[發(fā)明專利]具有微槽不粘表面的安裝夾具

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410306477.2
• 申請(qǐng)日: 2014-06-30
• 公開（公告）號(hào): CN104253078A
• 公開（公告）日: 2014-12-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 尼爾·牛頓
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 朗姆研究公司
• 主分類號(hào): H01L21/687
• 分類號(hào): H01L21/687
• 代理公司: 上海勝康律師事務(wù)所 31263
• 代理人: 李獻(xiàn)忠

技術(shù)領(lǐng)域

本公開涉及具有一個(gè)或一個(gè)以上的微槽不粘表面并用于繞襯底支承體安裝彈性帶的安裝夾具、以及使用該安裝夾具的方法。

背景技術(shù)

集成半導(dǎo)體電路已變成大多數(shù)電子系統(tǒng)的主要的組件。這些微型電子設(shè)備可以含有數(shù)千晶體管、組成存儲(chǔ)器的其他電路、微機(jī)中央處理單元的邏輯子系統(tǒng)、以及其他集成電路。這些電路的低成本、高可靠性和高速度使其變成調(diào)制解調(diào)器數(shù)字電子產(chǎn)品的普遍特征。

集成半導(dǎo)體電路的制造典型地在反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)中發(fā)生，諸如平行板反應(yīng)器或者電感耦合的等離子體反應(yīng)器中發(fā)生。反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)可以包括蝕刻腔室，該蝕刻腔室具有位于其中的上電極或者陽極、以及下電極或者陰極。陰極相對(duì)于陽極和容器壁被負(fù)偏置。要蝕刻的晶片被適當(dāng)?shù)难谀８采w，并直接放置在陰極上。使諸如CF₄、CHF₃、CClF₃、HBr、Cl₂和SF₆等化學(xué)反應(yīng)氣體或者其與O₂、N₂、He或者Ar的混合物導(dǎo)入蝕刻腔室，并維持在典型地為毫乇托范圍的壓強(qiáng)下。上電極設(shè)置有氣孔，其允許氣體經(jīng)由電極均勻分散到腔室。在陽極與陰極之間建立的電場(chǎng)將使反應(yīng)氣體離解，以形成等離子體。晶片的表面通過與活性離子的化學(xué)作用，以及通過撞擊晶片表面的離子的動(dòng)量轉(zhuǎn)移而蝕刻。由電極產(chǎn)生的電場(chǎng)會(huì)將離子吸引到陰極，使離子主要在垂直方向撞擊表面，以便工藝會(huì)產(chǎn)生良好限定的垂直蝕刻的側(cè)壁。

用于反應(yīng)離子蝕刻的等離子體是高腐蝕性物質(zhì)，并且暴露至等離子體的腔室組件表面會(huì)快速降解。腔室組件的該降解是代價(jià)昂貴的，并可導(dǎo)致污染腔室組件、或者污染在腔室中處理的襯底。該降解要求受污染的腔室組件的更換、和/或受污染的腔室組件的清洗。這種腔室組件的更換和/或清洗導(dǎo)致處理腔室的停機(jī)時(shí)間。

包括用于靜電地將襯底夾持到支撐體的靜電吸盤(ESC)的襯底支架是一個(gè)由于暴露至等離子體環(huán)境因而可經(jīng)歷降解的腔室組件。這些類型的襯底支架典型地包括貼附到彼此的多個(gè)組件。例如，支架可以包括通過適當(dāng)?shù)恼澈蟿┍舜私雍系睦鋮s板、加熱元件、和/或陶瓷板。為了將由于暴露至等離子體環(huán)境的降解最小化，通常將彈性帶繞這些組件放置，以保護(hù)粘合劑不會(huì)直接暴露至等離子體環(huán)境，諸如在共同擁有的美國專利No.7,431,788中描述的那樣。然而，彈性帶然后會(huì)直接暴露至等離子體環(huán)境，并從等離子體環(huán)境經(jīng)受降解。彈性帶還在可操作的條件下從壓縮力經(jīng)受降解。

在其中彈性帶圍繞襯底支架安裝的方式還可在彈性帶中產(chǎn)生局部應(yīng)力，這導(dǎo)致彈性帶由于暴露至等離子體環(huán)境進(jìn)一步易受降解的影響。典型地，彈性帶用手以5點(diǎn)星形圖案繞襯底支架安裝。該安裝圖案在彈性體中產(chǎn)生高的局部應(yīng)力區(qū)域，其在彈性體中是較弱的區(qū)域并且當(dāng)暴露到等離子體環(huán)境時(shí)這些區(qū)域受到較大的質(zhì)量損失，從而經(jīng)常導(dǎo)致彈性體的開裂。

因此，需要一種繞襯底支架安裝彈性帶的改善的裝置和方法，使得彈性帶對(duì)于由于暴露至等離子體環(huán)境的降解展示出增大的抗性。

發(fā)明內(nèi)容

本文公開的是一種繞襯底支架安裝彈性帶的彈性帶安裝夾具，其對(duì)由于暴露至等離子體環(huán)境的降解和壓縮力具有增大的抗性。用本文公開的安裝夾具的繞襯底支架安裝的彈性帶可以具有更長(zhǎng)的可操作壽命，因而降低了需要更換彈性帶的頻率。

依據(jù)示例性實(shí)施例，公開了一種環(huán)形安裝夾具，適于繞半導(dǎo)體襯底支架將彈性帶裝載到裝載槽，所述半導(dǎo)體襯底支架用于支承等離子體處理腔室中的半導(dǎo)體襯底，環(huán)形安裝夾具包括：安裝單元，該安裝單元包括：頂環(huán)，頂環(huán)具有一個(gè)或一個(gè)以上的內(nèi)螺紋；夾緊環(huán)；基環(huán)，所述基環(huán)具有一個(gè)或一個(gè)以上的外螺紋，所述一個(gè)或一個(gè)以上的外螺紋被配置為接收頂環(huán)的一個(gè)或一個(gè)以上的內(nèi)螺紋，并且當(dāng)將頂環(huán)拉緊到基環(huán)時(shí)，彈性帶在夾緊環(huán)的下表面與基環(huán)的上表面之間夾緊，并且夾緊表面適于在夾緊環(huán)的下表面和/或基環(huán)的上表面中的至少一個(gè)上釋放彈性帶；以及鎖存和釋放機(jī)構(gòu)，其通過從夾緊環(huán)與基環(huán)之間松開彈性帶，將彈性帶釋放到裝載槽中；以及帶加載機(jī)，其使彈性帶位于安裝單元內(nèi)，在夾緊環(huán)和基環(huán)之間。