[發明專利]磁記錄介質用無堿玻璃及使用該無堿玻璃的磁記錄介質用玻璃基板

在審

• 申請號: 201410301365.8
• 申請日: 2014-06-27
• 公開（公告）號: CN104250065A
• 公開（公告）日: 2014-12-31
• 發明（設計）人: 野村周平;小野和孝;秋山順;中島哲也;西澤學
• 申請（專利權）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: C03C3/087
• 分類號: C03C3/087;B24B7/24
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 于潔;王海川

技術領域

本發明涉及適合作為磁記錄介質用基板玻璃、實質上不含有堿金屬氧化物并且能夠浮法成形的無堿玻璃。

另外，本發明涉及使用上述無堿玻璃的磁記錄介質用玻璃基板。

背景技術

以往，對于磁記錄介質用基板玻璃、特別是在表面上形成金屬或氧化物薄膜等的磁記錄介質用基板玻璃，要求例如專利文獻1示出的以下所示的特性。

(1)含有堿金屬氧化物時，會與空氣中的水、二氧化碳反應而在基板表面生成反應產物，所謂的耐候性降低，從而使磁記錄層劣化，因此，優選堿金屬離子少。

(2)磁記錄介質用玻璃基板的制造工序中，大多使用含有二氧化鈰磨粒的漿料進行研磨。并且，為了清洗除去研磨后的漿料而使用pH為2以下的強酸性洗滌液或pH為12以上的強堿性洗滌液，對這些化學品要具有充分的化學耐久性。

(3)內部和表面要沒有缺陷(氣泡、波筋、夾雜物、麻坑、傷痕等)。

(4)研磨或清洗后的基板表面要足夠平滑。

(5)為了不產生硬盤驅動器的旋轉中的翹曲、撓曲，比彈性模量要高。

(6)為了不發生破裂，強度要高。

在上述要求的基礎上，近年來出現了如下所述的狀況。

(7)為了減輕硬盤驅動器旋轉時的電動機負荷、降低耗電量，要求磁盤的輕量化，玻璃本身也期望為密度小的玻璃。

(8)基于磁記錄介質的輕量化的要求，期望基板玻璃的薄板化。

(9)為了加快磁記錄層成膜時的升溫和降溫速度而提高生產率或者提高耐熱沖擊性，要求玻璃的線膨脹系數小的玻璃。

另一方面，在制造磁記錄介質用基板時，為了將玻璃基板的主表面精加工至平滑，對該主表面進行鏡面研磨(參考專利文獻2)。上述鏡面研磨中，使研磨墊與玻璃基板的主表面接觸，向該玻璃基板的主表面供給含有研磨磨粒的酸性(pH1～3)的研磨液，并使該玻璃基板與上述研磨墊相對移動而對該玻璃基板的主表面進行研磨。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2012-106908號公報

專利文獻2：日本特開2007-257810號公報

發明內容

發明所要解決的問題

隨著磁記錄介質的薄板化和記錄密度的高密度化的發展，要求進一步減小硬盤驅動器旋轉中的翹曲、撓曲。另外，對磁記錄介質的實用強度的要求也提高，為了應對該要求，提高基板玻璃的斷裂韌性是有用的。

因此，對于磁記錄介質用基板玻璃而言，為了減小硬盤驅動器旋轉中的翹曲、撓曲而要求高比彈性模量，并且，為了提高斷裂韌性而要求高楊氏模量。

另外，在薄膜形成工序中暴露于高溫時，為了將玻璃的變形和玻璃的結構穩定化所伴隨的收縮(熱收縮)抑制在最小限度，要求玻璃化轉變溫度高。

另外，近年來，伴隨著硬盤驅動器的記錄容量的增大，高記錄密度化正在快速發展。但是，伴隨著高記錄密度化，磁性粒子的微細化會損害熱穩定性，串擾、再生信號的SN比降低成為問題。因此，作為光與磁的融合技術，熱輔助磁記錄技術受到關注。該技術是在使對磁記錄層照射激光或近場光而局部加熱后的部分的矯頑力降低的狀態下施加外部磁場來進行記錄、并利用GMR元件等讀取記錄磁化的技術，由于能夠在高保持力介質上進行記錄，因此，能夠在保持熱穩定性的同時使磁性粒子微細化。但是，為了將高保持力介質成膜為多層膜，需要將基板充分加熱，從而要求耐熱性。在垂直磁記錄方式中，為了應對高記錄密度化的要求，也提出了與以往不同的磁記錄層，但這種磁記錄層的成膜大多需要使基板達到高溫來進行。基于上述理由，也要求玻璃化轉變溫度高。

本發明的目的在于提供比彈性模量高且楊氏模量高、玻璃化轉變溫度高、化學耐久性高、密度低、強度高并且容易浮法成形的磁記錄介質用無堿玻璃及使用該無堿玻璃的磁記錄介質用玻璃基板。

另外，本發明的目的在于提供在實施鏡面研磨時玻璃基板主表面的表面粗糙度的劣化得到抑制的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法。

用于解決問題的手段

本發明提供一種磁記錄介質用無堿玻璃，其中，

楊氏模量為90GPa以上，

以基于氧化物的質量％計含有：

SiO₂+Al₂O₃為70質量％以上且90質量％以下。

另外，本發明提供一種磁記錄介質用玻璃基板，其使用本發明的磁記錄介質用無堿玻璃制成。