[發明專利]一種直線淋釉部件及采用該部件的淋釉機

在審

• 申請號: 201410306187.8
• 申請日: 2014-07-01
• 公開（公告）號: CN104086224A
• 公開（公告）日: 2014-10-08
• 發明（設計）人: 李小成;周超
• 申請（專利權）人: 四川漢莫尼機械設備有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種直線淋釉部件，其特征在于：包括直線淋釉上罩（8）和直線淋釉下罩（11），所述直線淋釉上罩（8）包括第一釉液緩沖池（5）、第二釉液緩沖池（3）和位于第一釉液緩沖池（5）、第二釉液緩沖池（3）之間的釉液緩沖擋板（4）。

2.根據權利要求1所述的直線淋釉部件，其特征在于：所述直線淋釉上罩（8）包括下板（7）、位于下板（7）上的上罩導流側壁（9）、后擋板（6），及釉液溢流擋板（10），所述釉液溢流擋板（10）底部設置有釉液流出口（2）。

3.根據權利要求2所述的直線淋釉部件，其特征在于：所述釉液流出口（2）為長方形凹口狀結構。

4.根據權利要求1所述的直線淋釉部件，其特征在于：所述后擋板（6）和所述上罩導流側壁（9）的高度均高于所述釉液緩沖擋板（4）的高度，所述釉液緩沖擋板（4）的高度高于所述釉液溢流擋板（10）的高度。

5.根據權利要求1所述的直線淋釉部件，其特征在于：所述直線淋釉下罩（11）兩側設置有側導流板（1）。

6.一種淋釉機，其特征在于：包括入釉裝置（22）和主體（23），所述主體（23）上包含有如權利要求1至6中任一所述的直線淋釉部件。

7.根據權利要求6所述的淋釉機，其特征在于：所述入釉裝置（22）包括臂形支架（15）、用于對臂形支架（15）進行定位的臂形支架立柱（13）及用于對臂形支架（15）進行調節的臂形支架調節裝置（14），所述臂形支架（15）上設有上釉斗（16）。

8.根據權利要求6所述的淋釉機，其特征在于：所述主體（23）包括直線淋釉部件（17）、用來固定直線淋釉部件（17）的支架（21）及設置于所述直線淋釉部件（17）下方的接釉盤（18）；所述支架（21）上設置有接釉盤調節裝置（19）和直線淋釉部件調節裝置（20），所述接釉盤調節裝置（19）與所述接釉盤（18）相連接，所述直線淋釉部件（17）設置于所述直線淋釉部件調節裝置（20）頂部。