[發(fā)明專利]一種牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產(chǎn)方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410279465.5
• 申請日: 2014-06-20
• 公開（公告）號: CN104030303A
• 公開（公告）日: 2014-09-10
• 發(fā)明（設計）人: 湯曉劍;王承輝;王升錦;宮慶權;聶志明;麻煜晶
• 申請（專利權）人: 福建遠翔化工有限公司
• 主分類號: C01B33/18
• 分類號: C01B33/18
• 代理公司: 福州市鼓樓區(qū)博深專利代理事務所(普通合伙) 35214
• 代理人: 林志崢

1.一種牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產(chǎn)方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1、向反應容器內(nèi)加入1～2體積份的去離子水、5～20重量份的鈉鹽和3～5重量份的陰離子表面活性劑，攪拌均勻；

步驟2、調(diào)整反應容器內(nèi)的壓力為0.15～0.5Mpa，溫度為110～150℃，然后向反應容器內(nèi)同時加入5～6體積份的水玻璃和0.6～0.9體積份的稀酸溶液進行反應，調(diào)整水玻璃和稀酸溶液的加入速率使反應容器內(nèi)的溶液PH值控制在9.0～9.2，反應時間為90～120min；

步驟3、反應完成后，向反應容器內(nèi)加入稀酸溶液，將反應容器內(nèi)的溶液酸化至PH值為3.5±0.2；

步驟4、酸化完成后，將反應容器內(nèi)的溶液靜置陳化30～60min，然后依次通過壓濾、洗滌、制漿、噴霧干燥、粉碎，得到牙膏用二氧化硅摩擦劑；

其中，所述體積份∶重量份＝m³∶kg。

2.根據(jù)權利要求1所述的牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產(chǎn)方法，其特征在于：所述去離子水的電導率小于10μS/cm。

3.根據(jù)權利要求1所述的牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產(chǎn)方法，其特征在于：所述鈉鹽為陰離子與稀酸溶液的酸根離子相同的鈉鹽。

4.根據(jù)權利要求1所述的牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產(chǎn)方法，其特征在于：所述陰離子表面活性劑選自月桂基硫酸鈉、十二烷基硫酸鈉、烷基二苯醚二磺酸鹽和脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯中的一種或兩種以上。

5.根據(jù)權利要求1所述的牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產(chǎn)方法，其特征在于：在步驟2中，通過向反應容器內(nèi)的溶液中通入飽和水蒸汽來控制反應容器內(nèi)的壓力為0.15～0.5Mpa，溫度為110～150℃。

6.根據(jù)權利要求1所述的牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產(chǎn)方法，其特征在于：在步驟2中，所述水玻璃和稀酸溶液并流加入到反應容器內(nèi)進行反應。

7.根據(jù)權利要求1所述的牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產(chǎn)方法，其特征在于：所述水玻璃的模數(shù)為2.5～3.5，SiO₂含量為5～18wt％，透明度大于200mm。

8.根據(jù)權利要求1所述的牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產(chǎn)方法，其特征在于：所述稀酸溶液為稀硫酸、稀硝酸、稀鹽酸或稀磷酸，所述稀酸溶液的質(zhì)量分數(shù)為15～30wt％。

9.根據(jù)權利要求1所述的牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產(chǎn)方法，其特征在于：在步驟4中，所述洗滌為先用過濾后的自來水洗滌，再用去離子水洗滌至濾液的電導率小于200μS/cm。

10.根據(jù)權利要求1所述的牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產(chǎn)方法，其特征在于：在步驟4中，粉碎后得到的牙膏用二氧化硅摩擦劑的粒度D50為5～10μm。