[發(fā)明專利]掩模版的清洗方法及裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410263585.6
• 申請日: 2014-06-12
• 公開（公告）號: CN104007610B
• 公開（公告）日: 2018-03-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 匡友元
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: G03F1/82
• 分類號: G03F1/82;B08B3/10
• 代理公司: 深圳市德力知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所44265
• 代理人: 林才桂

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及有機電致發(fā)光顯示器件制作領(lǐng)域，尤其涉及一種掩模版的清洗方法和裝置。

背景技術(shù)

平面顯示器件具有機身薄、省電、無輻射等眾多優(yōu)點，得到了廣泛的應用。現(xiàn)有的平面顯示器件主要包括液晶顯示器件(Liquid Crystal Display，LCD)及有機電致發(fā)光顯示器件(Organic Light Emitting Display，OLED)。

有機電致發(fā)光器件由于同時具備自發(fā)光，不需背光源、對比度高、厚度薄、視角廣、反應速度快、可用于撓曲性面板、使用溫度范圍廣、構(gòu)造及制程較簡單等優(yōu)異之特性，被認為是下一代的平面顯示器新興應用技術(shù)。從使用的有機電致發(fā)光材料的分子量來看，有機電致發(fā)光器件分為小分子有機電致發(fā)光器件(OLED)和高分子電致發(fā)光器件(PLED)，由于分子量的不同，有機電致發(fā)光器件的制程也有很大的區(qū)別，OLED主要通過熱蒸鍍方式制備，PLED通過旋涂或者噴墨打印方式制備。

OLED通常包括：基板、置于基板上的ITO透明陽極、置于ITO透明陽極上的空穴注入層(HIL)、置于空穴注入層上的空穴傳輸層(HTL)、置于空穴傳輸層上的發(fā)光層(EML)、置于發(fā)光層上的電子傳輸層(ETL)、置于電子傳輸層上的電子注入層(EIL)以及置于電子注入層上的陰極。為了提高效率，發(fā)光層通常采用主/客體摻雜系統(tǒng)。

目前OLED制作的主要方式是加熱蒸發(fā)鍍膜,掩模版一般都是選用金屬制作的掩模版,經(jīng)過一段時間的蒸鍍之后需要對金屬掩模版進行清洗,以保證掩模版不會因材料附著而發(fā)生精度變化,傳統(tǒng)的掩模版清洗采用濕式藥液浸泡清洗，存在清洗時間長,藥液純度要求高,有材料殘留的等缺點。

圖1為現(xiàn)有的掩模版的清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，包括藥液濕式清洗槽500、藥液濕式洗滌槽600及干燥槽700。200為待清洗的OLED金屬掩模版。該方法首先將待清洗的OLED金屬掩模版200置于裝有藥液的藥液濕式清洗槽500中對OLED金屬掩模版表面的有機材料進行清洗，然后將清洗后的OLED金屬掩模版置于裝有洗滌劑的藥液濕式洗滌槽600中，對前一道工序中帶出的藥液進行漂洗，最后把漂洗后的OLED金屬掩模版置于干燥槽700中進行干燥處理。該方法具有清洗時間長，藥液純度要求高，有材料殘留等缺點。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種掩模版的清洗方法，克服了傳統(tǒng)藥液浸泡清洗時間長、效率低的問題，大大縮短了清洗周期，提高了清洗產(chǎn)能，并降低材料殘留的幾率。

本發(fā)明的另一目的在于提供一種掩模版的清洗裝置，結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，功能實用，有效提高了掩模版的清洗效率。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明供一種掩模版的清洗方法，包括以下步驟：

步驟1、提供待清洗掩模版，該掩模版由金屬制成，其上附有有機材料膜層；

步驟2、對該待清洗的掩模版進行微波加熱，使附著在掩模版的有機材料膜層破碎；

步驟3、停止微波加熱,對微波加熱過的掩模版噴淋藥液，將破碎的有機材料膜層沖洗脫離掩模版；

步驟4、使用藥液對掩模版上剩余的有機材料膜層進行清洗；

步驟5、對清洗過的掩模版進行漂洗，以洗掉殘留在掩模版上的藥液；

步驟6、使用微波對掩模版進行干燥處理。

所述掩模版用于OLED的蒸鍍制程。

所述步驟2與步驟3在一微波干式清洗槽里進行，所述微波干式清洗槽包括槽體、設(shè)于槽體底部的微波發(fā)生裝置、及設(shè)于槽體頂部的藥液噴淋頭，通過微波發(fā)生裝置對掩模版進行微波加熱，通過藥液噴淋頭對掩模版噴淋藥液。

在所述步驟2與3中，所述待清洗掩模版傾斜放置于微波干式清洗槽內(nèi)，所述有機材料膜層朝上，且所述藥液噴淋頭為低速藥液噴淋頭。

所述步驟4在一藥液濕式清洗槽中進行清洗，所述藥液濕式清洗槽裝有藥液，所述掩模版浸沒于藥液中。

所述步驟5在一藥液濕式洗滌槽中進行漂洗，所述藥液濕式洗滌槽裝有洗滌液，所述掩模版浸沒于洗滌液中。

所述步驟6在所述微波干式清洗槽里進行。

本發(fā)明還提供一種掩模版的清洗裝置，包括一微波干式清洗槽、一藥液濕式清洗槽及一藥液濕式洗滌槽，所述微波干式清洗槽包括槽體、設(shè)于槽體底部的微波發(fā)生裝置、及設(shè)于槽體頂部的低速藥液噴淋頭。

所述微波干式清洗槽、藥液濕式清洗槽及藥液濕式洗滌槽依次相鄰放置。

所述藥液濕式清洗槽中裝有藥液，所述藥液濕式洗滌槽中裝有洗滌液，所述掩模版由金屬制成，用于OLED的蒸鍍制程。