[發明專利]一種新型磁控軸瓦濺鍍機

有效

• 申請號: 201410296566.3
• 申請日: 2014-06-27
• 公開（公告）號: CN104060233A
• 公開（公告）日: 2014-09-24
• 發明（設計）人: 木儉樸
• 申請（專利權）人: 山東大豐軸瓦有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 山東舜天律師事務所 37226
• 代理人: 呂志彬

1.一種新型磁控軸瓦濺鍍機，包括濺渡殼體（1），濺渡殼體（1）內設有濺渡腔（2），所述濺渡腔（8）設有濺射靶支撐架（3）和軸瓦支撐架（4），所述濺渡殼體（1）底部設有底座（7），其特征在于：所述濺射靶支撐架（3）和所述軸瓦支撐架（4）設置在濺渡殼體（1）底部底座（7）上，所述濺射靶支撐架（3）中間設有濺射靶架軸（10），所述濺射靶架軸（10）底部設有旋轉環（11），所述旋轉環（11）通過連接桿（6）與濺射靶架軸（10）一側的濺射靶支撐架（3）邊緣連接,所述濺渡殼體（1）最下方設有電機，所述旋轉環（11）與所述電機輸出軸相連接。

2.根據權利要求1所述一種新型磁控軸瓦濺鍍機，其特征在于：所述濺射靶架軸（10）兩側的濺射靶支撐架（3）各活動設有一塊濺射靶（2），所述所述濺射靶（2）的雙面設有凹槽，正面凹槽的底面為鎳靶、背面凹槽的底面合金靶。

3.根據權利要求1所述一種新型磁控軸瓦濺鍍機，其特征在于：軸瓦支撐架（4）表面設有多個掛柱（9），軸瓦支撐架（4）各獨自連接一個軸瓦支撐架旋轉電機。