[發明專利]可調整曝光強度的曝光系統在審
| 申請號： | 201410298957.9 | 申請日： | 2014-06-27 |
| 公開（公告）號： | CN105319856A | 公開（公告）日： | 2016-02-10 |
| 發明（設計）人： | 陳贊仁;田中智樹;施誌華 | 申請（專利權）人： | 東捷科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G02B26/08 |
| 代理公司： | 廣東國欣律師事務所 44221 | 代理人： | 李文 |
| 地址： | 中國臺灣臺南*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 可調整 曝光 強度 系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種曝光系統，其特征在于，包括：
一光源裝置，產生一光線；
一控制裝置，產生一控制訊號；
一光線調配裝置，接收該光線，且具有多個反射單元，每一反射單元具有多個反射鏡，且依據該控制訊號控制每一反射單元的反射鏡運作，該數個反射單元分別將該光線調配成對應的多個調配光線，并調整該數個調配光線的光強度；
一第一光學裝置；
一第二光學裝置；及
一透鏡陣列裝置，位于該第一光學裝置與該第二光學裝置之間，且具有多個透鏡，是一對一地對應該光線調配裝置的反射單元；其中，該數個反射單元調配的該數個調配光線系依序通過該第一光學裝置、該透鏡陣列裝置的透鏡及該第二光學裝置。
2.根據權利要求1所述的曝光系統，其特征在于，該光線調配裝置為一數位微型反射鏡元件。
3.根據權利要求1所述的曝光系統，其特征在于，該透鏡陣列裝置為一微型透鏡陣列。
4.根據權利要求1所述的曝光系統，其特征在于，該光源裝置包括一發光元件、一光線瞄準器及一反射器，該發光元件產生該光線，該光線瞄準器接收該光線，且將該光線調配成一平行光線，該反射器接收該平行光線，并反射至該光線調配裝置。
5.根據權利要求1所述的曝光系統，其特征在于，該控制裝置的控制訊號控制每一反射單元的反射鏡的擺動角度。
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