[發明專利]一種刻蝕液儲液裝置及濕法刻蝕設備

在審

• 申請號: 201410273131.7
• 申請日: 2014-06-18
• 公開（公告）號: CN104087938A
• 公開（公告）日: 2014-10-08
• 發明（設計）人: 李梁梁;郭總杰;丁向前;劉耀;白金超
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: C23F1/08
• 分類號: C23F1/08
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種刻蝕液儲液裝置及濕法刻蝕設備。

背景技術

目前，濕法刻蝕設備主要用于對金屬以及銦錫氧化物(Indium?Tin?Oxide，簡稱ITO)或銦鎵鋅氧化物(Indium?Gallium?Zinc?Oxide，簡稱IGZO)等金屬氧化物進行刻蝕。

實際生產中，隨著刻蝕工藝的進行，刻蝕液中的金屬離子的濃度越來越高，這樣會對刻蝕反應造成不良的影響，引起刻蝕速率的改變。如果金屬離子的濃度過高，濕法刻蝕的產品性能無法滿足要求，便需要對所述刻蝕液進行及時的更換。

在此基礎上，如果刻蝕液的更換頻率過高，則會引起成生產本的提高；所述刻蝕液在更換之后還需重新加熱，需要耗費一定的能量，這樣也會導致生產成本的提高。此外，所述刻蝕液在更換前后的成份變化相對較大，由此可能導致刻蝕速率、刻蝕產品的關鍵尺寸及坡度角等參數發生改變，從而影響刻蝕工藝的穩定性。

發明內容

本發明的實施例提供一種刻蝕液儲液裝置及濕法刻蝕設備，可降低刻蝕液中雜質離子的濃度，避免刻蝕液的頻繁更換，從而保證刻蝕工藝的穩定性，同時還能延長刻蝕液的使用壽命，從而降低成本。

為達到上述目的，本發明的實施例采用如下技術方案：

一方面，提供一種刻蝕液儲液裝置，所述刻蝕液儲液裝置包括刻蝕液存儲罐、用于將刻蝕液中的離子進行選擇性透過的離子交換膜、以及位于所述離子交換膜兩側的陽極和陰極；其中，所述離子交換膜與所述陽極之間構成第一腔室，所述離子交換膜與所述陰極之間構成第二腔室。

可選的，所述離子交換膜為陽離子交換膜；其中，在所述陽極和所述陰極之間的電場作用下，所述刻蝕液中的金屬離子從所述第一腔室通過所述陽離子交換膜進入到所述第二腔室。

進一步可選的，在所述金屬離子為活潑金屬的情況下，所述陽極和所述陰極均采用惰性電極；在所述金屬離子為非活潑金屬的情況下，所述陽極采用惰性電極，所述陰極采用與所述金屬離子同等材質的電極。

進一步的，所述惰性電極包括碳電極。

可選的，所述陽離子交換膜、所述陽極和所述陰極均設置在所述刻蝕液存儲罐的內部；所述刻蝕液存儲罐上還設置有進液口和排液口；其中，所述進液口設置在所述第二腔室的頂部，所述排液口設置在所述第二腔室的底部。

進一步可選的，所述第一腔室的容積大于所述第二腔室的容積。

可選的，所述刻蝕液儲液裝置還包括位于所述刻蝕液存儲罐外部的電滲析裝置；所述陽離子交換膜、所述陽極和所述陰極均設置在所述電滲析裝置的內部；其中，所述第一腔室的頂部和底部分別與所述刻蝕液存儲罐的頂部和底部連通。

進一步可選的，所述刻蝕液儲液裝置還包括位于所述電滲析裝置外部的廢液罐；其中，所述第二腔室的底部與所述廢液罐連通。

可選的，所述陽極和所述陰極采用棒狀電極；或者，所述陽極和所述陰極采用面狀電極。

可選的，所述陽極與直流電源的正極相連，所述陰極與直流電源的負極相連；其中，所述直流電源的功率可調。

優選的，所述刻蝕液儲液裝置還包括與所述刻蝕液存儲罐相連的濃度管理器，用于對所述刻蝕液的各個組分濃度進行實時監控。

另一方面，提供一種濕法刻蝕設備，所述濕法刻蝕設備包括上述的刻蝕液儲液裝置。

本發明的實施例提供一種刻蝕液儲液裝置及濕法刻蝕設備，所述刻蝕液儲液裝置包括刻蝕液存儲罐、用于將刻蝕液中的離子進行選擇性透過的離子交換膜、以及位于所述離子交換膜兩側的陽極和陰極；其中，所述離子交換膜與所述陽極之間構成第一腔室，所述離子交換膜與所述陰極之間構成第二腔室。