[發(fā)明專利]成膜裝置以及成膜方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410265714.5
• 申請(qǐng)日: 2014-05-30
• 公開（公告）號(hào): CN104209239A
• 公開（公告）日: 2014-12-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 佐藤?gòu)?qiáng);貴志壽之
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社東芝
• 主分類號(hào): B05C11/10
• 分類號(hào): B05C11/10;B05C11/08
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 夏斌

關(guān)聯(lián)文獻(xiàn)的引用：本申請(qǐng)以2013年5月31日申請(qǐng)的在先日本專利申請(qǐng)2013-115277號(hào)的優(yōu)先權(quán)利益為基礎(chǔ)且要求該優(yōu)先權(quán)利益，并通過引用將上述專利申請(qǐng)的內(nèi)容全部包含于本申請(qǐng)。

技術(shù)領(lǐng)域

后述的實(shí)施方式總體上涉及成膜裝置以及成膜方法。

背景技術(shù)

以往，存在如下的技術(shù)：在使噴嘴從基板的中心側(cè)朝向外周端側(cè)移動(dòng)的同時(shí)，從該噴嘴向旋轉(zhuǎn)的基板的表面供給處理液，在基板的表面上螺旋狀地涂布處理液，然后，使基板以比涂布處理液時(shí)的轉(zhuǎn)速快的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，而由所涂布的處理液形成膜。

如果采用這種技術(shù)，則能夠?qū)崿F(xiàn)膜厚的均勻化。

然而，在處理液的涂布結(jié)束后，當(dāng)使基板以比涂布處理液時(shí)的轉(zhuǎn)速快的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)時(shí)，處于基板表面的處理液的一部分飛散，處理液的利用效率變差。

因此，希望開發(fā)出能夠?qū)崿F(xiàn)處理液的利用效率提高以及膜厚的均勻化的技術(shù)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供能夠?qū)崿F(xiàn)處理液的利用效率提高以及膜厚的均勻化的成膜裝置以及成膜方法。

實(shí)施方式的成膜裝置為，從移動(dòng)的噴嘴向旋轉(zhuǎn)的基板的表面供給處理液，在上述基板的表面上螺旋狀地涂布上述處理液，通過上述基板的旋轉(zhuǎn)而由所涂布的上述處理液形成膜。

該成膜裝置具備：保持上述基板的保持部；使上述保持部旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)部；向上述保持部所保持的上述基板的表面供給上述處理液的處理液供給部；以及至少控制上述驅(qū)動(dòng)部的控制部。

而且，上述控制部使上述保持部以比涂布上述處理液時(shí)的第一轉(zhuǎn)速慢的第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，由所涂布的上述處理液形成膜。

本發(fā)明能夠提供能夠?qū)崿F(xiàn)處理液的利用效率提高以及膜厚的均勻化的成膜裝置以及成膜方法。

附圖說明

圖1是用于例示本實(shí)施方式的成膜裝置1的模式截面圖。

圖2是用于例示本實(shí)施方式的成膜裝置1的模式平面圖。

圖3是用于例示處理液110的供給和基板100的表面上的處理液110的涂布方式的模式圖。

圖4是用于例示比較例的膜120的形成的模式圖。

圖5是用于例示比較例的膜120的形成的模式圖。

圖6是用于例示成膜裝置1的作用以及成膜方法的流程圖。

具體實(shí)施方式

以下，參照附圖來例示實(shí)施方式。另外，在各附圖中，對(duì)于相同的構(gòu)成要素賦予相同的符號(hào)，并適當(dāng)省略詳細(xì)說明。

圖1是用于例示本實(shí)施方式的成膜裝置1的模式截面圖。

圖2是用于例示本實(shí)施方式的成膜裝置1的模式平面圖。

此外，圖2是圖1的A-A線向視圖。

圖3是用于例示處理液110的供給和基板100的表面上的處理液110的涂布方式的模式圖。

如圖1和圖2所示，在成膜裝置1中設(shè)置有保持部2、驅(qū)動(dòng)部3、罩4、處理液供給部5、第一流動(dòng)性控制部6、第二流動(dòng)性控制部7以及控制部8。

保持部2用于載放基板100并且保持所載放的基板100。

保持部2設(shè)置在罩4的內(nèi)部。保持部2具有載放部2a和軸部2b。

載放部2a呈圓板狀，一個(gè)面成為載放基板100的載放面2a1。另外，載放部2a對(duì)載放面2a1上所載放的基板100進(jìn)行保持。例如，能夠通過使用了未圖示的真空泵等的吸附來進(jìn)行基板100的保持。

軸部2b的一個(gè)端部設(shè)置在載放部2a的與載放面2a1相反側(cè)的面上。另外，軸部2b的另一個(gè)端部與驅(qū)動(dòng)部3連接。

驅(qū)動(dòng)部3使保持部2旋轉(zhuǎn)。

驅(qū)動(dòng)部3設(shè)置在罩4的內(nèi)部。驅(qū)動(dòng)部3例如能夠具備能夠使轉(zhuǎn)速變化的伺服馬達(dá)等控制馬達(dá)。

罩4被設(shè)置為至少包圍保持部2的周圍。

罩4抑制被涂布到基板100的表面上的處理液110向成膜裝置1的外部飛散。

罩4在中央部具有設(shè)置保持部2的空間4a。在空間4a的外側(cè)，設(shè)置有朝向罩4的底部?jī)A斜的空間4b。空間4a以及空間4b的上方開口。另外，罩4的上面4e處于比載放部2a所載放的基板100的表面(上面)高的位置。

另外，在罩4的底部設(shè)置有排出口4c。在排出口4c連接有未圖示的回收部。從基板100排出的處理液110經(jīng)由空間4b被導(dǎo)向到罩4的底部，并經(jīng)由排出口4c由未圖示的回收部回收。

處理液供給部5向由保持部2保持并旋轉(zhuǎn)的基板100的表面供給處理液110。

在該情況下，如圖3所示，在使噴嘴5a從基板100的中心側(cè)朝向外周端側(cè)移動(dòng)的同時(shí)，從噴嘴5a向旋轉(zhuǎn)的基板100的表面供給處理液110。