[發明專利]陣列基板及其制備方法、顯示裝置有效
| 申請號: | 201410273263.X | 申請日: | 2014-06-18 |
| 公開(公告)號: | CN104090401B | 公開(公告)日: | 2017-12-29 |
| 發明(設計)人: | 于海峰;黃海琴;劉家榮 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司11112 | 代理人: | 柴亮,張天舒 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 及其 制備 方法 顯示裝置 | ||
1.一種陣列基板,包括像素電極,設于像素電極上方的公共電極,以及與公共電極電性連接的公共電極線,其中,所述像素電極與所述公共電極之間相互絕緣設置,其特征在于,所述陣列基板還包括第一電阻線層,以及設置在第一電阻線層上方且與第一電阻線層相互絕緣設置的第二電阻線層,
所述第一電阻線層設置在所述公共電極線上并與所述公共電極線接觸;
所述第二電阻線層通過貫穿所述第一電阻線層和所述第一電阻線層與所述第二電阻線層之間的絕緣層的過孔與所述公共電極線連接;
所述公共電極線和第一電阻線層、第二電阻線層分別等效成電阻R1、R2、R3,所述電阻R1、R2、R3并聯以降低公共電極線的電阻;
所述陣列基板還包括薄膜晶體管,所述薄膜晶體管的源極和漏極與數據線同層設置,且所述數據線與所述源極連接,所述數據線與所述公共電極線同層且平行設置。
2.根據權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述第一電阻線層與所述像素電極同層間隔設置且材料相同。
3.根據權利要求1或2所述的陣列基板,其特征在于,所述第二電阻線層與所述公共電極同層設置且材料相同,其中,第二電阻線層與所述公共電極連接。
4.根據權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述薄膜晶體管的源極和漏極的材料與所述數據線、所述公共電極線的材料相同。
5.一種陣列基板的制備方法,其特征在于,所述陣列基板為權利要求1至4中任意一項所述的陣列基板,所述陣列基板的制備方法包括:
在基底上通過構圖工藝形成包括公共電極線的圖形;
在完成上述步驟的基底上,通過構圖工藝形成包括與所述公共電極線接觸的第一電阻線層的圖形;
在完成上述步驟的基底上形成絕緣層;
在完成上述步驟的基底上,通過構圖工藝形成貫穿絕緣層和第一電阻線層的過孔;
在完成上述步驟的基底上,通過構圖工藝形成包括第二電阻線層的圖形,其中第二電阻線層通過過孔與公共電極線連接;
所述公共電極線和第一電阻線層、第二電阻線層分別等效成電阻R1、R2、R3,所述電阻R1、R2、R3并聯以降低公共電極線的電阻。
6.根據權利要求5所述的陣列基板的制備方法,其特征在于,在所述形成與公共電極線接觸的第一電阻線層的圖形的同時還形成包括像素電極的圖形,其中像素電極與第一電阻線層間隔設置。
7.根據權利要求5或6所述的陣列基板的制備方法,其特征在于,在所述形成第二電阻線層的圖形的同時還形成包括公共電極的圖形,其中公共電極與第二電阻線層連接。
8.根據權利要求5所述的陣列基板的制備方法,其特征在于,所述在基底上通過構圖工藝形成包括公共電極線的圖形的同時還形成有源極、漏極、數據線,其中,所述數據線與所述源極連接,且所述數據線與所述公共電極線平行設置。
9.一種顯示裝置,其特征在于,所述顯示裝置包括權利要求1至4中任意一項所述的陣列基板。
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