[發明專利]一種表面活性劑廢水處理系統及工藝

有效

• 申請號: 201410269136.2
• 申請日: 2014-06-17
• 公開（公告）號: CN104086041A
• 公開（公告）日: 2014-10-08
• 發明（設計）人: 李家祥;余澤強;王亞丹
• 申請（專利權）人: 南京綠島環境工程有限公司
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14
• 代理公司: 江蘇圣典律師事務所 32237
• 代理人: 朱慶華

1.一種表面活性劑廢水處理系統，其特征在于，包括污泥池、濃縮池、壓濾機房及依次相互連通的曝氣調節池、預處理混凝沉淀池、中和曝氣池、水解池、一級好氧CBR池、中間沉淀池、高級氧化沉淀池和二級氧化接觸池；

所述曝氣調節池的入水口連接有濃水池、混合水池和雨污池；

所述水解池、一級好氧CBR池、二級氧化接觸池、預處理混凝沉淀池和高級氧化沉淀池的排泥口均與所述污泥池的入口連通，且所述污泥池的出口、濃縮池和壓濾機房依次相連；

所述中間沉淀池的排泥口通過污泥回流管道與所述一級好氧CBR池連通。

2.根據權利要求1所述的表面活性劑廢水處理系統，其特征在于，所述二級氧化接觸池的出口連接有巴歇爾槽。

3.根據權利要求1所述的表面活性劑廢水處理系統，其特征在于，所述水解池和二級氧化接觸池內均設有軟性填料。

4.根據權利要求1所述的表面活性劑廢水處理系統，其特征在于，所述濃縮池與壓濾機房之間設有儲泥池。

5.根據權利要求1所述的表面活性劑廢水處理系統，其特征在于，所述曝氣調節池和中和曝氣池內均設有曝氣裝置。

6.根據權利要求1所述的表面活性劑廢水處理系統，其特征在于，所述中和曝氣池內設有營養鹽補充裝置。

7.根據權利要求1所述的表面活性劑廢水處理系統，其特征在于，所述一級好氧CBR池內設有消泡裝置和懸浮載體填料。

8.一種采用權利要求1-7中任意一項所述的表面活性劑廢水處理系統的表面活性劑廢水處理工藝，其特征在于，包括如下步驟：

步驟一：將車間各種廢水分開收集，所述濃水池用以收集高鹽分的磺化沖洗水，所述雨污池用以收集含LAS的初期雨水，所述混合水池用以收集生產廢水及靜電除污沖洗水；

步驟二：按照比例將由步驟一收集到的磺化沖洗水、初期雨水、生產廢水及靜電除污沖洗水抽至所述曝氣調節池進行曝氣、混合獲得混合廢水，并氧化亞硫酸鹽，且將所述混合廢水的鹽分控制為30000±1000mg/L；

步驟三：將由步驟二獲得的混合廢水通過所述預處理混凝沉淀池以去除COD、LAS；

步驟四：將由步驟三處理過的混合廢水排入所述中和曝氣池內以進一步氧化亞硫酸鹽并調節廢水的pH值；

步驟五：將由步驟四處理過的混合廢水排入所述水解池內以進行水解反應；

步驟六：將由步驟五處理過的混合廢水通過所述一級好氧CBR池進行好氧去除反應；

步驟七：將由步驟六處理過的混合廢水排入所述中間沉淀池內進行沉淀反應，與此同時，所述中間沉淀池內的泥水混合物通過所述污泥回流管道回流至所述一級好氧CBR池內；

步驟八：將由步驟七處理過的混合廢水排入所述高級氧化沉淀池內進行Fenton氧化；

步驟九：將由步驟八處理過的混合廢水排入所述二級氧化接觸池內進行好氧反應，并將獲得的達標廢水排出；

所述水解池、一級好氧CBR池、二級氧化接觸池、預處理混凝沉淀池和高級氧化沉淀池中產生的污泥排入所述污泥池內進行自然沉降，將自然沉降后的污泥提升至所述濃縮池內進行濃縮，并將濃縮后的污泥抽入所述壓濾機房進行壓濾，與此同時，將壓濾獲得的壓濾液回流至所述曝氣調節池內。

9.根據權利要求8所述的表面活性劑廢水處理工藝，其特征在于，所述二級好氧接觸池采用間歇曝氣方式，曝氣2-6h后靜置1-4h。

10.根據權利要求8所述的表面活性劑廢水處理工藝，其特征在于，所述步驟三中，向所述預處理混凝沉淀池內投加聚合鋁鐵和PAM分別作為絮凝劑和助凝劑；所述步驟八中，向所述高級氧化沉淀池內投加PAC作為絮凝劑。