[發(fā)明專利]一種薄膜標(biāo)簽及制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410290226.X
• 申請(qǐng)日: 2014-06-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104077960A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周永新;谷少克;梁景亮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣東萬(wàn)昌印刷包裝有限公司;萬(wàn)昌印刷包裝（沈陽(yáng)）有限公司;成都萬(wàn)昌印刷包裝有限公司;廣東萬(wàn)昌科藝材料有限公司;天津萬(wàn)昌印刷有限公司;洛陽(yáng)萬(wàn)昌印刷包裝有限公司
• 主分類號(hào): G09F3/02
• 分類號(hào): G09F3/02;B32B3/12;B32B27/06;B32B33/00
• 代理公司: 佛山東平知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44307
• 代理人: 詹仲國(guó)

1.一種薄膜標(biāo)簽，包括疊加在一起的防靜電涂層，薄膜層和油墨層，其特征在于，在薄膜標(biāo)簽的底部設(shè)有吸水涂層，該吸水涂層按質(zhì)量百分比包括以下組分：

PVA12～24％，

接枝淀粉42～72％，

酪素酸6～13％，

丙烯酸10～21％。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜標(biāo)簽，其特征在于，在薄膜標(biāo)簽上設(shè)有貫穿薄膜標(biāo)簽上下表面的透氣孔。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的薄膜標(biāo)簽，其特征在于，所述透氣孔均勻分布在薄膜標(biāo)簽上，透氣孔孔徑大小為5nm～50μm，相鄰?fù)笟饪椎目组g距為10nm～2mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜標(biāo)簽，其特征在于，所述薄膜層為BOPP雙面涂布薄膜。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜標(biāo)簽，其特征在于，所述薄膜層的厚度為20μm～100μm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜標(biāo)簽，其特征在于，所述油墨層位于吸水涂層和薄膜層之間，或位于防靜電涂層和薄膜層之間。

7.一種薄膜標(biāo)簽制備方法，其特征在于包括以下步驟：

第一步油墨層制備，將薄膜層置于薄膜支架上，然后按照預(yù)定的圖案，在薄膜層的一側(cè)涂布油墨層；

第二步防靜電涂層制備，在油墨層一側(cè)涂布防靜電涂層；

第三步吸水涂層制備，翻轉(zhuǎn)薄膜支架，在薄膜層的另一側(cè)涂布吸水涂層；所述吸水涂層按質(zhì)量百分比包括：12～24％的PVA，42～72％的接枝淀粉，6～13％的酪素酸和10～21％的丙烯酸；

第四步透氣孔制備，利用打孔工藝在薄膜標(biāo)簽上形成多個(gè)貫穿薄膜標(biāo)簽上下表面的通孔。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種薄膜標(biāo)簽制備方法，其特征在于，第二步和第三步互換，即，先在油墨層一側(cè)形成吸水涂層，然后翻轉(zhuǎn)薄膜支架在薄膜層的另一側(cè)形成防靜電涂層。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種薄膜標(biāo)簽制備方法，其特征在于，所述打孔工藝包括核徑跡打孔，皮秒激光打孔或微激光打孔工藝。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種薄膜標(biāo)簽制備方法，其特征在于，油墨層、防靜電涂層和吸水涂層的涂布都是通過(guò)凹印機(jī)來(lái)實(shí)現(xiàn)的。