[發明專利]一種刻蝕液儲液裝置及濕法刻蝕設備

在審

• 申請號: 201410273131.7
• 申請日: 2014-06-18
• 公開（公告）號: CN104087938A
• 公開（公告）日: 2014-10-08
• 發明（設計）人: 李梁梁;郭總杰;丁向前;劉耀;白金超
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: C23F1/08
• 分類號: C23F1/08
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種刻蝕液儲液裝置，其特征在于，所述刻蝕液儲液裝置包括刻蝕液存儲罐、用于將刻蝕液中的離子進行選擇性透過的離子交換膜、以及位于所述離子交換膜兩側的陽極和陰極；

其中，所述離子交換膜與所述陽極之間構成第一腔室，所述離子交換膜與所述陰極之間構成第二腔室。

2.根據權利要求1所述的刻蝕液儲液裝置，其特征在于，所述離子交換膜為陽離子交換膜；

其中，在所述陽極和所述陰極之間的電場作用下，所述刻蝕液中的金屬離子從所述第一腔室通過所述陽離子交換膜進入到所述第二腔室。

3.根據權利要求2所述的刻蝕液儲液裝置，其特征在于，

在所述金屬離子為活潑金屬的情況下，所述陽極和所述陰極均采用惰性電極；

在所述金屬離子為非活潑金屬的情況下，所述陽極采用惰性電極，所述陰極采用與所述金屬離子同等材質的電極。

4.根據權利要求3所述的刻蝕液儲液裝置，其特征在于，所述惰性電極包括碳電極。

5.根據權利要求2所述的刻蝕液儲液裝置，其特征在于，所述陽離子交換膜、所述陽極和所述陰極均設置在所述刻蝕液存儲罐的內部；

所述刻蝕液存儲罐上還設置有進液口和排液口；

其中，所述進液口設置在所述第二腔室的頂部，所述排液口設置在所述第二腔室的底部。

6.根據權利要求5所述的刻蝕液儲液裝置，其特征在于，所述第一腔室的容積大于所述第二腔室的容積。

7.根據權利要求2所述的刻蝕液儲液裝置，其特征在于，所述刻蝕液儲液裝置還包括位于所述刻蝕液存儲罐外部的電滲析裝置；

所述陽離子交換膜、所述陽極和所述陰極均設置在所述電滲析裝置的內部；

其中，所述第一腔室的頂部和底部分別與所述刻蝕液存儲罐的頂部和底部連通。

8.根據權利要求7所述的刻蝕液儲液裝置，其特征在于，所述刻蝕液儲液裝置還包括位于所述電滲析裝置外部的廢液罐；

其中，所述第二腔室的底部與所述廢液罐連通。

9.根據權利要求1至8任一項所述的刻蝕液儲液裝置，其特征在于，所述陽極和所述陰極采用棒狀電極；

或者，所述陽極和所述陰極采用面狀電極。

10.根據權利要求1所述的刻蝕液儲液裝置，其特征在于，所述陽極與直流電源的正極相連，所述陰極與直流電源的負極相連；

其中，所述直流電源的功率可調。

11.根據權利要求1所述的刻蝕液儲液裝置，其特征在于，所述刻蝕液儲液裝置還包括與所述刻蝕液存儲罐相連的濃度管理器，用于對所述刻蝕液的各個組分濃度進行實時監控。

12.一種濕法刻蝕設備，其特征在于，所述濕法刻蝕設備包括權利要求1至11任一項所述的刻蝕液儲液裝置。