[發(fā)明專利]一種具有連續(xù)振幅和相位調(diào)控的亞波長孔結(jié)構(gòu)陣列有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410317149.2 | 申請日: | 2014-07-04 |
| 公開(公告)號: | CN104076531B | 公開(公告)日: | 2017-06-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳剛;溫中泉;陳李;何應(yīng)虎 | 申請(專利權(quán))人: | 重慶大學(xué) |
| 主分類號: | G02F1/01 | 分類號: | G02F1/01 |
| 代理公司: | 重慶華科專利事務(wù)所50123 | 代理人: | 康海燕 |
| 地址: | 400030 *** | 國省代碼: | 重慶;85 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 連續(xù) 振幅 相位 調(diào)控 波長 結(jié)構(gòu) 陣列 | ||
1.一種具有連續(xù)振幅和相位調(diào)控的亞波長孔結(jié)構(gòu)陣列,其特征在于包括金屬膜層(1)和雙層孔結(jié)構(gòu)單元(2);
所述金屬膜層(1)是一層具有一定厚度的金屬材料膜;
所述雙層孔結(jié)構(gòu)單元(2)是由在金屬膜層(1)內(nèi)制作的上層孔和下層孔組成,上層孔和下層孔為同軸通孔;上層孔的上端面與金屬膜層(1)上表面齊平,下層孔的下端面與金屬膜層(1)下表面齊平;上層孔直徑為D1,下層孔直徑為D2,D1和D2小于波長λ,上層孔深度為t1,下層孔深度為t2;所述雙層孔結(jié)構(gòu)單元(2)在金屬膜層(1)上呈陣列分布;對給定波長的電磁波,通過在平面空間內(nèi)改變每個單元上層孔直徑、深度和下層孔直徑、深度來調(diào)節(jié)雙層孔結(jié)構(gòu)單元的等效折射率,進而實現(xiàn)在平面空間內(nèi)振幅和相位連續(xù)調(diào)控;
確定雙層孔結(jié)構(gòu)單元(2)的參數(shù)D1、t1、D2、t2的方法如下:
(1)根據(jù)給定的工作波長λ,選用折射率接近于理想金屬折射率的實際金屬,即,所選用的實際金屬材料折射率實部應(yīng)該盡可能小、折射率虛部應(yīng)該盡可能大;
(2)雙層孔結(jié)構(gòu)單元(2)可以分別看成兩個單層金屬孔結(jié)構(gòu)的組合,為了確定雙層孔結(jié)構(gòu)深度t1和t2,必須先確定單層金屬孔單元的等效折射率,即通過有限時域差分法數(shù)值模擬,對于給定波長λ,在平面波垂直入射條件下,對于給定陣列周期,即單元尺寸a,求解單層金屬孔單元的等效折射率neff=nR+inI與金屬孔直徑D的關(guān)系,其中nR是等效折射率的實部,nI是等效折射率的虛部,i為單位虛數(shù),在neff與D的關(guān)系曲線中,存在一個臨界直徑Dc,當(dāng)D>Dc時,nI近似為零;
(3)根據(jù)單層金屬孔單元的等效折射率neff與金屬孔直徑D的關(guān)系,分別確定上層孔深度t1和下層孔深度t2;
(3.1)根據(jù)所要實現(xiàn)的振幅調(diào)節(jié)范圍的最小值A(chǔ)min,在直徑D1小于臨界直徑Dc的前提條件下,根據(jù)所有D1取值對應(yīng)等效折射率中虛部最大值nImax,確定上層孔的深度
(3.2)根據(jù)所需要實現(xiàn)的最大相位延遲φmax,在直徑D2大于臨界直徑Dc的前提條件下,根據(jù)所有D2取值對應(yīng)等效折射率中實部最大者nRmax,確定下層孔深度
(4)求解雙層孔結(jié)構(gòu)單元(2)直徑(D1,D2)與振幅透射率、相位延遲的關(guān)系:根據(jù)所求得的上層孔深度t1和下層孔深度t2,通過有限時域差分法數(shù)值模擬,對于給定波長λ,在平面波垂直入射條件下,對于給定陣列周期a,求解雙層孔結(jié)構(gòu)單元的振幅透射率、相位延遲與直徑(D1,D2)的關(guān)系;讓下層孔直徑D2和上層孔直徑D1兩者的取值在0到a范圍內(nèi)變化,得出各種直徑取值組合(D1,D2)對應(yīng)的振幅透射率和相位延遲。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有連續(xù)振幅和相位調(diào)控的亞波長孔結(jié)構(gòu)陣列,其特征在于:在光學(xué)器件設(shè)計時,根據(jù)光學(xué)器件振幅透射率和相位延遲在平面空間分布的要求,在空間相應(yīng)位置采用滿足對應(yīng)振幅透射率、相位延遲要求的雙層孔結(jié)構(gòu)單元(t1,t2,D1,D2),便可以實現(xiàn)器件所需的振幅透射率和相位延遲的空間分布,達到光學(xué)器件所設(shè)計的功能。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有連續(xù)振幅和相位調(diào)控的亞波長孔結(jié)構(gòu)陣列,其特征在于:根據(jù)所需要的最大等效折射率,確定所需要的填充材料,在雙層孔結(jié)構(gòu)單元內(nèi)填充折射率為ncore的介質(zhì)材料,其中ncore大于空氣的折射率nair=1,使其等效折射率的實部最大值為填充介質(zhì)的折射率ncore,這樣在不改變金屬孔深度t2前提下,使光程增加到ncoret2,從而提高雙層金屬孔的相位調(diào)控范圍;同時,填充介質(zhì)可以提高金屬孔對光場的徑向約束,即減小金屬孔內(nèi)等效波長,從而可以減小陣列的周期a,提高振幅、相位連續(xù)調(diào)控的空間分辨率。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于重慶大學(xué),未經(jīng)重慶大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410317149.2/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





