[發明專利]磁記錄介質用無堿玻璃及使用該無堿玻璃的磁記錄介質用玻璃基板

在審

• 申請號: 201410301365.8
• 申請日: 2014-06-27
• 公開（公告）號: CN104250065A
• 公開（公告）日: 2014-12-31
• 發明（設計）人: 野村周平;小野和孝;秋山順;中島哲也;西澤學
• 申請（專利權）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: C03C3/087
• 分類號: C03C3/087;B24B7/24
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 于潔;王海川

1.一種磁記錄介質用無堿玻璃，其中，

楊氏模量為90GPa以上，

以基于氧化物的質量％計含有：

SiO₂+Al₂O₃為70質量％以上且90質量％以下。

2.如權利要求1所述的磁記錄介質用無堿玻璃，其中，比彈性模量為35GPa·cm³/g以上。

3.如權利要求1或2所述的磁記錄介質用無堿玻璃，其中，玻璃化轉變溫度為740℃以上。

4.如權利要求1～3中任一項所述的磁記錄介質用無堿玻璃，其中，粘度η達到10²泊時的溫度T₂為1730℃以下。

5.如權利要求1～4中任一項所述的磁記錄介質用無堿玻璃，其中，粘度η達到10⁴泊時的溫度T₄為1370℃以下。

6.一種磁記錄介質用玻璃基板，其使用權利要求1～5中任一項所述的磁記錄介質用無堿玻璃制成。

7.一種磁盤用玻璃基板的制造方法，包括使用研磨墊和含有研磨磨粒的pH小于7的研磨液對玻璃基板的主表面進行鏡面研磨的鏡面研磨工序，并且使用權利要求1～5中任一項所述的磁記錄介質用無堿玻璃來制造磁盤用玻璃基板，所述制造方法的特征在于，

所述鏡面研磨工序中，在由下述式(1)導出的玻璃成分的溶出速率f(μg·cm^-2·分鐘^-1)滿足下述式(2)的條件下實施鏡面研磨，

f＝f₀·10^α·pH+β·exp(-γ/T)??(1)

式(1)中，f₀＝7.93×10⁶，關于α、β，在所述無堿玻璃的SiO₂含量w為60質量％以上時，α＝0.0121×w-1.46、β＝-0.0868×w+4.38，在所述無堿玻璃的SiO₂含量w小于60質量％時，α＝0.0562×w-4.07、β＝-0.381×w+21.8，pH為研磨液的pH值，γ＝5.81×10³，

1×10^-3≤f≤1??(2)。