[發明專利]成膜裝置以及成膜方法

在審

• 申請號: 201410265714.5
• 申請日: 2014-05-30
• 公開（公告）號: CN104209239A
• 公開（公告）日: 2014-12-17
• 發明（設計）人: 佐藤強;貴志壽之
• 申請（專利權）人: 株式會社東芝
• 主分類號: B05C11/10
• 分類號: B05C11/10;B05C11/08
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 夏斌

1.一種成膜裝置，從移動的噴嘴向旋轉的基板的表面供給處理液，在上述基板的表面上螺旋狀地涂布上述處理液，通過上述基板的旋轉由所涂布的上述處理液形成膜，其中，

具備：

保持部，保持上述基板；

驅動部，使上述保持部旋轉；

處理液供給部，向上述保持部所保持的上述基板的表面供給上述處理液；以及

控制部，至少控制上述驅動部，

上述控制部使上述保持部以比涂布上述處理液時的第一轉速慢的第二轉速旋轉，而由所涂布的上述處理液形成膜。

2.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中，

上述控制部在使上述保持部以上述第二轉速旋轉之后，使上述保持部以比上述第二轉速快的第三轉速旋轉。

3.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中，

上述控制部在使上述保持部以上述第二轉速旋轉之后，依次轉換到比上述第二轉速快的第三轉速以及比上述第三轉速慢的第四轉速而使上述保持部旋轉。

4.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中，

還具備第一流動性控制部，該第一流動性控制部進行控制，以使由所涂布的上述處理液形成的膜的處于上述基板的外周端附近的區域的流動性提高。

5.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中，

還具備罩，該罩被設置為至少包圍上述保持部的周圍。

6.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中，

還具備第二流動性控制部，該第二流動性控制部進行控制，以使由所涂布的上述處理液形成的膜的流動性變低。

7.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中，

上述處理液供給部具有吐出上述處理液的噴嘴、使上述噴嘴的位置變化的移動部以及向上述噴嘴供給上述處理液的供給部，

上述控制部控制上述驅動部、上述移動部以及上述供給部，在使上述噴嘴從上述基板的中心側朝向外周端側移動的同時，從上述噴嘴向旋轉的上述基板的表面供給上述處理液。

8.根據權利要求7所述的成膜裝置，其中，

通過從上述噴嘴向旋轉的上述基板的表面供給上述處理液，由此在上述基板的表面上螺旋狀地涂布上述處理液。

9.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中，

上述控制部使上述保持部以比涂布上述處理液時的上述第一轉速慢的上述第二轉速旋轉，由此使集中在上述基板的外周端附近的上述處理液的一部分向上述基板的中心側移動。

10.根據權利要求2所述的成膜裝置，其中，

上述控制部在使上述保持部以上述第二轉速旋轉之后，使上述保持部以比上述第二轉速快的上述第三轉速旋轉，由此使集中在上述基板的外周端附近的上述處理液的一部分向上述基板的中心側移動，然后使移動到上述基板的中心側的上述處理液的一部分向上述基板的外周端側移動。

11.根據權利要求3所述的成膜裝置，其中，

上述控制部在使上述保持部以上述第二轉速旋轉之后，依次轉換到比上述第二轉速快的上述第三轉速以及比上述第三轉速慢的上述第四轉速而使上述保持部旋轉，由此使上述處理液的一部分在上述基板的外周端側與上述基板的中心側之間反復移動。

12.根據權利要求7所述的成膜裝置，其中，

上述控制部根據上述噴嘴的位置的變化來使上述基板的轉速變化。

13.根據權利要求4所述的成膜裝置，其中，

上述第一流動性控制部向上述區域供給溶劑。

14.根據權利要求6所述的成膜裝置，其中，

上述第二流動性控制部具有使上述膜所含的溶劑蒸發的干燥單元。

15.根據權利要求14所述的成膜裝置，其中，

上述干燥單元是紅外線加熱器以及熱風加熱器中的至少某一種。

16.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中，

上述處理液是光致抗蝕劑液。

17.一種成膜方法，從移動的噴嘴向旋轉的基板的表面供給處理液，在上述基板的表面上螺旋狀地涂布上述處理液，通過上述基板的旋轉由所涂布的上述處理液形成膜，其中，

使上述基板以比涂布上述處理液時的第一轉速慢的第二轉速旋轉，而由所涂布的上述處理液形成膜。