[發(fā)明專利]濕刻蝕設(shè)備及方法

有效

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• 申請日: 2014-06-19
• 公開（公告）號: CN104064456A
• 公開（公告）日: 2014-09-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 柴立
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L21/306
• 分類號: H01L21/306;H01L21/687
• 代理公司: 北京聿宏知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11372
• 代理人: 吳大建;劉華聯(lián)

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及液晶顯示器制造領(lǐng)域，尤其涉及一種濕刻蝕設(shè)備及相應(yīng)的方法。

背景技術(shù)

隨著信息社會的發(fā)展，對顯示設(shè)備的要求越來越高，因而也推動了液晶面板行業(yè)的快速發(fā)展。面板尺寸越做越大，使用者對視角、能耗、顯示品質(zhì)等方面的要求也越來越高，對薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)生產(chǎn)工藝及相關(guān)的設(shè)備也提出了更高的要求。

由于受到濕刻蝕設(shè)備和制程的限制，目前的薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)的陣列基板因均一性不佳導(dǎo)致了較為嚴(yán)重的顏色(深淺)不均(mura)問題。可以通過調(diào)整制程參數(shù)或改變刻蝕模式來改善均一性問題。典型的濕刻蝕模式例如噴淋模式(spray)、浸漬模式(dip)等。

噴淋模式(spray)指通過噴嘴將刻蝕液噴淋到玻璃基板上來進行刻蝕的方式；而浸漬模式(dip)指將玻璃基板浸沒到裝有刻蝕液的儲液槽中來進行刻蝕的方式。

兩種模式各有利弊，但由于受到設(shè)備本身設(shè)計的限制，總地來講，每種模式都會造成色不均現(xiàn)象。且一旦將玻璃基板置入相應(yīng)的刻蝕設(shè)備中，就只能采用相應(yīng)的模式進行刻蝕，無法靈活和有針對性地選擇或結(jié)合不同的濕刻蝕模式，致使色不均問題始終無法得到有效的改善，典型地例如目前存在的陣列基板的四角色不均(mura)現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容

如上所述，由于受到設(shè)備本身設(shè)計的限制，在現(xiàn)有技術(shù)中，通過噴淋模式或浸漬模式來進行濕刻蝕，都會導(dǎo)致一定程度的色不均問題。因而在本發(fā)明中，提出了一種改進的濕刻蝕設(shè)備及相應(yīng)的方法，使得能夠靈活且有針對性地選擇或結(jié)合不同的濕刻蝕模式，顯著緩解了色不均問題，進而提升了產(chǎn)品的顯示效果。

本發(fā)明提出了一種濕刻蝕設(shè)備，其包括：能夠噴淋刻蝕液的噴淋裝置；能夠存儲刻蝕液的儲液槽；以及用于夾持待刻蝕的玻璃基板的夾持機構(gòu)，所述夾持機構(gòu)與所述儲液槽的側(cè)壁內(nèi)壁相鄰地設(shè)置，并使得所述玻璃基板的具有光學(xué)膜層的一側(cè)能夠承接來自所述噴淋裝置的刻蝕液，

其中，所述夾持機構(gòu)能夠沿所述儲液槽的深度方向運動，并相應(yīng)地帶動所述玻璃基板沿所述儲液槽的深度方向運動。

以此方式，在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備中，可以對玻璃基板同時進行兩種濕刻蝕的模式。夾持機構(gòu)的位置越靠上，噴淋模式的作用越顯著，浸漬模式的作用越微弱，直至完全實施噴淋模式；同理，夾持機構(gòu)的位置越靠下，浸漬模式的作用越顯著，噴淋模式的作用越微弱，直至沒入刻蝕液一定深度后完全實施浸漬模式。

優(yōu)選地，所述夾持機構(gòu)包括：位于所述玻璃基板的背離所述儲液槽的底部的一側(cè)的夾具；以及位于所述玻璃基板的朝向所述儲液槽的底部的一側(cè)的托持件。

優(yōu)選地，所述夾持機構(gòu)還包括夾具轉(zhuǎn)軸，所述夾具轉(zhuǎn)軸的軸向方向垂直于所述儲液槽的深度方向，且平行于與其相鄰的所述儲液槽的側(cè)壁的延伸方向，所述夾具能夠圍繞所述夾具轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動。

優(yōu)選地，所述夾具和所述托持件均構(gòu)造為從與所述儲液槽的側(cè)壁相鄰的位置處延伸出來的具有平坦表面的板體，且在垂直于所述夾具轉(zhuǎn)軸的軸向方向的方向上，所述托持件的尺寸大于相應(yīng)的所述夾具的尺寸。如此設(shè)計，夾具所造成的負載壓力較小，而托持件亦可將所承受的負載壓力分散到較大的面積中。

優(yōu)選地，所述夾具能夠在平行且貼合于所述玻璃基板的位置和垂直于所述玻璃基板的位置之間轉(zhuǎn)動，所述托持件垂直于所述儲液槽的側(cè)壁。以此方式，當(dāng)夾具位于平行且貼合于所述玻璃基板的位置時，可以固定住玻璃基板，防止其發(fā)生不期望的晃動或抖動；當(dāng)夾具位于垂直于所述玻璃基板的位置時，不會阻擋放入和取出玻璃基板。

優(yōu)選地，所述夾持機構(gòu)構(gòu)造為通過軌道、鏈條、頂桿、電磁部件或位于所述儲液槽的側(cè)壁內(nèi)壁上的卡槽中的一種或多種方式來運動。

優(yōu)選地，沿俯視視角觀測，所述儲液槽為矩形，在所述矩形的長邊和短邊上均等間隔地布置有所述夾持機構(gòu)。如此設(shè)置，更有利于維持玻璃基板的靜態(tài)平衡。

優(yōu)選地，在所述儲液槽下部設(shè)置有運輸輥，所述儲液槽通過所述運輸輥進行移動。儲液槽可通過運輸輥來進行移動，使得所處理的玻璃基板能夠在整個設(shè)備的腔室內(nèi)部移動。

本發(fā)明還提出了一種濕刻蝕方法，其特征在于，包括：

a)設(shè)置根據(jù)本發(fā)明所述的濕刻蝕設(shè)備；

b)向所述儲液槽中添加設(shè)定量的刻蝕液；

c)通過所述夾持機構(gòu)將待刻蝕的玻璃基板夾持住；

d)當(dāng)需要采用浸漬模式來進行刻蝕時，所述夾持機構(gòu)沿深度方向朝向所述儲液槽的底部運動，使得所述玻璃基板浸沒于所述儲液槽中的刻蝕液中；