[發明專利]一種直線淋釉部件及采用該部件的淋釉機

在審

• 申請號: 201410306187.8
• 申請日: 2014-07-01
• 公開（公告）號: CN104086224A
• 公開（公告）日: 2014-10-08
• 發明（設計）人: 李小成;周超
• 申請（專利權）人: 四川漢莫尼機械設備有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及瓷磚加工領域，具體涉及一種直線淋釉部件及采用該部件的淋釉機。

背景技術

在瓷磚加工領域淋釉機是一種十分常見的加工工具，主要用于為磚坯表面施底釉及面釉。

現有淋釉機的淋釉部件結構復雜、操作不便，同時在長時間使用后不易清洗，維護成本也較高，并且目前淋釉機所普遍應用的鐘罩式淋釉部件施釉效果不夠理想，經常會出現施釉表面中間釉面薄兩側釉面厚，且會產生邊緣波浪紋的現象。

因此，如何簡化淋釉機的淋釉部件，同時避免淋釉時施釉表面中間釉面薄兩側釉面厚和產生邊緣波浪紋的現象發生，成為本領域技術人員亟需解決的技術問題。

發明內容

本發明的目的在于針對現有技術的不足，提供一種直線淋釉部件及采用該部件的淋釉機，該直線淋釉部件在簡化了現有的淋釉部件的同時，避免了現有的淋釉部件淋釉時施釉表面中間釉面薄兩側釉面厚現象的發生，同時也防止了邊緣波浪紋的產生，并且該直線淋釉部件與現有技術相比可以極大的節約釉料和淋釉加工的時間，因而更為節能環保。

為實現上述目的，本發明提供以下技術方案：

一種直線淋釉部件，包括：

依次連接的直線淋釉上罩和直線淋釉下罩，直線淋釉上罩包括第一釉液緩沖池、第二釉液緩沖池和位于第一釉液緩沖池、第二釉液緩沖池之間的釉液緩沖擋板。

一種采用該直線淋釉部件的淋釉機，包括：

入釉裝置和主體，其中入釉裝置包括臂形支架、用于對臂形支架進行定位的臂形支架立柱及用于對臂形支架進行調節的臂形支架調節裝置，臂形支架上設有上釉斗。主體包括支架和直線淋釉部件，支架上設置有接釉盤調節裝置和直線淋釉部件調節裝置，接釉盤調節裝置上設置有接釉盤，直線淋釉部件設置于直線淋釉部件調節裝置頂部；該直線淋釉部件包括直線淋釉上罩和直線淋釉下罩，直線淋釉上罩設置于所述直線淋釉下罩之上，并與直線淋釉下罩相貼和，直線淋釉上罩中設置有釉液緩沖擋板，釉液緩沖擋板將直線淋釉上罩分為第一釉液緩沖池和第二釉液緩沖池。

從上述技術方案可以看出，本發明提供的直線淋釉部件通過設置直線淋釉上罩和直線淋釉下罩，取代了現有的鐘罩式淋釉機上復雜的淋釉部件，從而在簡化了結構使得清洗和使用更加方便的同時降低了維護的成本，并且彌補了現有的鐘罩式淋釉部件在施釉時釉面上會出現邊緣波浪紋的不足，進而改善了施釉效果，該直線淋釉部件通過第一釉液緩沖池、第二釉液緩沖池、釉液緩沖擋板及釉液溢流擋板的設置，可以對流入的釉液起到很好的緩沖作用，進而消除了釉液中的氣泡，并且可以使得出釉更為均勻，同時該直線淋釉部件與現有技術相比可以極大地解決釉料和施釉時間，因此具有節能環保的優點。

本發明還提供一種采用該直線淋釉部件的淋釉機，由于該直線淋釉部件具有上述技術效果，因此采用該直線淋釉部件的淋釉機也同樣具有上述技術效果。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本申請的進一步理解，構成本申請的一部分，在這些附圖中使用相同的參考標號來表示相同或相似的部分，本申請的示意性實施例及其說明用于解釋本申請，并構成對本申請的不當限定。在附圖中：

圖1為直線淋釉部件的結構示意圖。

圖2為淋釉機的結構示意圖。

圖3為直線淋釉部件的左視圖。

圖4為直線淋釉上罩的俯視圖。

其中：1、側導流板；2、釉液流出口；3、第二釉液緩沖池；4、釉液緩沖擋板；5、第一釉液緩沖池；6、后擋板；7、下板；8、直線淋釉上罩；9、上罩導流側壁；10、釉液溢流擋板；11、直線淋釉下罩；12、下罩導流板；13、臂形支架立柱；14、臂形支架調節裝置；15、臂形支架；16、上釉斗；17、直線淋釉部件；18、接釉盤；19、接釉盤調節裝置；20、直線淋釉部件調節裝置；21、支架；22、入釉裝置；23、主體。

具體實施方式

為使本申請的目的、技術方案和優點更加清楚，以下結合附圖及具體實施例，對本申請作進一步地詳細說明。

在以下描述中，對“一個實施例”、“實施例”、“一個示例”、“示例”等等的引用表明如此描述的實施例或示例可以包括特定特征、結構、特性、性質、元素或限度，但并非每個實施例或示例都必然包括特定特征、結構、特性、性質、元素或限度。另外，重復使用短語“根據本申請的一個實施例”雖然有可能是指代相同實施例，但并非必然指代相同的實施例。

為簡單起見，以下描述中省略了本領域技術人員公知的某些技術特征。