[發明專利]可調整曝光強度的曝光系統

在審

• 申請號: 201410298957.9
• 申請日: 2014-06-27
• 公開（公告）號: CN105319856A
• 公開（公告）日: 2016-02-10
• 發明（設計）人: 陳贊仁;田中智樹;施誌華
• 申請（專利權）人: 東捷科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B26/08
• 代理公司: 廣東國欣律師事務所 44221
• 代理人: 李文

技術領域

本發明是與曝光系統有關，特別是指一種可調整曝光強度的曝光系統。

背景技術

如美國第6876494號專利案，其揭露一種成像裝置(imagingformingapparatus)。該專利的一光線調配元件的多個像素單元是一對一地對應微型透鏡陣列的微型透鏡，如此，藉由光線調配元件反射的光線，在通過微型透鏡陣列后，光線的強度都是相同的，而不能控制光線的強度，也就是說，曝光作業時只能控制是否對工作面進行曝光，而無法控制曝光面的每一點的曝光強度。

此外，若要加強工作面的曝光強度，傳統只能藉由改變光源的光線強度或者改變曝光時間。選擇改變光源的光線強度必須提高光源的功率，這樣不僅會增加成本，也會造成控制上不方便。選擇改變曝光時間，則會增加曝光作業的時間。

發明內容

有鑒于上述的缺失，本發明提供一種曝光系統，其可控制工作面的曝光強度，且不需要改變光源的功率及增加曝光時間，而可有效提高曝光作業效率。再者，本發明的曝光系統還可針對工作面的每一點提供不同曝光強度的曝光量。

本發明的曝光系統包括一光源裝置、一控制裝置、一光線調配裝置、一第一光學裝置、一第二光學裝置及一透鏡陣列裝置。光源裝置產生一光線。控制裝置產生一控制訊號。光線調配裝置接收光線，且具有多個反射單元。每一反射單元具有多個反射鏡，且依據控制訊號控制每一反射單元的反射鏡運作。該數個反射單元分別將光線調配成對應的多個調配光線，并調整該數個調配光線的強度。透鏡陣列裝置位于第一及第二光學裝置之間，且有多個透鏡。該數個透鏡一對一地對應光線調配裝置的反射單元。其中，該數個反射單元調配的該數個調配光線依序通過第一光學裝置、透鏡陣列裝置的透鏡及第二光學裝置。

如此，本發明的曝光系統可藉由控制訊號來控制每一反射單元的反射鏡擺動運作，進而達到調整調配光線的強度，且控制訊號可個別控制每一反射單元反射的調配光線的強度，因此，本發明的曝光系統不僅可控制工作面的曝光強度，還可針對工作面的每一點提供不同曝光強度的曝光量。

有關本發明所提供的曝光系統的詳細構造、特點、或使用方式，將于后續的實施方式詳細說明中予以描述。然而，在本發明領域中具有通常知識者應能了解，該詳細說明以及實施本發明所列舉的特定實施例，僅用于說明本發明，并非用以限制本發明的專利申請范圍。

附圖說明

圖1是本發明的曝光系統的示意圖。

圖2是圖1中曝光系統省略光源裝置及控制裝置的局部放大示意圖。

圖3是圖1中光線調配裝置的示意圖。

圖4是圖3中的局部放大示意圖。

圖5A是圖3中其中一反射單元的一個反射鏡作動的示意圖。

圖5B圖是圖5A中反射鏡反射光線對基材的工作面曝光的示意圖。

圖6A是圖3中其中一反射單元的五個反射鏡作動的示意圖。

圖6B是圖6A中反射鏡反射光線對基材的工作面曝光的示意圖。

圖7A是圖3中其中一反射單元的全部反射鏡作動的示意圖。

圖7B是圖7A中反射鏡反射光線對基材的工作面曝光的示意圖。

具體實施方式

以下，茲配合各圖式列舉對應的較佳實施例來對本發明的曝光系統的組成構件及達成功效來作說明。然各圖式中曝光系統的構件、尺寸及外觀僅用來說明本發明的技術特征，而非對本發明構成限制。

如圖1及2所示，本發明的曝光系統10包括一光源裝置11、一控制裝置12、一光線調配裝置13、一第一光學裝置14、一第二光學裝置15及一透鏡陣列裝置16。

光源裝置11是用以產生一光線L，且包括一發光元件111、一光線瞄準器112及一反射器113。發光元件111產生光線L，光線瞄準器112接收光線L，且將光線調配成一平行光線L_P，也就是說，光線瞄準器112可控制光線L的投射方向，光線瞄準器112可以是光學透鏡、光纖總成等。反射器113接收平行光線L_P，并將平行光線L_P反射，于此實施例中，反射器113是反射鏡。

控制裝置12產生一控制訊號，于此實施例中，控制裝置可以是計算機或其他專用設備。