[發明專利]一種納米壓印鎳印章的制備方法

在審

• 申請號: 201410274112.6
• 申請日: 2014-06-18
• 公開（公告）號: CN104073857A
• 公開（公告）日: 2014-10-01
• 發明（設計）人: 胡星;范忠輝;凌志遠;王凱
• 申請（專利權）人: 華南理工大學
• 主分類號: C25D11/04
• 分類號: C25D11/04;C25D1/10;G03F1/80;B82Y40/00
• 代理公司: 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245
• 代理人: 陳文姬

1.一種納米壓印鎳印章的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：?

(1)對鋁材進行去油，表面清洗及拋光處理；?

(2)在電解液中以鋁材為陽極，惰性材料為陰極，通過電壓源對鋁材進行恒壓陽極氧化，電壓為100～200V，溫度為0～10℃，在鋁材上形成陽極氧化鋁膜；?

(3)通過化學腐蝕完全去除陽極氧化鋁膜，獲得具有有序凹坑的鋁材；?

(4)在電解液中以步驟(3)處理后鋁材為陽極，惰性材料為陰極，通過電壓源對鋁材進行恒壓陽極氧化，電壓為100～200V，溫度為0～10℃，在鋁材上形成陽極氧化鋁膜；?

(5)將步驟(4)得到的陽極氧化鋁膜在質量百分比為1～30％磷酸中0～40℃下擴孔5～40分鐘；?

(6)通過化學鍍鎳使步驟(5)中獲得的陽極氧化鋁膜導電化，得到導電陽極氧化鋁；?

(7)在步驟(6)中獲得的導電陽極氧化鋁上電鑄鎳；?

(8)通過直接剝離法或化學腐蝕法去除陽極氧化鋁和鋁，獲得具有錐形陣列的鎳印章。?

2.根據權利要求1所述的納米壓印鎳印章的制備方法，其特征在于，在進行步驟(5)之后，重復進行步驟(4)～(5)1～4次，然后進行步驟(6)。?

3.根據權利要求1所述的納米壓印鎳印章的制備方法，其特征在于，所述電解液為質量百分比為1％～10％的磷酸電解液。?

4.根據權利要求1所述的納米壓印鎳印章的制備方法，其特征在于，步驟(3)所述化學腐蝕，具體為：?

在溫度為70℃進行化學腐蝕，所用腐蝕液為由50mL/L的磷酸和30g/L的三氧化鉻組成的混合液。?

5.根據權利要求1所述的納米壓印鎳印章的制備方法，其特征在于，步驟(6)所述化學鍍鎳，具體包括：?

(6-1)活化：將陽極氧化鋁膜在35～50℃的活化液中放置1～10分鐘；?

(6-2)解膠：將活化后的陽極氧化鋁膜清洗，然后在40～55℃的解膠液中浸泡2～10分鐘；?

(6-3)化學鍍：將解膠后的陽極氧化鋁膜清洗，然后在80～90℃的化學鍍?液中浸泡2～10分鐘。?

6.根據權利要求1所述的納米壓印鎳印章的制備方法，其特征在于，步驟(7)所述電鑄鎳，具體為：?

將導電陽極氧化鋁膜作為陽極，鎳塊作為陰極，電鑄電壓在0～-1V保持10～30分鐘，然后在10～120秒內，降到-2.2～-2.8V保持1～3小時；?

其中，電鑄液配方為：295～522g/L氨基磺酸鎳，5～30g/L氯化鎳，30～45g/L硼酸。?

7.根據權利要求5所述的納米壓印鎳印章的制備方法，其特征在于，所述活化液的配方為：1g/L氯化鈀,72g/L氯化亞錫，7g/L亞錫酸鈉，300mL/L鹽酸。?

8.根據權利要求5所述的納米壓印鎳印章的制備方法，其特征在于，所述解膠液的配方為：10％鹽酸；化學鍍液配方為18～21g/L硫酸鎳，20～25g/L次磷酸鈉，12～18g/L乙酸鈉，4～10g/L檸檬酸，4～10g/L丁二酸。?

9.根據權利要求1所述的納米壓印鎳印章的制備方法，其特征在于，步驟(2)得到的陽極氧化鋁膜厚度為10～60微米。?

10.根據權利要求1所述的納米壓印鎳印章的制備方法，其特征在于，步驟(4)得到的陽極氧化鋁膜厚度為300納米～5微米。?