[發明專利]一種牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產方法有效
| 申請號: | 201410279465.5 | 申請日: | 2014-06-20 |
| 公開(公告)號: | CN104030303A | 公開(公告)日: | 2014-09-10 |
| 發明(設計)人: | 湯曉劍;王承輝;王升錦;宮慶權;聶志明;麻煜晶 | 申請(專利權)人: | 福建遠翔化工有限公司 |
| 主分類號: | C01B33/18 | 分類號: | C01B33/18 |
| 代理公司: | 福州市鼓樓區博深專利代理事務所(普通合伙) 35214 | 代理人: | 林志崢 |
| 地址: | 354000 福*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 牙膏 二氧化硅 摩擦 生產 方法 | ||
技術領域
本發明涉及二氧化硅生產技術領域,具體說是一種牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產方法。
背景技術
研制和開發牙膏級沉淀法二氧化硅是20世紀60年代起步,在工業技術發達的西方國家中發展和推廣應用。國際上最具實力的廠商是法國羅娜公司、德國德固賽、美國基利斯公司,生產高端牙膏用二氧化硅摩擦劑,而國內生產技術落后,只能生產低端、廉價的產品。
目前,牙膏用二氧化硅摩擦劑都是采用在常壓反應器中合成反應,生產的二氧化硅的顆粒強度、摩擦力普遍較差,對牙齦會造成一定的傷害。
發明內容
為了克服上述現有技術的缺陷,本發明所要解決的技術問題是提供一種牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產方法以生產得到顆粒強度高、摩擦系數大的牙膏用二氧化硅摩擦劑。
為了解決上述技術問題,本發明采用的技術方案為:
一種牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產方法,包括以下步驟:
步驟1、向反應容器內加入1~2體積份的去離子水、5~20重量份的鈉鹽和3~5重量份的陰離子表面活性劑,攪拌均勻;
步驟2、調整反應容器內的壓力為0.15~0.5Mpa,溫度為110~150℃,然后向反應容器內同時加入5~6體積份的水玻璃和0.6~0.9體積份的稀酸溶液進行反應,調整水玻璃和稀酸溶液的加入速率使反應容器內的溶液PH值控制在9.0~9.2,反應時間為90~120min;
步驟3、反應完成后,向反應容器內加入稀酸溶液,將反應容器內的溶液酸化至PH值為3.5±0.2;
步驟4、酸化完成后,將反應容器內的溶液靜置陳化30~60min,然后依次通過壓濾、洗滌、制漿、噴霧干燥、粉碎,得到牙膏用二氧化硅摩擦劑;
其中,所述體積份∶重量份=m3∶kg。
本發明的有益效果在于:
原料價格低廉,工藝流程簡單,生產效率高,產品質量穩定,可工業化生產,制得的牙膏用二氧化硅摩擦劑具有良好的摩擦系數和顆粒強度,且磨蝕適中不會對牙齦造成傷害,能有效吸收和釋放牙膏內的有效成分,與氟化物、洗必泰、血根堿以及中草藥提純的脫敏物質等有更好的相容性,同時透光率高、流動性好,能滿足牙膏用二氧化硅摩擦劑的各項技術指標。
具體實施方式
為詳細說明本發明的技術內容、構造特征、所實現目的及效果,以下結合實施方式詳予說明。
本發明最關鍵的構思在于:將反應置于高溫高壓條件下進行,利用高溫和高壓提高反應生成的二氧化硅在反應母液中的過飽和度,提高反應速率和反應進程,使二氧化硅小的原級粒子迅速溶解增長成大的規則的球形粒子,降低二氧化硅的比表面積,增大二氧化硅粒子的顆粒大小和顆粒強度,減少二氧化硅團聚,使二氧化硅粒子大小均一穩定并提高二氧化硅的透光率、流動性,從而提高產品的摩擦系數和顆粒強度,使產品滿足牙膏用二氧化硅摩擦劑的各項技術指標。此外,利用反應合成時加入鈉鹽和陰離子表面活性劑,對二氧化硅合成反應進行結構的控制,組成立體空間網絡結構,從而提高產品的摩擦系數和顆粒強度的同時保證磨蝕適中不會對牙齦造成傷害,并有效吸收和釋放牙膏內的有效成分,與氟化物、洗必泰、血根堿以及中草藥提純的脫敏物質有更好的相容性。
具體的,本實施方式的牙膏用二氧化硅摩擦劑的生產方法,包括以下步驟:
步驟1、向反應容器內加入1~2體積份的去離子水、5~20重量份的鈉鹽和3~5重量份的陰離子表面活性劑,攪拌均勻;
步驟2、調整反應容器內的壓力為0.15~0.5Mpa,溫度為110~150℃,然后向反應容器內同時加入5~6體積份的水玻璃和0.6~0.9體積份的稀酸溶液進行反應,調整水玻璃和稀酸溶液的加入速率使反應容器內的溶液PH值控制在9.0~9.2,反應時間為90~120min;
步驟3、反應完成后,向反應容器內加入稀酸溶液,將反應容器內的溶液酸化至PH值為3.5±0.2;
步驟4、酸化完成后,將反應容器內的溶液靜置陳化30~60min,然后依次通過壓濾、洗滌、制漿、噴霧干燥、粉碎,得到牙膏用二氧化硅摩擦劑;
其中,所述體積份∶重量份=m3∶kg。
優選的,所述去離子水的電導率小于10μS/cm。
優選的,所述鈉鹽為陰離子與稀酸溶液的酸根離子相同的鈉鹽。比如稀酸溶液選用稀硫酸時,則鈉鹽選用硫酸鈉;稀酸溶液選用稀鹽酸時,則鈉鹽選用氯化鈉。
優選的,所述陰離子表面活性劑選自月桂基硫酸鈉、十二烷基硫酸鈉、烷基二苯醚二磺酸鹽和脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯中的一種或兩種以上。
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