[發明專利]承載臺、真空蒸鍍設備及其使用方法

有效

• 申請號: 201410267442.2
• 申請日: 2014-06-16
• 公開（公告）號: CN104046945A
• 公開（公告）日: 2014-09-17
• 發明（設計）人: 吳海東;馬群;金泰逵
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/50
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 李迪

技術領域

本發明涉及半導體器件制造領域，尤其涉及一種承載臺、真空蒸鍍設備及其使用方法。

背景技術

目前，諸如OLED顯示器件等半導體器件的制備大多是采用真空蒸鍍工藝來成膜，如圖1所示，在蒸鍍過程中，將基板3放置在具有諸如橡膠墊的間隔墊2的承載臺1上，并通過真空泵4抽取基板3與承載臺1之間的空氣，使得基板3與承載臺1之間形成的密閉空間與真空蒸鍍腔6產生壓強差，從而將基板3固定在承載臺1上，然后將基板3置于蒸發源5的上方以實施蒸鍍工藝。

現有技術中承載臺1上的間隔墊2的圖案如圖2A所示，間隔墊2呈環狀設置在承載臺1上，將基板3與承載臺1之間隔開一定距離，從而在基板3與承載臺1之間形成的密閉空間。當真空泵4開始抽取空氣時，基板3不同位置經受的壓強都相同，然而，由于基板3自身的重力，維持基板3不同位置都保持水平所需要的壓強不同。因此，這種基板放置方法，僅能起到固定基板的作用，卻不能避免基板發生彎曲，如圖2B所示，從而會影響蒸鍍薄膜厚度的均勻性。這一現象在大尺寸OLED顯示器件的制備中尤為明顯。

因此需要消除由于基板自身的重力導致的基板彎曲，以使得蒸鍍薄膜的厚度更加均勻，器件性能更好。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是蒸鍍過程中由于基板自身的重力導致的基板彎曲的問題。

為此目的，本發明提出了一種承載臺，包括：所述承載臺上的多個間隔墊，所述多個間隔墊將所述承載臺劃分為多個區域，且當待處理基板放置在所述承載臺上時，所述多個區域形成為多個密閉空間；以及與所述承載臺連通的多個真空泵，所述多個真空泵中的每一個對應一個密閉空間，用于對所述密閉空間抽真空以使得所述基板的不同位置所受的大氣壓力與重力的合力一致。

本發明還提出了一種真空蒸鍍設備，包括蒸發源和所述蒸發源上方的上述承載臺。

本發明進一步提出了一種上述承載臺的使用方法，包括：將待處理基板放置在所述承載臺上；控制與所述承載臺連通的多個真空泵來對所述承載臺、所述基板和所述間隔墊形成的多個密閉空間抽真空，其中每一個真空泵對應一個密閉空間，以使得所述基板的不同位置所受的大氣壓力與重力的合力一致。

通過采用本發明所公開的技術方案，使得蒸鍍過程中基板的平整度更高，蒸鍍薄膜厚度更加均勻，所制造出的半導體器件的性能更加優異。

附圖說明

通過參考附圖會更加清楚的理解本發明的特征和優點，附圖是示意性的而不應理解為對本發明進行任何限制，在附圖中：

圖1示出了現有技術中真空蒸鍍設備的示意圖；

圖2A示出了現有技術中的間隔墊的平面圖；

圖2B示出了沿圖2A中的A-A線的截面圖；

圖3A示出了根據本發明實施例的間隔墊的平面圖；

圖3B示出了沿圖3A中的A-A線的截面圖；

圖4至7分別示出了根據本發明其他實施例的間隔墊的平面圖；

圖8示出了根據本發明實施例的真空蒸鍍設備的示意圖。

具體實施方式

下面將結合附圖對本發明的實施例進行詳細描述。

如圖3A和圖3B所示，根據本發明實施例的承載臺11包括承載臺11上的多個間隔墊12和與承載臺11連通的多個真空泵14，多個間隔墊12將承載臺11劃分為多個區域，且當待處理基板13放置在承載臺11上時，該多個區域形成為多個密閉空間，多個真空泵14中的每一個對應一個密閉空間，用于對該密閉空間抽真空以使得基板13的不同位置所受的大氣壓力與重力的合力一致。間隔墊12例如可以采用諸如橡膠、樹脂材料等柔性材料構成。在本實施例中，間隔墊12的形狀為矩形環且厚度相同，承載臺11上具有多個同心設置的間隔墊12，間隔墊的數量并不限于圖3A中所示的5個，可以根據實際基板的尺寸來調整間隔墊的數量。并且間隔墊的形狀也并不限于此，也可以是如圖4所示的多個同心圓環，也可以是如圖5所示的多個帶圓角的同心矩形環，或者是其他同心幾何形狀的環，還可以是如圖6和7多個并排設置的矩形環，或者是其他幾何形狀的環。在本實施例中，間隔墊12的厚度范圍優選為1～20mm，間隔墊12的寬度范圍的優選為10～50mm，本領域技術人員應當理解，可以根據實際情況對間隔墊的厚度與寬度進行適當的調整。