[發(fā)明專利]一種具有連續(xù)振幅和相位調(diào)控的亞波長孔結(jié)構(gòu)陣列有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410317149.2 | 申請日: | 2014-07-04 |
| 公開(公告)號: | CN104076531B | 公開(公告)日: | 2017-06-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳剛;溫中泉;陳李;何應(yīng)虎 | 申請(專利權(quán))人: | 重慶大學(xué) |
| 主分類號: | G02F1/01 | 分類號: | G02F1/01 |
| 代理公司: | 重慶華科專利事務(wù)所50123 | 代理人: | 康海燕 |
| 地址: | 400030 *** | 國省代碼: | 重慶;85 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 連續(xù) 振幅 相位 調(diào)控 波長 結(jié)構(gòu) 陣列 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光場調(diào)控技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及可實現(xiàn)對入射電磁波的相位和振幅進(jìn)行連續(xù)調(diào)控的亞波長結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
亞波長結(jié)構(gòu)能實現(xiàn)對入射電磁波的相位和振幅進(jìn)行調(diào)控,可應(yīng)用于各種電磁波功能器件中。實現(xiàn)同時對相位和振幅的連續(xù)調(diào)控是電磁波功能器件的關(guān)鍵。在微納光學(xué)器件中,通常采用的二值振幅調(diào)控或者純相位調(diào)控,往往不能得到最優(yōu)的光學(xué)設(shè)計,這大大限制了微納光學(xué)器件工作性能。實現(xiàn)對光波振幅和相位的連續(xù)調(diào)控,將增加微納光學(xué)器件的設(shè)計自由度,并極大提升微納光學(xué)器件的性能。
1、現(xiàn)有技術(shù)對于相位的調(diào)控,通常是采用單層金屬孔(或縫),通過改變孔的直徑(或縫的長、寬)來控制單層金屬孔(或縫)等效折射率neff=nR+inI。對于單層圓形理想金屬孔,其等效折射率可以表示為:
(公式1)
其中ncore為金屬孔填充介質(zhì),χ′mn為第一類m階Bessel函數(shù)的一階導(dǎo)數(shù)等于零的第n個解;χmn為第一類m階Bessel函數(shù)等于零的第n個解;λ為光波長;D為金屬孔直徑。例如:對于365nm的入射波長,單層理想金屬孔單元等效折射率實部nR和虛部nI隨金屬孔直徑D的變化關(guān)系如圖1所示
如圖1所示,對于理想金屬孔,入射光波長λ=365nm,當(dāng)金屬孔直徑D小于臨界直徑Dc=216nm時,光通過金屬孔后表現(xiàn)出純振幅衰減;而當(dāng)直徑D大于臨界直徑Dc=216nm時,光通過金屬孔后表現(xiàn)出純相位增加;因此,對于單個尺寸的金屬孔無法同時實現(xiàn)對相位和振幅的連續(xù)調(diào)節(jié)。
目前,一般是采用直徑大于Dc的單層金屬孔來實現(xiàn)等效折射率實部nR的控 制,而相位延遲由等效折射率實部與孔深度的乘積nRt決定。因此,可以通過調(diào)節(jié)孔的深度t或直徑D(大于Dc)來實現(xiàn)對光波相位延遲。該相位延遲很容易根據(jù)公式1中給出的等效折射率解析計算公式得到,這種相位延遲的函數(shù)關(guān)系比較明顯,中國發(fā)明專利CN200710176013.4”一種三維亞波長金屬透鏡”和CN200810104602.6”一種深度調(diào)制三維亞波長金屬結(jié)構(gòu)透鏡”所報道的相位調(diào)控就是采用這種方式,但它們都只是實現(xiàn)了相位的調(diào)控。
對于相位調(diào)控,也有人提出采用亞波長金屬柱陣列來實現(xiàn)相位的連續(xù)調(diào)控,參見文獻(xiàn)L.Verslegers,P.B.Catrysse,Z.Yu,W.Shin,Z.C.Ruan,and S.Fan,“Phase front design with metallic pillar arrays,”O(jiān)pt.Lett.Vol.35,pp.844-846(2010)。
2、對于振幅調(diào)控,目前主要是通過孔或者縫實現(xiàn)簡單的透光和不透光兩種模式,開孔(縫)的地方透光,不開孔(縫)的地方不透光,也就是二值(0或1)振幅調(diào)控;相關(guān)文獻(xiàn)有:
(1)T.Liu,J.Tan,J.Liu,and H.Wang,“Vectorial design of super-oscillatory lens,”O(jiān)pt.Express,Vol.21,pp.15090-15101(2013)。
(2)E.T.F.Rogers,J.Lindberg,T.Roy,S.Savo,J.E.Chad,M.R.Dennis,and N.I.Zheludev,“A super-oscillatory lens optical microscope for subwavelength imaging,”Nat.Mater.Vol.11,pp.432-435(2012)。
(3)V.V.Kotlyar,S.S.Stafeev,Y.Liu,L.O’Faolain,and A.A.Kovalev,“Analysis of the shape of a subwavelength focal spot for the linearly polarized light,”Appl.Opt.Vol.52,pp.330-339(2013)。
現(xiàn)有技術(shù)中還未見有同時實現(xiàn)連續(xù)振幅、連續(xù)相位調(diào)控的結(jié)構(gòu)報道。然而,同時實現(xiàn)連續(xù)振幅、連續(xù)相位調(diào)控在光學(xué)器件設(shè)計中具有巨大的優(yōu)勢,即振幅值和相位值的任意組合在光學(xué)器件中有著重要的作用,尤其是對于光學(xué)聚焦器件。
發(fā)明內(nèi)容
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





