一絕緣層的截面形狀為具有一條曲邊的曲邊四邊形，所述曲邊為凹弧狀。

3.根據權利要求2所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述對所述第一絕緣層進行圖形化處理的步驟包括：

在所述第一絕緣層上進行光阻涂布操作；

使用漸變光罩對所述光阻進行曝光操作；

對所述曝光操作后的光阻進行顯影操作，以形成具有弧面的光阻；以及

對涂布所述具有弧面的光阻的第一絕緣層進行干法刻蝕，以形成所述圖形化處理后的第一絕緣層。

4.根據權利要求3所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述對涂布所述具有弧面的光阻的第一絕緣層進行干法刻蝕的步驟包括：

將所有所述具有弧面的光阻進行灰化操作；以及

對所述第一絕緣層進行干法刻蝕操作，以形成所述圖形化處理后的第一絕緣層。

5.根據權利要求3所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，

所述漸變光罩的中間部分的遮光率小于所述漸變光罩的兩側部分的遮光率。

6.根據權利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述沉積半導體層以及第二金屬層的步驟包括：

在所述半導體層上形成歐姆接觸層；以及

在所述歐姆接觸層上沉積所述第二金屬層。

7.一種陣列基板，設置在相應的液晶顯示面板中，其特征在于，所述陣列基板包括：

多個掃描線，用于傳輸掃描信號；

多個數據線，用于傳輸數據信號；

多個薄膜場效應晶體管，用于根據所述掃描信號，將所述數據信號傳輸給像素電極，以顯示所述數據信號；

第一絕緣層，設置在所述薄膜場效應晶體管與所述掃描線之間；以及

第二絕緣層，設置在所述像素電極與所述薄膜場效應晶體管之間；

其中所述液晶顯示面板兩側的所述陣列基板對應的所述第一絕緣層的厚度大于所述液晶顯示面板中間的所述陣列基板對應的所述第一絕緣層的厚度。

8.根據權利要求7所述的陣列基板，其特征在于，整個所述陣列基板的所述第一絕緣層的截面形狀為具有一條曲邊的曲邊四邊形，所述曲邊為凹弧狀。

9.根據權利要求7所述的陣列基板，其特征在于，所述薄膜場效應晶體管包括源極、漏極以及柵極，所述源極和所述漏極之間設置有溝道，所述源極與所述數據線連接，所述柵極與所述掃描線連接，所述漏極與所述像素電極連接。

10.一種液晶顯示裝置，其特征在于，包括具有彩膜基板以及陣列基板的液晶顯示面板；

其中所述陣列基板包括：

多個掃描線，用于傳輸掃描信號；

多個數據線，用于傳輸數據信號；

多個薄膜場效應晶體管，用于根據所述掃描信號，將所述數據信號傳輸給像素電極，以顯示所述數據信號；

第一絕緣層，設置在所述薄膜場效應晶體管與所述掃描線之間；以及

第二絕緣層，設置在所述像素電極與所述薄膜場效應晶體管之間；

其中所述液晶顯示面板兩側的所述陣列基板對應的所述第一絕緣層的厚度大于所述液晶顯示面板中間的所述陣列基板對應的所述第一絕緣層的厚度。