[發明專利]承載臺、真空蒸鍍設備及其使用方法

有效

• 申請號: 201410267442.2
• 申請日: 2014-06-16
• 公開（公告）號: CN104046945A
• 公開（公告）日: 2014-09-17
• 發明（設計）人: 吳海東;馬群;金泰逵
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/50
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 李迪

1.一種承載臺，其特征在于，所述承載臺包括：

所述承載臺上的多個間隔墊，所述多個間隔墊將所述承載臺劃分為多個區域，且當待處理基板放置在所述承載臺上時，所述多個區域形成為多個密閉空間；以及

與所述承載臺連通的多個真空泵，所述多個真空泵中的每一個對應一個密閉空間，用于對所述密閉空間抽真空以使得所述基板的不同位置所受的大氣壓力與重力的合力一致。

2.根據權利要求1所述的承載臺，其特征在于，所述間隔墊的圖案為同心環形或并排設置的環形。

3.根據權利要求1所述的承載臺，其特征在于，所述間隔墊的厚度相同。

4.根據權利要求2所述的承載臺，其特征在于，所述間隔墊的厚度為1～20mm，寬度為10～50mm。

5.一種真空蒸鍍設備，其特征在于，所述真空蒸鍍設備包括蒸發源和所述蒸發源上方的根據權利要求1至4中任一項所述的承載臺。

6.一種根據權利要求1至4中任一項所述的承載臺的使用方法，其特征在于，所述使用方法包括：

將待處理基板放置在所述承載臺上；

控制與所述承載臺連通的多個真空泵來對所述承載臺、所述基板和所述間隔墊形成的多個密閉空間抽真空，其中每一個真空泵對應一個密閉空間，以使得所述基板的不同位置所受的大氣壓力與重力的合力一致。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述多個密閉空間內的壓強均小于外界壓強。

8.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述多個密閉空間內的壓強從中心向外逐漸增大。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，當所述多個密閉空間內的壓強從中心向外從1×10^-6Pa逐漸增大至5.5×10^-6Pa。