[發明專利]用層疊結構來表示立體圖像以分析圖像中的目標的技術

有效

• 申請號: 201410264246.X
• 申請日: 2014-06-13
• 公開（公告）號: CN105163103B
• 公開（公告）日: 2017-10-27
• 發明（設計）人: 陳超;魯耀杰;師忠超;劉殿超
• 申請（專利權）人: 株式會社理光
• 主分類號: H04N13/00
• 分類號: H04N13/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所11105
• 代理人: 萬里晴

1.一種用層疊結構來表示立體圖像以分析圖像中的目標的方法，包括：

針對輸入的立體圖像，基于立體圖像中的第一類相關特征、準則或模型，來生成至少一個第一第一級結構圖，其中，不同的第一第一級結構圖是利用該第一類相關特征、準則或模型的不同嚴格程度來生成的，且所述不同的第一第一級結構圖在不同第一分割程度上包括目標；

針對輸入的立體圖像，基于與所述第一類相關特征、準則或模型不同的第二類相關特征、準則或模型，來生成至少一個第二第一級結構圖，其中，不同的第二第一級結構圖是利用該第二類相關特征、準則或模型的不同嚴格程度來生成的，且所述不同的第二第一級結構圖在不同第二分割程度上包括目標；

至少部分地結合所述至少一個第一第一級結構圖和所述至少一個第二第一級結構圖來分析立體圖像中的目標，以得到包括目標的第一級目標分析結果的結構圖。

2.根據權利要求1所述的方法，還包括：

針對所述第一級目標分析結果的結構圖，基于與所述第一類或第二類相關特征、準則或模型都不同的第三類相關特征、準則或模型，來生成至少一個第二級結構圖，其中，不同的第二級結構圖是利用該第三類相關特征、準則或模型的不同嚴格程度來生成的，且所述不同的第二級結構圖在不同第三擬合程度上包括目標；

至少部分地結合所述至少一個第二級結構圖來分析立體圖像中的目標，以得到包括目標的第二級目標分析結果的結構圖。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，

所述第一類或第二類相關特征、準則或模型包括用于聚類的空間相鄰性特征、灰度一致性特征、邊緣連續性特征、或輪廓特征，

所述第一類或第二類相關特征、準則或模型的不同嚴格程度包括在空間相鄰性特征的情況下的基于固定視差中心或基于可移動視差中心的不同空間視差閾值的聚類、在灰度一致性特征的情況下的基于不同灰度差閾值的聚類、在邊緣連續性特征的基于不同邊緣連續性閾值、或在輪廓特征的情況下的基于不同的輪廓包含關系的聚類；

所述第三類相關特征、準則或模型包括豎直線擬合模型、平面擬合模型或立方體擬合模型。

4.根據權利要求1所述的方法，

其中，至少部分地結合所述至少一個第一第一級結構圖和所述至少一個第二第一級結構圖來分析立體圖像中的目標，以得到包括目標的第一級目標分析結果的結構圖的步驟包括：

互相校正步驟，通過所述至少一個第二第一級結構圖來校正所述至少一個第一第一級結構圖，基于目標的特征，來確定在不同第一分割程度和不同第二分割程度中哪種分割程度上分割的目標更準確，從而得到包括在確定的分割程度上分割的目標的第一級目標分析結果的結構圖。

5.根據權利要求2所述的方法，其中，

至少部分地結合所述至少一個第二級結構圖來分析立體圖像中的目標，以得到包括目標的第二級目標分析結果的結構圖的步驟包括：

互相校正步驟，通過所述在不同第三擬合程度上包括目標的至少一個第二級結構圖互相校正，基于目標的特征，來確定在哪種第三擬合程度上分割的目標更準確，從而得到包括在確定的第三擬合程度上分割的目標的第二級目標分析結果的結構圖。

6.根據權利要求4所述的方法，其中，所述互相校正步驟包括：

在根據目標的特征確定在不同第一分割程度和不同第二分割程度中哪種分割程度上分割的目標更準確之后，將所述不同第一第一級結構圖或不同第二第一級結構圖中的分割的目標進行合并或分割以達到在該確定的分割程度上分割的目標。

7.根據權利要求5所述的方法，其中，所述互相校正步驟包括：

在根據目標的特征確定在不同第三擬合程度中哪種分割程度上分割的目標更準確之后，將所述不同第二級結構圖中的分割的目標進行合并或分割以達到在該確定的分割程度上分割的目標。

8.根據權利要求4所述的方法，其中，目標的特征包括目標的左右對稱的特性、目標的水平方向上灰度一致的特性、或目標的包含內部輪廓的特性。

9.一種用層疊結構來表示立體圖像以分析圖像中的目標的系統，包括：

第一第一級生成裝置，被配置為針對輸入的立體圖像，基于立體圖像中的第一類相關特征、準則或模型，來生成至少一個第一第一級結構圖，其中，不同的第一第一級結構圖是利用該第一類相關特征、準則或模型的不同嚴格程度來生成的，且所述不同的第一第一級結構圖在不同第一分割程度上包括目標；

第二第一級生成裝置，被配置為針對輸入的立體圖像，基于與所述第一類相關特征、準則或模型不同的第二類相關特征、準則或模型，來生成至少一個第二第一級結構圖，其中，不同的第二第一級結構圖是利用該第二類相關特征、準則或模型的不同嚴格程度來生成的，且所述不同的第二第一級結構圖在不同第二分割程度上包括目標；

第二第一級分析裝置，被配置為至少部分地結合所述至少一個第一第一級結構圖和所述至少一個第二第一級結構圖來分析立體圖像中的目標，以得到包括目標的第一級目標分析結果的結構圖。