[發(fā)明專(zhuān)利]小波中值近紅外光譜去噪方法和裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410293139.X | 申請(qǐng)日: | 2014-06-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104020136A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙健;劉永福;何國(guó)田;徐澤宇;林遠(yuǎn)長(zhǎng);朱曉強(qiáng);何驥鳴;吳姣嬌;何瑞英;石珍 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院重慶綠色智能技術(shù)研究院 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N21/359 | 分類(lèi)號(hào): | G01N21/359 |
| 代理公司: | 成都賽恩斯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 51212 | 代理人: | 張帆;肖國(guó)華 |
| 地址: | 400714 *** | 國(guó)省代碼: | 重慶;85 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 中值 紅外 光譜 方法 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及近紅外光譜信號(hào)預(yù)處理技術(shù),特別涉及一種小波中值近紅外光譜去噪方法和裝置。
背景技術(shù)
近紅外光譜分析技術(shù)是在分析化學(xué)領(lǐng)域迅速發(fā)展的高新分析技術(shù),其具有無(wú)破壞、無(wú)污染、分析重現(xiàn)性好、成本低等優(yōu)點(diǎn),廣泛應(yīng)用于石油化工、農(nóng)業(yè)、食品等行業(yè)。近紅外光譜是指近紅外的吸收光譜在波長(zhǎng)780nm-2500nm范圍內(nèi),近紅外光譜可以有效的反映出樣品中有機(jī)分子含氫基團(tuán)的特征信息。因此,可以用近紅外光譜分析技術(shù)對(duì)化合物中C-H、O-H、N-H等含氫原子團(tuán)進(jìn)行定量分析。
然而,探測(cè)器采集到的原始光譜信號(hào)存在一定的噪聲。其中主要是由于環(huán)境、儀器等的影響而造成的,而噪聲對(duì)定量分析模型的預(yù)測(cè)精度有著較大的影響。目前常用的信號(hào)去噪方法有均值濾波、中值濾波、小波閾值去噪等。其中小波閾值對(duì)于高斯噪聲去噪的效果明顯優(yōu)于均值濾波和中值濾波。但是對(duì)于脈沖噪聲的去噪效果不佳。而中值濾波可以有效的去除脈沖噪聲。專(zhuān)利(201210138387.8)中采用使用平穩(wěn)小波變換對(duì)光譜信號(hào)去噪。該方法中沒(méi)有考慮到小波變換存在的層內(nèi)相關(guān)性和小波去噪不能很好的去除脈沖噪聲的不足。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服小波閾值去噪中對(duì)脈沖噪聲不能很好濾波的不足,本發(fā)明提出了小波中值近紅外光譜去噪方法和裝置。
作為本發(fā)明的第一方面,提供了一種小波中值近紅外光譜去噪方法,包括:步驟1,對(duì)光譜信號(hào)進(jìn)行小波變換,從而得到各層的小波系數(shù);步驟2,根據(jù)設(shè)定的上閾值和下閾值對(duì)近紅外光譜進(jìn)行小波閾值去噪;步驟3,將經(jīng)過(guò)去噪后的小波系數(shù)根據(jù)小波逆變換進(jìn)行重構(gòu);步驟4,對(duì)重構(gòu)后的光譜進(jìn)行極值中值濾波,從而得到去噪后的光譜。
進(jìn)一步地,步驟2包括:步驟21,將大于上閾值的小波系數(shù)保留,小于下閾值的小波系數(shù)置零。
進(jìn)一步地,步驟2還包括:步驟22,判斷所述上閾值和下閾值之間的小波系數(shù)的鄰域是否存在大于所述上閾值的小波系數(shù),如果有,則判斷該小波系數(shù)為有用信號(hào)的小波系數(shù),并保留;否則判斷該小波系數(shù)為噪聲的小波系數(shù),并置零。
進(jìn)一步地,步驟4包括:步驟41,根據(jù)光譜數(shù)據(jù)點(diǎn)是否為其鄰域的極大或極小值點(diǎn)、及該光譜數(shù)據(jù)點(diǎn)的方差判斷該光譜數(shù)據(jù)點(diǎn)是否為脈沖噪聲點(diǎn);步驟42,對(duì)信號(hào)點(diǎn)集的光譜保留,對(duì)脈沖噪聲點(diǎn)集的光譜進(jìn)行中值濾波。
進(jìn)一步地,步驟41具體包括:
(1)當(dāng)min(W[xi])<xi<max(W[xi])時(shí),
xi∈S
(2)當(dāng)min(W[xi])=xi或xi=max(W[xi])
其中,S為信號(hào)點(diǎn)集,N為脈沖噪聲點(diǎn)集,var(xi)是以xi為中心的窗口內(nèi)光譜數(shù)據(jù)的方差,var(xi-1)、var(xi+1)是xi左右相鄰窗口內(nèi)光譜數(shù)據(jù)的方差,W[Xi]是以xi為中心的窗口內(nèi)的小波系數(shù),min(W[xi])是W[xi]中的最小值,max(W[xi])是W[xi]中的最大值。
作為本發(fā)明的第二方面,提供了一種小波中值近紅外光譜去噪裝置,包括:變換模塊,用于對(duì)光譜信號(hào)進(jìn)行小波變換,從而得到各層的小波系數(shù);閾值去噪模塊,用于根據(jù)設(shè)定的上閾值和下閾值對(duì)近紅外光譜進(jìn)行小波閾值去噪;重構(gòu)模塊,用于將經(jīng)過(guò)去噪后的小波系數(shù)根據(jù)小波逆變換進(jìn)行重構(gòu);濾波模塊,用于對(duì)重構(gòu)后的光譜進(jìn)行極值中值濾波,從而得到去噪后的光譜。
進(jìn)一步地,閾值去噪模塊包括:第一閾值去噪模塊,用于將大于上閾值的小波系數(shù)保留,小于下閾值的小波系數(shù)置零。
進(jìn)一步地,閾值去噪模塊還包括:第二閾值去噪模塊,用于判斷所述上閾值和下閾值之間的小波系數(shù)的鄰域是否存在大于所述上閾值的小波系數(shù),如果有,則判斷該小波系數(shù)為有用信號(hào)的小波系數(shù),并保留;否則判斷該小波系數(shù)為噪聲的小波系數(shù),并置零。
進(jìn)一步地,濾波模塊包括:第一波濾模塊,用于根據(jù)光譜數(shù)據(jù)點(diǎn)是否為其鄰域的極大或極小值點(diǎn)、及該光譜數(shù)據(jù)點(diǎn)的方差判斷該光譜數(shù)據(jù)點(diǎn)是否為脈沖噪聲點(diǎn);第二波濾模塊,用于對(duì)信號(hào)點(diǎn)集的光譜保留,對(duì)脈沖噪聲點(diǎn)集的光譜進(jìn)行中值濾波。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專(zhuān)用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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